技術總結
本實用新型為涉及一種微納米臭氧氣泡的足浴盆，包括：殼體、足浴池、循環管路、微納米氣泡生產裝置；其中，足浴池設置所述殼體內，在所述足浴池上設有循環進水口、循環出水口和排水口；所述足浴池內設有按摩腳底穴位的按摩輪；循環管路分別與循環進水口和循環出水口相連接，在所述循環管路上設有調速水泵，以調節水流速度；微納米氣泡生產裝置設置在所述循環管路上，所述微納米氣泡生產裝置的進氣口與臭氧發生裝置相連通。有益效果是：臭氧溶解度高，通過臭氧能夠清除足浴盆內滋生的細菌、真菌，能緩解腳氣病的發生；通過按摩輪可以實現對穴位的刺激。

技術研發人員：沈蕾
受保護的技術使用者：上海奈菱機電科技有限公司
文檔號碼：201620990820
技術研發日：2016.08.30
技術公布日：2017.10.03