本技術涉及清潔，尤其涉及一種清潔基站，本技術還涉及一種清潔系統。

背景技術：

1、本部分提供的僅僅是與本公開相關的背景信息，其并不必然是現有技術。

2、當前，洗地機自清潔一遍后，滾刷上的臟污清潔效果不理想，底座上也會殘留一些垃圾。市面上大部分滾刷的清潔只是靠擠水刮條或者梳齒對旋轉滾刷的剮蹭，對重度臟污清潔效果一般。

技術實現思路

1、本實用新型的目的是至少解決現有的洗地機自清潔效果不佳的技術問題。該目的是通過以下技術方案實現的：

2、本實用新型的第一方面提出了一種清潔基站，用于清潔設備，所述清潔設備具有清潔刷，所述清潔刷具有用于清潔待清潔面的工作面，所述清潔基站包括：

3、基座組件，以能夠分離的方式連接于所述清潔設備；

4、清潔件，以能夠活動的方式設置在所述基座組件上，所述清潔件具有用于清潔所述工作面的清潔面；

5、至少一個彈性件，設置在所述基座組件上，在所述清潔設備放置于所述基座組件上的狀態下，所述彈性件用于提供驅使所述清潔件壓緊于所述清潔刷的彈性力，以使所述清潔面與所述工作面相接觸。

6、本實用新型通過設置彈性件對清潔件施加彈性力，使得清潔件能夠壓緊于放置在基座組件上的清潔設備的清潔刷的工作面上，進而在清潔刷自清潔旋轉時，清潔件對清潔刷產生彈性擠壓力，減少因制造、裝配產生的清潔件與清潔刷之間的間隙，進而使清潔件與清潔刷之間貼合更加緊密，從而提高清潔刷自清潔的效果，以提高用戶體驗。

7、另外，根據本實用新型的清潔基站，還可具有如下附加的技術特征：

8、在本實用新型的一些實施例中，所述清潔面配置為向背離所述清潔刷的方向凹陷的弧形面。

9、在本實用新型的一些實施例中，沿所述清潔基站的高度方向，所述清潔面用于設置在所述工作面的下方。

10、在本實用新型的一些實施例中，所述彈性件包括彈簧，所述清潔件包括清潔板，所述彈簧的軸向兩端分別與所述基座組件和所述清潔板連接，所述清潔面設置在所述清潔板背離所述彈簧的一側。

11、在本實用新型的一些實施例中，所述清潔件還包括配合結構，所述配合結構與所述清潔板背離所述清潔刷的一側連接，所述清潔基站還設有限位結構，所述配合結構以可滑動的方式與所述限位結構連接，所述限位結構用于限制所述配合結構沿所述清潔基站的高度方向運動。

12、在本實用新型的一些實施例中，所述配合結構包括相對設置的兩個配合板，所述配合板與所述清潔板背離所述清潔刷的一側連接，所述限位結構包括相對設置的兩個限位板，所述配合板與所述限位板相接觸，所述兩個限位板設置在兩個所述配合板之間，或者，所述兩個配合板設置在兩個所述限位板之間。

13、在本實用新型的一些實施例中，所述清潔面設有至少一個凸起結構。

14、在本實用新型的一些實施例中，所述基座組件的內部形成容納腔，所述容納腔具有與外界連通的開口，至少部分所述清潔件以可沿所述清潔基站的高度方向運動的方式設置在所述容納腔中，且所述清潔面與所述開口相對應。

15、在本實用新型的一些實施例中，所述基座組件包括底座和底蓋，所述底座與所述底蓋共同限定出所述容納腔，所述底座設有所述開口，所述彈性件設置在所述容納腔內，且與所述底蓋連接。

16、本實用新型的第二方面提出了一種清潔系統，包括：

17、清潔設備，所述清潔設備具有清潔刷；

18、本實用新型第一方面提出的清潔基站，所述清潔件在所述彈性件的彈性力的作用下壓緊于所述清潔刷，以使所述清潔面與所述工作面相接觸。

19、所述本實用新型第二方面提出的清潔系統具有和本實用新型第一方面提出的清潔基站相同的有益效果。

技術特征：

1.一種清潔基站，用于清潔設備，所述清潔設備具有清潔刷，所述清潔刷具有用于清潔待清潔面的工作面，其特征在于，所述清潔基站包括：

2.根據權利要求1所述的清潔基站，其特征在于，所述清潔面配置為向背離所述清潔刷的方向凹陷的弧形面。

3.根據權利要求2所述的清潔基站，其特征在于，沿所述清潔基站的高度方向，所述清潔面用于設置在所述工作面的下方。

4.根據權利要求3所述的清潔基站，其特征在于，所述彈性件包括彈簧，所述清潔件包括清潔板，所述彈簧的軸向兩端分別與所述基座組件和所述清潔板連接，所述清潔面設置在所述清潔板背離所述彈簧的一側。

5.根據權利要求4所述的清潔基站，其特征在于，所述清潔件還包括配合結構，所述配合結構與所述清潔板背離所述清潔刷的一側連接，所述清潔基站還設有限位結構，所述配合結構以可滑動的方式與所述限位結構連接，所述限位結構用于限制所述配合結構沿所述清潔基站的高度方向運動。

6.根據權利要求5所述的清潔基站，其特征在于，所述配合結構包括相對設置的兩個配合板，所述配合板與所述清潔板背離所述清潔刷的一側連接，所述限位結構包括相對設置的兩個限位板，所述配合板與所述限位板相接觸，所述兩個限位板設置在兩個所述配合板之間，或者，所述兩個配合板設置在兩個所述限位板之間。

7.根據權利要求2所述的清潔基站，其特征在于，所述清潔面設有至少一個凸起結構。

8.根據權利要求1至7任一項所述的清潔基站，其特征在于，所述基座組件的內部形成容納腔，所述容納腔具有與外界連通的開口，至少部分所述清潔件以可沿所述清潔基站的高度方向運動的方式設置在所述容納腔中，且所述清潔面與所述開口相對應。

9.根據權利要求8所述的清潔基站，其特征在于，所述基座組件包括底座和底蓋，所述底座與所述底蓋共同限定出所述容納腔，所述底座設有所述開口，所述彈性件設置在所述容納腔內，且與所述底蓋連接。

10.一種清潔系統，其特征在于，包括：

技術總結
本技術提出了一種清潔基站和清潔系統，清潔基站用于清潔設備，清潔設備具有滾刷，清潔基站包括基座組件、清潔件和彈性件，基座組件以能夠可分離地方式連接于清潔設備，清潔件能夠相對基座組件運動，彈性件與基座組件連接，彈性件用于提供驅使清潔件壓緊于滾刷的至少部分外周面的彈性力。本技術通過設置彈性件對清潔件施加彈性力，使得清潔件能夠壓緊于放置在基座組件上的清潔設備的滾刷的外周面上，進而在滾刷自清潔旋轉時，清潔件對滾刷產生彈性擠壓力，減少因制造、裝配產生的清潔件與滾刷之間的間隙，進而使清潔件與滾刷貼合更加緊密，從而提高滾刷自清潔的效果。

技術研發人員：張輝
受保護的技術使用者：江蘇美的清潔電器股份有限公司
技術研發日：20240401
技術公布日：2025/4/24