雙面透明導電性膜及觸控面板的制作方法
【專利摘要】本發明的課題在于提供雙面透明導電性膜及其卷繞體、以及觸控面板，所述雙面透明導電性膜即使將透明導電層圖案化也具有良好的外觀，且具有抗粘連性，由此能以低成本制造。本發明的解決手段是一種雙面透明導電性膜，其中，在基材膜的兩面依次形成有光學調整層及透明導電層，在所述基材膜與一側的所述光學調整層之間及所述基材膜與另一側的所述光學調整層之間的至少一方形成有含有粒子的抗粘連層，所述抗粘連層具有平坦部和起因于所述粒子的隆起部，從所述粒子的最頻粒徑減去所述抗粘連層的平坦部的厚度而得的值比所述光學調整層的厚度大。
【專利說明】雙面透明導電性膜及觸控面板

【技術領域】
[0001] 本發明涉及雙面透明導電性膜及觸控面板。

【背景技術】
[0002] 近年來，由于投影型靜電容量式觸控面板、矩陣型電阻膜式觸控面板能多點輸入 (多點觸控），因此操作性優異，其需求急速上升。作為這樣的觸控面板的電極構件，提出了 在透明膜基材的兩面形成有透明導電性薄膜的雙面透明導電性膜。
[0003] 在如上的觸控面板中，使用具有圖案化了的透明導電層的雙面透明導電性膜。雖 然從可見光透射率的觀點考慮廣泛使用銦-錫復合氧化物（ΙΤ0)作為透明導電層的材料， 但由于其折射率高，因此在將含有ΙΤ0的透明導電層圖案化時，在透明導電層形成圖案的 部分（圖案形成部）和除去了透明導電層的部分（圖案開口部）產生圖案的可視性的差異， 有時從外部觀察圖案時外觀惡化、或產生色調。為了不使這樣的圖案引人注意，提出了下述 技術：在雙面設置有透明導電層的雙面透明導電性膜中，在膜基材與透明導電層之間設置 光學調整層（專利文獻1)。
[0004] 現有技術文獻
[0005] 專利文獻
[0006] 專利文獻1 :國際公開第2011/065032號


【發明內容】

[0007] 發明要解決的課題
[0008] 在上述技術中，雖然在光學調整層的形成中采用了濺射等干式法，但從利用卷對 卷法（口一> ?卜》- ?口一>方式）的連續生產成為可能且可以實現成本降低的觀點考 慮，優選濕式涂敷法。但是，卷對卷法的話重合的膜彼此密合而變得不易剝離（所謂的粘 連），根據情況膜發生斷裂或產生傷痕而存在生產率降低的可能性。
[0009] 與此相對，為了抑制粘連，可以采用形成在表面形成有凹凸的抗粘連層的對策。但 是，若以濕式涂敷法形成光學調整層，則由于涂布液而抗粘連層的隆起消失，不能發揮抗粘 連性，有時發生粘連。
[0010] 鑒于上述觀點，本發明的目的在于提供雙面透明導電性膜及其卷繞體、以及觸控 面板，所述雙面透明導電性膜即使將透明導電層圖案化，外觀也良好，且具有抗粘連性，由 此能以低成本制造。
[0011] 解決課題的手段
[0012] 本發明人為了解決所述課題而潛心研究，結果發現，通過將抗粘連層的粒子的粒 徑和光學調整層的厚度設置為特定的關系而能夠達成上述目的，從而完成了本發明。
[0013] 即，本發明提供一種雙面透明導電性膜，其中，在基材膜的兩面依次形成有光學調 整層及透明導電層，在所述基材膜與一側的所述光學調整層之間及所述基材膜與另一側的 所述光學調整層之間中的至少一方形成有含有粒子的抗粘連層，所述抗粘連層具有平坦部 和起因于所述粒子的隆起部，從所述粒子的最頻粒徑減去所述抗粘連層的平坦部的厚度而 得的值比所述光學調整層的厚度大。
[0014] 在該雙面透明導電性膜中，以能夠以與在基材膜的兩面形成的透明導電層的關系 分別進行光學設計的方式在基材膜與各透明導電層之間設置了光學調整層，因此即使在將 透明導電層圖案化的情況下也難以使圖案引人注意，能夠抑制色調的產生而達成良好的外 觀。另外，由于將從抗粘連層中所含的粒子的最頻粒徑減去所述抗粘連層的平坦部的厚度 后的值設置為比所述光學調整層的厚度大，因此即使在通過濕式涂布形成光學調整層的情 況下抗粘連層的隆起部也不會消失，換言之，變得在光學調整層中也存在起因于下層的抗 粘連層的隆起部的隆起，其結果是，能發揮優異的抗粘連性。進一步，由于即使在通過濕式 涂布形成光學調整層的情況下該雙面透明導電性膜也能維持抗粘連性，因此包括光學調整 層的形成在內能夠實現卷對卷法的連續生產，從而低成本的制造成為可能。
[0015] 所述光學調整層的厚度優選50nm?300nm。由此，即使在將透明導電層圖案化的 情況下也可以使圖案不易引人注意，可以使外觀良好。
[0016] 所述光學調整層優選為通過濕式涂布形成的層。由此，光學調整層的利用卷對卷 法的形成成為可能，可以有助于削減制造成本。
[0017] 從所述抗粘連層的隆起部的高度減去所述抗粘連層的平坦部的厚度而得的值優 選比所述光學調整層的厚度大。通過采用這樣的構成，可以防止通過濕式涂布形成光學調 整層時的抗粘連層的隆起部的消失，能發揮出利用卷對卷法的生產時所要求的抗粘連性。
[0018] 雙面透明導電性膜的霧度優選5%以下。由此，可以發揮出高透明性、確保良好的 可視性。
