本發明涉及娛樂設備技術領域,具體的說是一種電磁吸附式快速配合道具。
背景技術:
演員在舞臺上表演時,很多道具需要人來控制,最常見的控制形式就是人員藏在道具內部,使道具活動,很多大的場景需要的道具多,采用陣列道具的表現形式體現舞臺震撼效果是常用的表現手法,在這種道具的使用過程中,舞臺效果與道具陣列整齊程度相關度高,對于處在客觀位置的觀眾來說,稍微的不整齊一致就會被發現,從而使整體的舞臺表現效果打折扣。
操控道具的演員藏在道具中,因此很難把握道具整體位置,所以經常導致某些演員占位不準,影響整體演出效果,現有技術中只能采用多排練,熟能生巧的方式增進演員之間的配合默契,提高占位感,然而這種方式效率低下,增加了演員表演難度,演出效果難以把控,因此需要在道具上設置輔助演員占位的裝置。
技術實現要素:
針對上述技術的缺陷,本發明提出一種電磁吸附式快速配合道具。
一種電磁吸附式快速配合道具,包括底板,所述底板下端面設有萬向輪,底板上端面左側、右側均安裝有側板,所述側板上部共同固定有頂板,所述側板之間設有固定在底板上的假門,所述假門的前端面上部固定有扶手架,所述扶手架下方設有固定在假門上的滑套,所述滑套內滑動配合有滑柱,所述滑柱的上端設有提手,所述提手與扶手架之間設有彈簧,所述滑柱下端連接有電磁通斷控制架,所述電磁通斷控制架包括兩根分別位于電磁通斷控制架左、右兩側的連接體,所述連接體內均嵌有導線,所述導線的上端與下端均伸出連接體,所述的兩個連接體之間設有一個固定在假門上的導體,所述導體上纏繞有線圈,所述導體下方設有固定在假門上的電源,所述電源的左右兩側分別伸出一根導線,且伸出的導線連接在對應側連接體內的導線的下端;纏繞在導體上的線圈的兩個端部分別位于導體的左右兩端面上,當電磁通斷控制架下移到最下端時,線圈的兩個端部剛好分別與對應側連接體內的導線的上端部接觸。
所述假門的左側設有凹槽,所述凹槽的底部與左側的連接體之間設有左導柱,右側的連接體與假門的右側端面之間設有右導柱,所述右導柱的右端尺寸與凹槽的尺寸相同。
所述左導柱與右導柱均為導磁材料。
本發明的有益效果是:
本發明在使用時通過提拉位于扶手架下側的提手,控制電磁通斷控制架的豎直位置,從而利用電磁通斷控制架上的兩個連接體分別控制對應側的線圈的供電線路通斷,實現靈活利用電磁效應產生磁吸力,以便利用磁吸力對相鄰的道具快速吸附,輔助演員將道具排列整齊,產生較好的舞臺表現效果。
附圖說明
下面結合附圖和實施例對本發明進一步說明。
圖1是本發明的左前側立體圖;
圖2是圖1中A的放大圖。
具體實施方式
為了使本發明實現的技術手段、創作特征、達成目的與功效易于明白了解,下面對本發明進一步闡述。
如圖1至圖2所示,一種電磁吸附式快速配合道具,包括底板1,所述底板1下端面設有便于移動道具的萬向輪,底板1上端面左側、右側均安裝有側板2,所述側板2上部共同固定有頂板3,所述側板2之間設有固定在底板1上的假門4,所述假門4的前端面上部固定有扶手架5,所述扶手架5下方設有固定在假門4上的滑套6,所述滑套6內滑動配合有滑柱7,所述滑柱7的上端設有提手8,所述提手8與扶手架5之間設有用于使提手8復位的彈簧9,所述滑柱7下端連接有電磁通斷控制架10,所述電磁通斷控制架10包括兩根分別位于電磁通斷控制架10左、右兩側的連接體11,所述連接體11內均嵌有導線,所述導線的上端與下端均伸出連接體11,所述的兩個連接體11之間設有一個固定在假門4上的導體12,所述導體12上纏繞有線圈13,所述導體12下方設有固定在假門4上的電源14,所述電源14的左右兩側分別伸出一根導線,且伸出的導線連接在對應側連接體11內的導線18的下端;纏繞在導體12上的線圈13的兩個端部分別位于導體12的左右兩端面上,當電磁通斷控制架10下移到最下端時,線圈13的兩個端部剛好分別與對應側連接體11內的導線的上端部接觸。
所述假門4的左側設有凹槽15,所述凹槽15的底部與左側的連接體11之間設有左導柱16,右側的連接體11與假門4的右側端面之間設有右導柱17,所述右導柱17的右端尺寸與凹槽15的尺寸相同。
所述左導柱16與右導柱17均為導磁材料。
使用時,電源14通過導線為線圈13供電,使線圈13利用電磁感應在導體12的左右兩端分別產生磁場,磁場通過左導柱16、右導柱17將磁性向外傳遞,從而更加容易的與相鄰道具接觸并相互吸引。當向上提拉提手8時,連接體11內的導線與對應側的線圈13端部脫離,從而終止電源14向線圈13的供電過程,即解除了左導柱16與右導柱17對相鄰道具的吸附作用。
所述凹槽15的設置更有利于相鄰道具上的右導柱17快速與該道具上的左導柱16配合。
以上顯示和描述了本發明的基本原理、主要特征和本發明的優點。本行業的技術人員應該了解,本發明不受上述實施例的限制,上述實施例和說明書中描述的只是本發明的原理,在不脫離本發明精神和范圍的前提下,本發明還會有各種變化和改進,這些變化和改進都落入要求保護的本發明內。本發明要求保護范圍由所附的權利要求書及其等效物界定。