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容納以及隨后排放液體的裝置及方法與流程

文檔序號:11583928閱讀:269來源:國知局

本發明關于可施加襯墊的液體容器,以及尤其關于由具有適當襯墊的容器以排放液體的配置。容器提供具有合適的不透性材料,通常是塑料的簡單薄膜的襯墊,其施加于容器上以接觸液體。



背景技術:

今天專業美容院允許客戶得到多種服務,如面部護理,指甲處理,以及足部治療。為了方便這些服務,通常使用治療椅子以允許客戶坐下來以及放松,同時接受面部護理,修指甲,和足部治療。這樣的治療椅子通常包括在椅子腳部處的足療盆以使得足部治療以及足部按摩變的容易。足部治療盆一般包括進行清理的溫水,具有舒適性和配合按摩的效果。

可參考美國2011年5月31日頒發給本申請人的美國第7950979號專利以及2014年9月18日公告的本申請人的美國第2014/0259374號專利申請案,這些專利案的說明在此加入作為參考,其顯示出該類型盆子的范例。傳統足部治療盆在底部具有排水管以排放存在于足部治療盆中的水。然而,雖然水由足部治療盆排出,殘余材料會留下,包括可能來自客人腳部的細菌,病菌以及其他污染物。如果不徹底清洗和消毒,下一個使用足部治療盆的客人將曝露于先前客人的細菌以及病菌。這帶來了嚴重的衛生問題。

通過各種器具以及包括足部治療盆的設備可能在客人之間散布病菌的情況是為修指甲以及足部治療業界眾所周知的。因此,在業界通常的做法是施加襯墊在足部治療盆上,為下一個客人可以容易地加以更換。襯墊通常是塑料袋的型式(如垃圾袋)或較硬成型類似足療盆殼的塑料物。相較于其他方式每次使用后必需徹底清潔以及消毒足部治療盆,使用襯墊在足療盆周圍具有成本效益以及高效率的益處。利用襯墊施加在足部治療盆上,排放口被阻隔。這樣,充滿水的足部治療盆通常會要求將襯墊塑料刺破以將水排出到足部治療盆的排水孔。可替換地以及較不太常用地,水可以傾倒出來到落水孔而排出。從而,替換所使用的襯墊,以及足部治療盆注入新的水給下一個客人使用。

由襯墊阻隔排水孔帶來了另一個挑戰。排水孔不只能方便地將水完全從足部治療盆排出,還可以部分地將水從足部治療盆排出。此方便于客人希望調整足部治療盆中水的溫度。達成該目標的一種簡單的方法為通過排水孔排放部分水以及添加額外的溫水或冷水以調節足部治療盆內的水溫。如果水并 不排出,有可能添加所需要的溫水或冷水后會溢流出足部治療盆。當然,因為利用襯墊會阻隔排水孔,因此足部治療盆并不能容易地排空。



技術實現要素:

本發明的一個目標在于提供一種具有可更換襯墊的液體容器,以可以容易地排空容器以允許襯墊移除以及更換。

依據本發明提供一種容納以及隨后排放液體的裝置,其包括:

具有內表面以及敞開頂部的容器;

在所述容器中的底部排放開口,所述排放開口與排放管線連通;

具有薄的柔性材料形式的襯墊,所述襯墊施加于所述內表面上以容納液體于所述襯墊內并覆蓋所述排放開口;

所述排放開口由所述襯墊加以封閉,使得在所述容器內液體向下地施加壓力于所述排放開口處的所述襯墊上;

密封構件,所述密封構件安裝在所述排放開口下游的管線中;

所述密封構件可操作以移動到密封位置,阻止從所述排放開口經過管線的空氣,以在所述襯墊下方形成背向壓力來抵消在襯墊上來自液體的向下壓力,并以防止所述向下壓力使襯墊破裂;

所述密封構件可操作以移動到敞開位置,其中空氣流經管線加以排放以釋除背向壓力;

所述襯墊相對于排放開口配置,使得背向壓力的釋放導致在所述排放開口處的所述襯墊破裂以回應來自液體的向下壓力,因而允許液體通過所述排放開口到達管線。

優先地所述密封構件可藉由位于所述排放開口下游的促動器來操作。

優先地所述密封構件位于管線中與所述排放開口隔開的位置,使得所述密封構件并不接觸所述襯墊。

所述密封構件位于管線中與所述排放開口隔開的位置,使得所述排放開口只由所述襯墊加以封閉。

所述襯墊是連續的并封閉所述排放開口,以允許液體僅藉由在所述襯墊中破裂開口而通過排放開口。

在一種配置中,密封構件包括可滑動柱塞于管線內由封閉排放管線部分前方之管線的前方位置至后面位置之間,其中空氣隨著液體由排放開口流到排放管線部分。

在另一配置中,密封構件包括平閥延伸通過管線以及可移動于封閉管線之密封位置至釋放位置之間,其中空氣隨著液體由排放開口流經排放管線。

平閥可以由移動磁鐵來操作或直接地藉由移動手動操作桿操作。

優先地容器包括碗狀物,其由敞開頂部支撐,以及配置成允許病患身體肢體插入至碗狀物。不過該配置能夠提供其他用途,其中衛生效果是必需的以防止從一個病人傳送任何污染物到另一個病人。