[0019] 優選所述透明導電層已被圖案化，對于該雙面透明導電性膜，該透明導電層優選 具有形成圖案的圖案形成部和除去了該透明導電層的圖案開口部。通過將透明導電層具體 地圖案化，可以特別適宜地應用于靜電容量式觸控面板。
[0020] 將該雙面透明導電性膜的透明導電層圖案化，對其以俯視方式透視時，兩面的圖 案形成部重疊的雙面圖案區域的反射率、與一個面為圖案形成部且另一個面為圖案開口部 的單面圖案區域的反射率之差的絕對值優選為1%以下。由此，基于圖案的有無引起的可視 性之差的圖案觀察被抑制，可以獲得外觀更好的雙面透明導電性膜。
[0021] 所述雙面圖案區域的反射色調bM尤選滿足-10 < b# < 0。由此，可以有效抑制雙 面透明導電性膜中的色調（特別是黃色調）的產生。
[0022] 所述基材膜優選含有環烯烴系樹脂。由此，可以使該雙面透明導電性膜的透明性 進一步提1?、實現良好的外觀。
[0023] 在本發明中，該雙面導電性膜的長尺寸體也包括卷繞為卷筒狀的雙面透明導電性 膜卷繞體。
[0024] 在本發明中，也包括具備該雙面透明導電性膜的觸控面板。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0025] 圖1是本發明的一個實施方式所涉及的雙面透明導電性膜的剖面示意圖。
[0026] 圖2是本發明的其他實施方式所涉及的雙面透明導電性膜的剖面示意圖。
[0027] 圖3是示意性地示出透明導電層的圖案的一例的部分透視俯視圖。
[0028] 符號說明
[0029] 1基材膜
[0030] 2a、2b抗粘連層
[0031] 3a、3b光學調整層
[0032] 4a、4b透明導電層
[0033] 5 粒子
[0034] 10雙面透明導電性膜
[0035] 21平坦部
[0036] 22隆起部
[0037] 31平坦部
[0038] 32隆起部
[0039] 0圖案開口部
[0040] P圖案形成部
[0041] TA抗粘連層的厚度
[0042] TQ光學調整層的厚度
[0043] X雙面圖案區域
[0044] Y1、Y2單面圖案區域

【具體實施方式】
[0045] 對于本發明的一個實施方式，參照【專利附圖】

【附圖說明】如下。需要說明的是，附圖中顯示的形 態并非實際尺寸比，為了便于說明，有局部放大或縮小來顯示的部位。另外，表示本說明書 中的上下左右、正反等位置關系的用語只是用于便于說明的用語，都沒有限定實際的具體 構成的位置關系的意圖。
[0046] 〈雙面透明導電性膜〉
[0047] 圖1是示意性地表示本發明的雙面透明導電性膜的一個實施方式的剖面圖。雙面 透明導電性膜10中，在基材膜1的兩面依次形成有含有粒子5的抗粘連層2a、2b(以下， 也將兩者統稱為"抗粘連層2"。）、光學調整層3a、3b (以下，也將兩者統稱為"光學調整層 3"。）及透明導電層4a、4b(以下，也將兩者統稱為"透明導電層4"。）。圖1中雖然在基材 膜1的兩面形成有抗粘連層2a、2b，但也可以僅在基材膜1的上面側或下面側中任一側形成 抗粘連層。需要說明的是，關于抗粘連層2、光學調整層3及透明導電層4的構成，由于也可 以在另一個面側采用與基材膜1的一個面側的構成同樣的構成，因此以下主要對圖1的基 材膜1的上面側的構成進行說明。
[0048] 抗粘連層2a在表面具有平坦部21及隆起部22。隆起部22由粒子5形成。此處， 雙面透明導電性膜10中，從粒子5的最頻粒徑d減去抗粘連層2a的平坦部21的厚度T A而 得的值比光學調整層3a的厚度L大。通過濕式涂布形成光學調整層3a時，抗粘連層2a的 平坦部21被光學調整層3a掩埋，隆起部22的高度相對降低，有時抗粘連性消失。雙面透 明導電性膜10中，由于粒子5的最頻粒徑d、平坦部21的厚度T A及光學調整層3a的厚度 L以滿足特定的關系的方式形成，因此通過濕式涂布形成光學調整層3a時也可以防止抗粘 連層2a的隆起部22消失。其結果是，在光學調整層3a的表面也可以使起因于隆起部22 的隆起產生，可以發揮良好的抗粘連性。需要說明的是，圖1中，雖然圖示出具有最頻粒徑 d的粒子5,但只要不損害本發明的作用效果，抗粘連層2a就可以含有具有最頻粒徑d以外 的粒徑的粒子5。
[0049] 雙面透明導電性膜10中，通常，將抗粘連層2a的厚度設為微米級，與此相對，將光 學調整層3a及透明導電層4a的各厚度設得較薄，為納米級，因此作為最外表面層的透明導 電層4a追隨光學調整層3a的隆起而變得具有隆起。圖1中的基材膜1的下面側也同樣。
[0050] 雖然雙面透明導電性膜的霧度只要能確保所要求的透明性就沒有特別限定，但優 選5%以下，更優選4%以下，進一步優選3%以下。需要說明的是，雖然霧度的下限優選 〇%，但由于最外表面層的隆起部等的存在，一般多為0.3%以上。
[0051] 〈基材膜〉
[0052] 作為基材膜1，雖然沒有特別限制，但可以使用具有透明性的各種塑料膜。例如，作 為其材料，可舉出聚醋系樹脂、乙fe醋系樹脂、聚釀諷系樹脂、聚碳fe醋系樹脂、聚醜胺系樹 月旨、聚酰亞胺系樹脂、聚烯烴系樹脂、聚降冰片烯系樹脂等聚環烯烴系樹脂、（甲基）丙烯酸 系樹脂、聚氯乙烯系樹脂、聚偏二氯乙烯系樹脂、聚苯乙烯系樹脂、聚乙烯醇系樹脂、聚芳酯 系樹脂、聚苯硫醚系樹脂等。它們之中優選環烯烴系樹脂、聚酯系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、聚 烯烴系樹脂，特別優選環烯烴系樹脂。
[0053] 基材膜1的厚度優選為2?200 μ m的范圍內，更優選為20?180 μ m的范圍內。 若基材膜1的厚度低于2 μ m，則基材膜1的機械強度不足，有時難以實現將膜基材制成卷筒 狀而連續形成光學調整層3及透明導電層4的操作。另一方面，若厚度超過200 μ m，則有時 不能實現透明導電層4的耐擦傷性、作為觸控面板用的手指操作特性（打點特性）的提高。
[0054] 可以對基材膜1在表面預先實施濺射、等離子體處理、電暈放電、火焰、紫外線照 射、電子束照射、化成、氧化等蝕刻處理、底涂處理，使其與在膜基材上形成的抗粘連層、光 學調整層等的密合性提高。另外，在形成抗粘連層、光學調整層前，可以根據需要通過溶劑 清洗、超聲波清洗等對膜基材表面進行除塵、清潔化。
[0055] 〈抗粘連層〉
[0056] 抗粘連層2如上所述，在表面具有平坦部21和隆起部22。隆起部22由抗粘連層 2中所含的粒子5形成。隆起部22的高度優選比光學調整層3的厚度I大，具體而言，以 平坦部21為基準，優選100nm以上且3 μ m以下，更優選200nm以上且2 μ m以下，進一步優 選300nm以上且1. 5μπι以下。通過將隆起部22的高度設定為上述范圍，可以對最外表面 層（圖1中透明導電層4)賦予規定的隆起部，其結果是，可以在滿足雙面透明導電性膜10 的抗粘連性的同時，充分降低波動（7々），且充分抑制霧度的上升。
[0057] 抗粘連層2的平坦部21的厚度雖然沒有特別限定，但優選200nm以上且30μ m以 下，更優選500nm以上且10 μ m以下，進一步優選800nm以上且5 μ m以下。若抗粘連層的 平坦部的厚度過小，則不能抑制低聚物等低分子量成分從基材膜析出，雙面透明導電性膜、 使用了其的觸控面板的可視性有惡化的傾向。另一方面，若抗粘連層的平坦部的厚度過大， 則由于在透明導電層的結晶化時、觸控面板的組裝時的加熱，雙面透明導電性膜有以抗粘 連層形成面為內側地進行卷曲的傾向。因此，抗粘連層的平坦部的厚度大時，由于與抗粘連 性、易滑性不同的其他問題，膜的操作性有變差的傾向。需要說明的是，本說明書中，抗粘連 層的平坦部的厚度是指抗粘連層的平坦部的平均厚度。
[0058] 粒子的最頻粒徑可以考慮最外表面層的隆起部的尺寸、與抗粘連層2的平坦部21 的厚度的關系等適當設定，沒有特別限定。需要說明的是，從對雙面透明導電性膜充分賦予 抗粘連性，且充分抑制霧度的上升的觀點考慮，粒子的最頻粒徑優選500nm以上且30 μ m以 下，更優選800nm以上且20 μ m以下，進一步優選1 μ m以上且10 μ m以下。需要說明的是， 本說明書中，"最頻粒徑（最頻粒子徑）"是指表示粒子分布的極大值的粒徑，通過使用流動 式粒子圖像分析裝置（Sysmex公司制，產品名"FPTA-3000S"），在規定條件下（鞘液：乙酸 乙酯，測定模式：HPF測定，測定方式：總計數）測定來求出。測定試樣使用：用乙酸乙酯將 粒子稀釋至1. 0重量％，使用超聲波清洗機使其均勻分散而成的試樣。
[0059] 粒子可以是多分散粒子及單分散粒子的任一種，但若考慮隆起部的賦予的容易 性、防波動性，則優選單分散粒子。單分散粒子的情況下，可將粒子的粒徑和最頻粒徑視為 實質相同。
[0060] 相對于樹脂組合物的固體成分100重量份，抗粘連層中的粒子的含量優選0. 01? 5重量份，更優選0. 02?1重量份，進一步優選0. 05?0. 5重量份。若抗粘連層中的粒子 的含量小，則有變得難以為對抗粘連層的表面賦予抗粘連性而形成充分的隆起部的傾向。 另一方面，若粒子的含量過大，則由于粒子的光散射而有雙面透明導電性膜的霧度變高、可 視性降低的傾向。另外，若粒子的含量過大，則在抗粘連層的形成時（溶液的涂布時）產生 條紋，有時可視性受損、或導電性層的電特性變得不均勻。
[0061](樹脂組合物）
[0062] 作為形成抗粘連層2的樹脂組合物，只要能進行粒子的分散、作為抗粘連層形成 后的被膜具有充分的強度、有透明性，就可以沒有特別限制地使用。作為使用的樹脂，可舉 出熱固型樹脂、熱塑型樹脂、紫外線固化型樹脂、電子束固化型樹脂、二液混合型樹脂等，但 其中，優選可以通過利用紫外線照射的固化處理，以簡單的加工操作有效地形成光擴散層 的紫外線固化型樹脂。
[0063] 作為紫外線固化型樹脂，可舉出聚酯系、丙烯酸系、氨基甲酸酯系、酰胺系、硅酮 系、環氧系等各種樹脂，包括紫外線固化型的單體、低聚物、聚合物等。優選使用的紫外線固 化型樹脂可舉出例如具有紫外線聚合性的官能團的樹脂，尤其是包含具有2個以上該官能 團、特別是具有3?6個該官能團的丙烯酸系的單體、低聚物成分的樹脂。另外，在紫外線 固化型樹脂中配合有紫外線聚合引發劑。