因此,容器可以包括修指甲或足部治療碗狀物。

本發明揭示出新的以及改進的足部治療盆設計。這種設計可應用于溫泉治療椅,其具有整體足部治療盆或可移除足部治療盆。設計特別有用于足部治療盆,其中襯墊阻隔排水孔。

根據本發明另一定義,本發明提供容納以及后續排放液體之裝置,其包含:

具有內表面以及敞開頂部的容器;

在所述容器中的底部排放開口,所述排放開口與排放管線連通;

所述容器被配置成承受施加在內表面上的具有薄的柔性材料形式的襯墊以包含液體于所述襯墊內以及覆蓋所述排放開口;

所述排放開口被配置成由所述襯墊加以封閉,使得所述容器內的液體施加向下的壓力于所述排放開口處的所述襯墊上;

密封構件,所述密封構件安裝在所述排放開口下游的管線中;

所述密封構件可被操作以移動到密封位置,阻止由所述排放開口經過管線的氣流,以在所述襯墊下方形成背向壓力以抵消所述襯墊上來自液體的向下壓力,并以防止所述向下壓力使襯墊破裂;

所述密封構件可被操作以移動到敞開位置,其中空氣流經管線加以排放以釋除背向壓力;

所述襯墊相對于排放開口配置,使得背向壓力的釋放導致在所述排放開口處的所述襯墊破裂以回應來自液體的向下壓力,因而允許液體通過所述排放開口到達管線。

根據本發明另一定義,本發明提供容納液體以及后續將液體排放的方法,其包含:

提供具有內表面以及敞開頂部的容器以及在所述容器中與排放管線連通的底部排放開口;

施加可替換襯墊于內表面上以容納液體于所述襯墊內并覆蓋所述排放開口,所述襯墊為薄的柔性材料形式;

所述排放開口由所述襯墊加以封閉,使得所述容器內的液體施加向下壓力于所述排放開口處的所述襯墊上;

密封管線,防止由所述排放開口經過管線的氣流,以在所述襯墊下方形成背向壓力來抵消所述襯墊上來自液體的向下壓力,并以防止所述向下壓力使所述襯墊破裂;

釋放空氣,使其流經管線加以排放來釋除背向壓力,使得所述背向壓力的釋放促使在所述排放開口處的所述襯墊破裂以回應來自液體的向下壓力,因而允許液體通過所述排放開口到達管線。

容器可以使用作為足部治療盆,尤其上述設計包含主盆以及副盆,其容納從主盆溢流出流體(通常是水)。主盆與副盆相互連結處之部分邊緣具有較低邊緣,因此允許主盆的流體溢到副盆。在另一個足部治療盆設計實施例中,副盆完全圍繞著主盆以及允許從主盆任何部分邊緣溢出流體。

這種容器可以提供為盆狀物或碗狀物,通常用于化妝處理過程,例如修指甲以及足療,其中襯墊使用作為衛生用途,使得容器在下次使用時使用者能夠使用新的襯墊以確保盆子能夠受到保護避免受到污染。

不過本發明的簡單更替換的襯墊加以覆蓋的配置能夠提供容器作為其他用途,例如保護容器隔絕其內容物。

本發明中的修指甲碗狀物具有底部排放開口與排放管線連通以及配置成承受襯墊以確保衛生操作,襯墊為薄的柔性材料形式施加于內表面上以包含液體于襯墊內以及覆蓋排放開口。排放開口由襯墊加以封閉,使得容器內液體施加向下壓力在排放開口處襯墊上以及密封構件安裝在排放開口下游管線中以防止空氣流動以形成襯墊下方的背向壓力以防止向下壓力使襯墊破裂。密封構件可操作來釋除背向壓力以導致在排放開口處襯墊破裂。

附圖說明

本發明的更完整的評價以及許多優點可結合附圖以及說明書立即獲知,附圖包含:

圖1顯示出依據本發明足部治療碗狀物第一實施例的斷面圖,其顯示含有液體的碗狀物為密封位置。

圖2顯示出圖1中碗狀物的斷面圖,其中碗狀物為排放位置以釋放液體以施加新的襯墊。

圖3顯示出依據本發明足部治療碗狀物第二實施例的斷面圖,其顯示含有液體的碗狀物為密封位置。

圖4顯示出依據本發明足部治療碗狀物第三實施例的斷面圖,其顯示含有液體的碗狀物為密封位置。

具體實施方式

在圖1以及2中所顯示的配置包括容納液體14以及隨后排放液體的容器10以。如上所述,容器通常是修指甲或足部治療碗狀物,但是支撐碗狀物以及提供碗狀物及液體給在座椅中病人的配置并未顯示出,此為業界本領域技 術人員所熟知。

裝置包括容器10,容器10具有內表面10a以及敞開頂部13,其由圍繞著敞開頂部13的上部唇狀物12界定出。

容器10提供底部排放開口17,與排放管線19連通。由于該管線構造為業界本領域技術人員所熟知,連接至容器之排放管線只示意性地顯示出。

施加于內表面10a上的薄的柔性材料形式的襯墊15,以包含液體于襯墊內,以及提供部分16以覆蓋排放開口17。襯墊并未成形以及配置成與碗狀物匹配,但是可以是簡單并無定形薄襯墊的片狀物或條狀物,可拉引與碗狀物相匹配。塑膠材料(例如,銷售商標名稱為clingfilm)能承受適當的液體壓力以及具有薄膜些微黏附效果以保持在碗狀物內表面上適當位置。并不需要特定黏接劑,因為襯墊應該是可立即地移除以及一次性使用的。

排放開口17由襯墊通過部分16處在開口17上加以封閉,使得容器內液體14向下施加壓力于排放開口處襯墊上。人們了解高于部分16的相當深水壓力會導致部分16在受壓力下破裂以及撕裂。

為了證實破裂,密封構件安裝于排放開口17下游管線中,其中密封構件可由手動操作的柱塞22來操作以移動至如圖1所示密封位置,其中由管線內側表面上密封表面24防止空氣由排放開口流經管線以在襯墊部分16下面形成背向壓力以在襯墊上抵消來自液體的向下壓力,從而防止向下壓力在部分16處使襯墊破裂。

密封構件可由使用手動手柄23的柱塞22來操作以移動到圖2中所示的敞開位置,其中密封構件21被抽移到管線排放部分20的后面。在敞開位置中空氣流經管線19到達排放部分20以排出而釋放背向壓力。這使得在排放開口處襯墊破裂以回應來自液體的向下壓力,因而允許液體流經排放開口17至管線19。

密封構件21可由促動器23來操作,該促動器位于排放開口17下游或底下。

密封構件位于管線19中與排放開口17分隔位置處,以使密封構件不會以任何方式在部分16處接觸襯墊,或提供襯墊任何支撐,或封閉排放開口17。

密封構件21位于管線19中與排放開口17分隔位置處,使得排放開口只由襯墊加以封閉。

襯墊是連續的以封閉排放開口,以允許液體僅將襯墊中開口破裂以通過到達排放開口。即襯墊中在部分16處并無襯墊開口部分或任何其他開口。此允許襯墊只由片狀物形成,其并不需要對碗狀物形狀作任何特別設計。

如圖1及2所示密封構件21包括柱塞22,可滑動于管線內圖1所示前 方位置與圖2所示后面位置之間,前方位置封閉管線于排放管線部分20之前,在圖2管線19中部分16與密封24之間的空氣隨著液體釋出,液體由排放開口流到排放管線部分20,其由于在部分16處液體壓力導致破裂。

如圖3及4所示密封構件包括平閥21a,平閥21a延伸過管線19以及位于可移動于封閉管線的密封位置至釋放位置之間,在釋放位置情況中平閥并不銜接或密封管線19,其中空氣由移動平閥釋出,隨著液體由排放開口流經排放管線。

在圖4中,平閥21b由移動磁鐵23c進行操作,磁鐵接至柱塞22b的端部由拉引磁鐵離開平閥讓平閥轉動離開管線的管壁。

人們應當理解可以提供許多操作密封構件移動的配置,以及所顯示情況只是范例。

本發明已經以列舉性的方式進行說明。人們理解在此所使用的術語旨在作為描述性而不是作為限制性質。雖然已經在此描述,其視為本發明優先以及范例性的實施例,業界本領域技術人員在此揭示內容基礎上可以做出顯而易見的針對本發明的其它修改,因此所有這些修改期望在申請專利范圍中受到保護以及在本發明的精神以及范圍之內。

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