[0064] 在樹脂層的形成材料中，除了所述材料以外，還可以使用流平劑、觸變劑、抗靜電 劑等添加劑。若使用觸變劑，則有利于在微細凹凸形狀表面形成突出粒子。作為觸變劑，可 舉出0. 1 μ m以下的二氧化硅、云母等。這些添加劑的含量通常相對于紫外線固化型樹脂 100重量份適合為15重量份以下左右、優選設為0. 01?15重量份。
[0065](粒子）
[0066] 作為抗粘連層2中含有的粒子，可以沒有特別限制地使用各種金屬氧化物、玻璃、 塑料等具有透明性的粒子。可舉出例如二氧化硅、氧化鋁、二氧化鈦、氧化鋯、氧化鈣等無 機系粒子；包含聚甲基丙烯酸甲酯、聚苯乙烯、聚氨酯、丙烯酸系樹脂、丙烯酸-苯乙烯共聚 物、苯并胍胺、三聚氰胺、聚碳酸酯等各種聚合物的交聯或未交聯的有機系粒子、硅酮系粒 子等。所述粒子可以適當地選擇1種或兩種以上來使用，但優選有機系粒子。作為有機系 粒子，從折射率的觀點考慮，優選丙烯酸系樹脂。
[0067] (涂布組合物）
[0068] 用于形成抗粘連層的涂布組合物包含上述的樹脂、粒子及溶劑。另外，涂布組合物 根據需要可以添加各種添加劑。作為這樣的添加劑，可舉出抗靜電劑、增塑劑、表面活性劑、 抗氧化劑及紫外線吸收劑等常用的添加劑。
[0069] 涂布組合物通過將上述樹脂及粒子與根據需要的溶劑、添加劑、催化劑等混合來 制備。涂布組合物中的溶劑沒有特別限定，考慮使用的樹脂、成為涂飾的基底的部分的材質 及組合物的涂飾方法等來適當選擇。作為溶劑的具體例，可舉出例如甲苯、二甲苯等芳香 族系溶劑；甲乙酮、丙酮、甲基異丁基酮、環己酮等酮系溶劑；二乙醚、異丙醚、四氫呋喃、二 噁烷、乙二醇二甲醚、乙二醇二乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、丙二醇單甲醚、苯 甲醚、苯乙醚等醚系溶劑；乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸異丙酯、乙二醇二乙酸酯等酯系溶劑； 二甲基甲酰胺、二乙基甲酰胺、N-甲基吡咯烷酮等酰胺系溶劑；甲基溶纖劑、乙基溶纖劑、 丁基溶纖劑等溶纖劑系溶劑；甲醇、乙醇、丙醇等醇系溶劑；二氯甲烷、氯仿等鹵素系溶劑； 等。這些溶劑可以單獨使用，或將兩種以上組合使用。這些溶劑之中，優選使用酯系溶劑、 醚系溶劑、醇系溶劑及酮系溶劑。
[0070] 在涂布組合物中，優選將粒子分散在溶液中。作為使粒子分散在溶液中的方法，可 以采用在樹脂組合物溶液中添加粒子并混合的方法、將預先分散在溶劑中的粒子添加到樹 脂組合物溶液中的方法等各種公知的方法。
[0071] 涂布組合物的固體成分濃度優選1重量％?70重量％，更優選2重量％?50重 量％，最優選5重量％?40重量％。若固體成分濃度變得過低，則有時在涂布后的干燥工序 中抗粘連層表面的隆起部的波動變大，抗粘連層表面的隆起部變大的部分的霧度上升。另 一方面，若固體成分濃度變得過大，則含有成分變得易凝聚，其結果是，有時凝聚部分顯現 而損害雙面透明導電性膜的外觀。
[0072](涂布及固化）
[0073] 抗粘連層通過在基材上涂布上述涂布組合物而形成。本實施方式中，在基材的兩 面進行向基材膜1上的涂布組合物的涂布。需要說明的是，涂布組合物可以直接在基材膜 1上進行涂布，也可以在形成在基材膜1上的中間涂層等上進行涂布。
[0074] 涂布組合物的涂布方法可以根據涂布組合物及涂飾工序的狀況適當選擇，可以通 過例如浸涂法、氣刀涂布法、簾涂法、輥涂法、線棒涂布法、凹版涂布法、模縫涂布法或擠出 涂布法等來涂布。
[0075] 將涂布組合物涂布后使涂膜固化，由此可以形成抗粘連層。樹脂組合物為光固化 性時，可以通過使用發出根據需要的波長的光的光源來照射光，使其固化。作為照射的光， 可使用例如曝光量150mJ/cm 2以上的光，優選200mJ/cm2?lOOOJ/cm2的光。另外該照射光 的波長沒有特別限定，但可以使用具有例如380nm以下的波長的照射光等。需要說明的是， 可以在光固化處理時或光固化處理后進行加熱。
[0076] 可以對抗粘連層2在表面預先實施濺射、等離子體處理、電暈放電、火焰、紫外線 照射、電子束照射、化成、氧化等蝕刻處理、底涂處理，使其與在抗粘連層上形成的光學調整 層等的密合性提高。另外，在形成光學調整層前，可以根據需要通過溶劑清洗、超聲波清洗 等對抗粘連層表面除塵、清潔化。
[0077] 〈光學調整層〉
[0078] 在本實施方式的雙面透明導電性膜10中，在抗粘連層2與透明導電層4之間，出 于控制透明導電層的密合性、反射特性等的目的而設置有光學調整層3。光學調整層可以 設置1層，也可以設置兩層或兩層以上。光學調整層可以用無機物、有機物或無機物與有機 物的混合物形成。作為形成光學調整層的材料，可舉出NaF、Na 3AlF6、LiF、MgF2、CaF2、Si02、 LaF3、CeF3、A1203、Ti0 2、Ta205、Zr02、ZnO、ZnS、SiO x(x 為 L 5 以上且低于 2)等無機物；丙烯 酸樹脂、氨基甲酸酯樹脂、三聚氰胺樹脂、醇酸樹脂、硅氧烷系聚合物等有機物。特別是作為 有機物，優選使用包含三聚氰胺樹脂、醇酸樹脂和有機硅烷縮合物的混合物的熱固型樹脂。 光學調整層可以使用上述材料，通過凹版涂布法、棒涂法等涂敷法等形成。優選像這樣通過 涂敷法形成至少1層光學調整層，但形成兩層以上光學調整層時，除了上述的涂敷法以外， 也可以通過真空蒸鍍法、濺射法、離子鍍法等形成光學調整層。
[0079] 光學調整層3的厚度可以考慮圖案形成部與圖案開口部的反射率差、膜的色調等 適當設定。光學調整層3的厚度優選50nm?300nm。特別是光學調整層的折射率為1. 58 以上且1. 64以下時，光學調整層的厚度優選50nm以上且150nm以下，光學調整層的折射率 為1. 65以上且1. 7以下時，優選80nm以上且300nm以下。另外，形成兩層光學調整層時，基 材膜側的第1光學調整層的厚度優選l〇nm?60nm，透明導電層（ΙΤ0膜）側的第2光學調 整層的厚度優選l〇nm?60nm。進一步，形成兩層光學調整層時，上述第1光學調整層的折 射率優選1. 6?1. 8,上述第2光學調整層的折射率優選1. 3?1. 6。通過考慮光學調整層 的厚度、以及折射率，可以有效抑制圖案形成部與圖案開口部的反射率差、膜的色調。另外， 若光學調整層以這樣的納米級的厚度形成，則光學調整層的透明導電層4側的表面大體上 維持作為其基底層的抗粘連層2表面的隆起形狀。而且，透明導電層4的表面也維持其隆 起形狀，因此可以制成具有抗粘連性的雙面透明導電性膜。
[0080] 光學調整層可以具有平均粒徑為lnm?500nm的納米微粒。光學調整層中的納米 微粒的含量優選〇. 1重量％?90重量％。光學調整層中所用的納米微粒的平均粒徑如上 所述優選lnm?500nm的范圍，更優選5nm?lOOnm。另外，光學調整層中的納米微粒的含 量更優選10重量％?80重量％，進一步優選20重量％?70重量％。通過在光學調整層 中含有納米微粒，可以容易地調整光學調整層本身的折射率。
[0081] 作為形成納米微粒的無機氧化物，可舉出例如氧化硅（二氧化硅）、中空納米二氧 化硅、氧化鈦、氧化鋁、氧化鋅、氧化錫、氧化鋯等的微粒。它們之中，優選氧化硅（二氧化 硅）、氧化鈦、氧化鋁、氧化鋅、氧化錫、氧化鋯的微粒。它們可以單獨使用1種，也可以兩種 以上并用。
[0082] 〈透明導電層〉
[0083] 透明導電層4的構成材料沒有特別限定，可適宜使用選自由銦、錫、鋅、鎵、銻、鈦、 硅、鋯、鎂、鋁、金、銀、銅、鈀、鎢構成的組中的至少1種金屬的金屬氧化物。該金屬氧化物 中，根據需要可以進一步含有上述組所示的金屬原子。優選使用例如含有氧化錫的氧化銦 (IT0)、含有銻的氧化錫（ΑΤΟ)等。
[0084] 透明導電層4的厚度沒有特別限制，為了制成其表面電阻為1Χ103Ω/ □以下的 具有良好的導電性的連續覆膜，優選使厚度為lOmii以上。膜厚過厚時，會造成透明性降低 等，因此，優選為15?35nm、更優選在20?30nm的范圍內。透明導電層4的厚度不足15nm 時，膜表面的電阻變高，并且難以成為連續覆膜。另外，透明導電層4的厚度超過35nm時， 有時會造成透明性降低等。
[0085] 作為透明導電層4的折射率，在透明導電層4被圖案化時，從除了抑制圖案形成部 P與圖案開口部〇(參照圖2)的反射率差，而且抑制兩者的色調的差的觀點考慮，透明導電 層5的折射率優選1. 85?2. 1左右。
[0086] 透明導電層4的形成方法沒有特別限定，可采用以往公知的方法。具體而言，例如 可例示出真空蒸鍍法、濺射法、離子鍍法等干法。另外，也可以根據所需的膜厚采用適宜的 方法。需要說明的是，如果透明導電層4通過濺射法等干法形成，則如圖1所示，透明導電 層4的表面大體上維持作為其底層的抗粘連層2a (及光學調整層3)表面的平坦部及隆起 部的形狀。因此，抗粘連層2上形成有光學調整層3及透明導電層4的情況下，也可以適宜 地對透明導電層4表面賦予抗粘連性。
[0087] 根據需要，透明導電層4可以實施加熱退火處理（例如，在大氣氣氛下，在80? 150°C下進行30?90分鐘左右）進行結晶化。通過將透明導電層結晶化，透明導電層低電 阻化并且透明性和耐久性提高。通過將雙面透明導電性膜10中抗粘連層2a的厚度設為上 述范圍，加熱退火處理時也可以抑制卷曲的發生，處理性優異。
[0088] 如圖2及3所示，透明導電層4可以通過蝕刻等而圖案化。圖2示出透明導電層 4被圖案化后的雙面透明導電性膜10。其中，為了便于說明，在圖2中，省略抗粘連層2中 所含的粒子及由其造成的隆起部，各層的厚度與圖1所示的樣子不同。圖2所示的雙面透 明導電性膜具有透明導電層4形成圖案的圖案形成部P和透明導電層4被除去后的圖案開 口部0。在靜電容量式觸控面板、矩陣式的電阻膜式的觸控面板中所用的雙面透明導電性膜 中，如圖3所示，優選透明導電層4a、4b以條紋狀圖案化，優選形成透明導電層4a、4b相互 正交的棋盤格狀矩陣圖案。需要說明的是，在圖3中，圖示了圖案形成部P的寬度比圖案開 口部〇的寬度大，但本發明并不限于該形態。
[0089] 如圖2及3所示，雙面透明導電性膜10的透明導電層4a、4b被圖案化時，根據圖 案形狀，以俯視方式透視雙面透明導電性膜10時，有時存在兩面的圖案形成部重疊的雙面 圖案區域X、和一個面為圖案形成部且另一個面為圖案開口部的單面圖案區域Y(Y1及Y2)。 此時，雙面圖案區域X的反射率與單面圖案區域Υ的反射率之差Λ R的絕對值優選1%以 下，更優選〇. 5%以下。另外，雙面圖案區域X的反射色調bM尤選滿足-10 < b# < 0,更優 選滿足-8 < b# < 0,特別優選滿足-5 < b# < 0。通過將反射率差Λ R的絕對值、反射色調 l/設為上述范圍內，可以抑制圖案觀察及色調（特別是黃色調）的發生、獲得外觀更良好的 透明導電性膜。
[0090] 需要說明的是，本說明書中，"反射率"表示CIE表色系統的D65光源的視感反射 率Υ。另外，"色調"是JIS Ζ8729中規定的ΙΛΛ/表色系統中的D65光源的I；值、a#值、b# 值，"反射色調"是由反射光求出的色調。
[0091] 一般而言，透明導電層由金屬氧化物形成，因此折射率高，表面的反射率高。因此， 在圖案形成部P與圖案開口部0之間產生反射率差，有圖案變得易辨認的傾向。與此相對， 本發明中，通過在正反面的基材膜1與透明導電層4之間分別設置光學調整層，通過界面多 重反射，通過干涉消除透明導電層表面的反射光，圖案形成部P的反射率降低。因此，圖案 形成部P與圖案開口部〇的反射率差降低，圖案變得難以辨認。
[0092] 〈雙面透明導電性膜卷繞體〉
[0093] 本實施方式中，可以將雙面透明導電性膜10制成長尺寸體，可以制成將其以卷筒 狀卷繞而成的雙面透明導電性膜卷繞體。雙面透明導電性膜的長尺寸片的卷繞體能如下 形成：使用長尺寸片的卷筒狀卷繞體作為基材膜，將上述的抗粘連層、光學調整層及透明導 電層都通過卷對卷法來形成。在形成這樣的卷繞體時，可以在雙面透明導電性膜的表面貼 合具備弱粘合層的保護膜（隔片）后，卷繞成卷筒狀，但本實施方式的雙面透明導電性膜由 于改善了抗粘連性，因此即時不使用保護膜也能形成雙面透明導電性膜的長尺寸片的卷繞 體。即，通過賦予了抗粘連性，可以抑制操作時在膜表面的傷痕的發生，同時膜的卷繞性優 異，因此即使不在表面貼合保護膜，也容易得到將長尺寸片卷繞成卷筒狀而成的卷繞體。像 這樣，由于本實施方式的雙面透明導電性膜能夠不使用保護膜而形成長尺寸片的卷繞體， 因此用于之后的觸控面板的形成等時的作業性優異。另外，由于不需要作為工序構件的保 護膜，因此也能有助于成本削減、廢棄物減少。
[0094] 〈觸控面板〉
[0095] 雙面透明導電性膜10可適宜地用于例如靜電容量式、電阻膜式等觸控面板。特別 是在透明導電層被圖案化時，也可以將圖案形成部與圖案開口部的可視性之差，特別是反 射率之差抑制得較小，因此可適宜地用于像投影型靜電容量式觸控面板、能多點輸入的電 阻膜式的觸控面板那樣，具備被圖案化為規定形狀的透明導電層的觸控面板。
[0096] 在觸控面板的形成時，在雙面透明導電性膜的一側或兩側的主面可以利用透明的 粘合劑層貼合玻璃、高分子膜等其他基材等。透明基體可以由1張基體膜構成，也可以是兩 張以上的基體膜的層疊體（例如利用透明的粘合劑層層疊而成的層疊體）。另外，也可以在 貼合于雙面透明導電性膜的透明基體的外表面設置硬質涂層。
[0097] 作為在雙面透明導電性膜與基材的貼合中所用的粘合劑層，只要具有透明性就可 以沒有特別限制地使用。具體而言，可以適宜地選擇例如以丙烯酸系聚合物、硅酮系聚合 物、聚酯、聚氨酯、聚酰胺、聚乙烯基醚、乙酸乙烯酯/氯乙烯共聚物、改性聚烯烴、環氧系、 氟系、天然橡膠、合成橡膠等橡膠系等聚合物為基礎聚合物的物質來使用。特別是從光學的 透明性優異，顯示出適度的潤濕性、凝聚性及粘接性等粘合特性，耐候性、耐熱性等也優異 方面考慮，優選使用丙烯酸系粘合劑。
[0098] 將上述的本發明的雙面透明導電性膜用于觸控面板的形成時，觸控面板形成時的 處理性優異。因此，能生產率高地制造透明性及可視性優異的觸控面板。
[0099] 實施例
[0100] 以下，利用實施例對本發明進行詳細地說明，但只要不脫離其要旨，本發明就不限 于以下的實施例。實施例中，除非另行說明，"份"是指"重量份"。
[0101] [實施例1]
[0102] 準備含有最頻粒徑1.3μπι的多個單分散粒子（綜研化學公司制，商品名 "SX-130H"）和粘結劑樹脂（DIC公司制，商品名"UNIDIC"RS29-120)，且以乙酸乙酯為溶劑 的涂布組合物。相對于粘結劑樹脂100份，粒子的添加份數為0.2份。接著，使用凹版涂布 機在厚度ΙΟΟμπι(日本瑞翁公司制，商品名"Zeonor"）的長尺寸基材膜的兩面以干燥后的 厚度為1. 〇 μ m的方式涂布涂布組合物，通過在80°C加熱1分鐘而使涂膜干燥。之后，通過 用高壓汞燈照射累積光量250mJ/cm2的紫外線，形成抗粘連層。
[0103] 接著，用凹版涂布機在雙面的抗粘連層的表面涂布折射率調整劑（JSR公司制，商 品名"Opstar Z7412")，通過在60°C加熱1分鐘而使涂膜干燥。之后，通過用高壓汞燈照射 累積光量250mJ/cm2的紫外線來實施固化處理，以厚度100nm(0. 1 μ m)在兩面形成折射率 1. 62的光學調整層。
[0104] 之后，將具有抗粘連層及光學調整層的長尺寸基材投入卷繞式濺射裝置，在兩面 的光學調整層的表面層疊厚度26nm的銦?錫氧化物層（由氬氣98%和氧氣2%構成的 〇. 4Pa的氣氛中，使用了由氧化銦97重量％ -氧化錫3重量％構成的燒結體的濺射）作為 透明導電層。此時，上述光學調整層、透明導電層以沿著上述抗粘連層的平坦部及隆起部的 方式層疊。由此制作了雙面透明導電性膜。
[0105] 所得的雙面透明導電性膜的層疊構成為透明導電層/光學調整層/抗粘連層/基 材膜/抗粘連層/光學調整層/透明導電層。在表1中，示出粒子的最頻粒徑d、抗粘連層的 厚度T A、光學調整層的厚度I、從粒子的最頻粒徑d減去抗粘連層的厚度τΑ后的值（d-TA)。 在后面敘述最頻粒徑及厚度的測定方法。
[0106] [實施例2]
[0107] 使用最頻粒徑1. 5μπι的單分散粒子（積水化成品工業公司制，商品名"XX184AA"） 作為粒子，相對于粘結劑樹脂1〇〇份將添加份數設為〇. 3份，除此以外，與實施例1同樣地 制作了雙面透明導電性膜。
[0108] [實施例3]
[0109] 使用最頻粒徑1.9μπι的單分散粒子（綜研化學公司制，商品名"ΜΧ-180ΤΑ"）作為 粒子，相對于粘結劑樹脂100份將添加份數設為〇. 2份，除此以外，與實施例1同樣地制作 了雙面透明導電性膜。
[0110] [實施例4]
[0111] 使用最頻粒徑2. 0 μ m的單分散粒子（積水化成品工業公司制，商品名"ΧΧ134ΑΑ"） 作為粒子，相對于粘結劑樹脂1〇〇份將添加份數設為〇. 2份，除此以外，與實施例1同樣地 制作了雙面透明導電性膜。
[0112] [實施例5]
[0113] 使用最頻粒徑2.5μπι的單分散粒子（日本觸媒公司制，商品名"KEP-250"）作為 粒子，相對于粘結劑樹脂100份將添加份數設為〇. 4份，除此以外，與實施例1同樣地制作 了雙面透明導電性膜。
[0114] [實施例6]
[0115] 使用最頻粒徑3. Ομπι的單分散粒子（積水化成品工業公司制，商品名"ΧΧ133ΑΑ"） 作為粒子，相對于粘結劑樹脂1〇〇份將添加份數設為〇. 08份，除此以外，與實施例1同樣地 制作了雙面透明導電性膜。
[0116] [實施例7]
[0117] 在基材膜的一個面形成抗粘連層，接著，在涂布于另一個面的涂布組合物中不添 加粒子，將抗粘連層作為硬質涂層形成，除此以外，與實施例1同樣地制作了雙面透明導電 性膜。所得的雙面透明導電性膜的層疊構成為透明導電層/光學調整層/抗粘連層/基材 膜/硬質涂層（無粒子）/光學調整層/透明導電層。
[0118] [實施例8]
[0119] 使用最頻粒徑1. 5μπι的單分散粒子（積水化成品工業公司制，商品名"ΧΧ184ΑΑ"） 作為抗粘連層用的粒子，相對于粘結劑樹脂100份將添加份數設為0. 3份，除此以外，與實 施例7同樣地制作了雙面透明導電性膜。
[0120] [實施例9]
[0121] 使用最頻粒徑1.9μπι的單分散粒子（綜研化學公司制，商品名"MX-180TA"）作為 抗粘連層用的粒子，相對于粘結劑樹脂100份將添加份數設為0. 2份，除此以外，與實施例 7同樣地制作了雙面透明導電性膜。
[0122] [實施例 10]
[0123] 使用最頻粒徑2.0 μ m的單分散粒子（積水化成品工業公司制，商品名"ΧΧ134ΑΑ"） 作為抗粘連層用的粒子，相對于粘結劑樹脂100份將添加份數設為0. 2份，除此以外，與實 施例7同樣地制作了雙面透明導電性膜。
[0124] [實施例 11]
[0125] 使用最頻粒徑2.5μπι的單分散粒子（日本觸媒公司制，商品名"KEP-250"）作為 抗粘連層用的粒子，相對于粘結劑樹脂100份將添加份數設為0. 4份，除此以外，與實施例 7同樣地制作了雙面透明導電性膜。
[0126] [實施例 12]
[0127] 使用最頻粒徑3. Ομπι的單分散粒子（積水化成品工業公司制，商品名"ΧΧ133ΑΑ"） 作為抗粘連層用的粒子，相對于粘結劑樹脂100份將添加份數設為0. 08份，除此以外，與實 施例7同樣地制作了雙面透明導電性膜。
[0128] [比較例1]
[0129] 使用最頻粒徑0. 8 μ m的單分散粒子（積水化成品工業公司制，商品名"BMSA"）作 為粒子，相對于粘結劑樹脂100份將添加份數設為2份，除此以外，與實施例1同樣地制作 了雙面透明導電性膜。
[0130] [比較例2]
[0131] 在制備涂布組合物時，不添加粒子，使用相分離型樹脂（日本立邦公司制，商品名 "NAB-010"）作為粘結劑樹脂，除此以外，與實施例1同樣地制作了雙面透明導電性膜。
[0132] [比較例3]
[0133] 在制備涂布組合物時，不添加粒子，使用含二氧化硅納米粒子（平均粒徑為100nm 的納米粒子與平均粒徑為10nm的納米粒子的混合物）的樹脂（觸媒化成公司制，商品名 "ELCOM NT-1125HSC"）作為粘結劑樹脂，除此以外，與實施例1同樣地制作了雙面透明導電 性膜。
[0134] [評價]
[0135] 對在實施例1?12及比較例1?3中得到的各雙面透明導電性膜進行了下述的 評價。將各評價結果示于表1。
[0136] 〈光學調整層的折射率〉
[0137] 準備上述光學調整層形成用的涂布液，依據JIS K7105測定其固化物的折射率， 將其作為光學調整層的折射率。具體而言，用棒涂機在未處理的聚對苯二甲酸乙二醇酯膜 (以下，稱為PET膜。）上涂布形成用涂布液，在80°C使其干燥60分鐘。接著，用高壓汞燈照 射0. 6J/cm2的紫外線，使涂膜固化。將該操作重復兩次，形成兩層的固化膜層疊而成的固化 物后，從PET膜上剝離固化物。用阿貝折射儀，使測定光（鈉 D線）入射并在25. 0±1.0°C 對所得的固化物測定4次，將測定值的平均作為光學調整層的折射率nD25。
[0138] 〈各層的厚度〉
[0139] 使用大塚電子（株）制的瞬時多重測光系統"MCPD2000"（商品名），以在膜的寬 度方向對等間隔的5點測定而得的干涉光譜的波形為基礎而算出平均值，由此求出抗粘連 層及硬質涂層的厚度。通過透射型電子顯微鏡（日立制作所制，HF-7650)進行剖面觀察來 測定光學調整層及透明導電層的厚度。
[0140] 〈粒子的最頻粒徑〉
[0141] 使用流動式粒子圖像分析裝置（Sysmex公司制，產品名"FPTA-3000S"），在規定條 件下（鞘液：乙酸乙酯，測定模式：HPF測定，測定方式：總計數）進行測定。用乙酸乙酯將 粒子稀釋至1. 0重量％，用超聲波清洗機使其均勻分散而制備測定試樣。
[0142] 〈抗粘連性〉
[0143] 通過卷對卷法進行制造時，確認在任何工序中是否發生了膜彼此的貼附。將未發 生膜彼此的貼附的情況評價為"〇"，將發生了貼附的情況評價為"X"。同時，確認了任何 工序中對膜的損傷的有無。將未對膜造成損傷的情況評價為"〇"，將產生損傷的情況評價 為 " X，，。
[0144] 〈霧度〉
[0145] 依據JIS K7136 (2000年）的霧度（濁度），用霧度計（村上色彩技術研究所公司 制型號"HM-150"）測定了制作的雙面透明導電性膜的霧度。
[0146] [表 1]
[0147]

【權利要求】
1. 一種雙面透明導電性膜，其中， 在基材膜的兩面依次形成有光學調整層及透明導電層， 在所述基材膜與一側所述光學調整層之間及所述基材膜與另一側所述光學調整層之 間中的至少一方形成有含有粒子的抗粘連層， 所述抗粘連層具有平坦部和起因于所述粒子的隆起部， 從所述粒子的最頻粒徑減去所述抗粘連層的平坦部的厚度而得的值比所述光學調整 層的厚度大。
2. 根據權利要求1所述的雙面透明導電性膜，其中，所述光學調整層的厚度為50nm? 300nm〇
3. 根據權利要求1所述的雙面透明導電性膜，其中，所述光學調整層為通過濕式涂布 形成的層。
4. 根據權利要求1所述的雙面透明導電性膜，其中，從所述抗粘連層的隆起部的高度 減去所述抗粘連層的平坦部的厚度而得的值比所述光學調整層的厚度大。
5. 根據權利要求1所述的雙面透明導電性膜，其霧度為5%以下。
6. 根據權利要求1所述的雙面透明導電性膜，其中，所述透明導電層已被圖案化，該透 明導電層具有形成圖案的圖案形成部和除去了該透明導電層的圖案開口部。
7. 根據權利要求6所述的雙面透明導電性膜，其中， 以俯視方式透視時，兩面的圖案形成部重疊的雙面圖案區域的反射率、與一個面為圖 案形成部且另一個面為圖案開口部的單面圖案區域的反射率之差的絕對值為1%以下。
8. 根據權利要求7所述的雙面透明導電性膜，其中，所述雙面圖案區域的反射色調b# 滿足-10彡b*彡0。
9. 根據權利要求1?8中任一項所述的雙面透明導電性膜，其中，所述基材膜含有環烯 烴系樹脂。
10. -種雙面透明導電性膜卷繞體，其是將權利要求1?9中任一項所述的雙面導電性 膜的長尺寸體卷繞為卷筒狀而得到的。
11. 一種觸控面板，其具備權利要求1?9中任一項所述的雙面透明導電性膜。
【文檔編號】B32B27/00GK104290407SQ201410216363
【公開日】2015年1月21日 申請日期:2014年5月21日 優先權日:2013年5月22日
【發明者】高田勝則, 橋本尚樹, 平岡慎哉, 豬飼和宏, 倉本浩貴, 鷹尾寬行, 津野直樹, 梅本徹 申請人:日東電工株式會社