專利名稱：一種空氣隙標準具及其制作方法
技術領域：
本發明涉及光學領域，尤其涉及一種適用于波長或頻率鎖定應用領域的標準具及其制作方法。
背景技術：
標準具按結構分為空氣隙標準具和固體標準具?？諝庀稑藴示邥r由前片、后片和間隔塊構成。前片和后片通過間隔塊作用形成了一個以空氣為間隙的干涉腔。固體標準具由一塊拋光好的基片構成，在基片的兩個拋光面之間形成了以材料為間隙的干涉腔。固體標準具由一塊拋光好的基片構成，在基片的兩個拋光面之間形成了以基片材料為間隙的干涉腔。標準具在通訊領域，可以作為波長鎖定器的波長濾波器件，其工作的光路原理圖
如

圖1所示，由位相差
權利要求
1.一種空氣隙標準具，包括第一光學基片、間隔塊和第二光學基片；間隔塊設置于第一光學基片和第二光學基片中間，三者光膠為一體，其特征在于:所述間隔塊厚度h由公式
2.按權利要求1所述的一種空氣隙標準具，其特征在于:所述第一光學基片的第二表面還鍍有第一光膠膜，第一部分反射膜鍍于第一光膠膜之上；所述第二光學基片的第一表面也鍍有與第一光膠膜一樣的第二光膠膜，第二部分反射膜鍍于第二光膠膜之上。
3.按權利要求1或2所述的一種空氣隙標準具，其特征在于:所述第一光學基片的第一表面和第二光學基片的第二表面均鍍有增透膜，該兩表面均為一楔形小斜面，其楔角范圍為15' 30'。
4.一種空氣隙標準具的制作方法，其特征在于，包括如下步驟:a.在間隔塊中間打一通孔，在第一光學基片的第二表面和第二光學基片的第一表面上鍍部分反射膜；b.將間隔塊與第一光學基片和第二光學基片光膠為一體，間隔塊位于中間；c.對上述初步光膠后的標準具進行腔長厚度測試，并由公式
5.按權利要求4所述的一種空氣隙標準具的制作方法，其特征在于:步驟d所述精加工方法為采用等離子刻蝕、化學腐蝕或者MRF拋光去除間隔塊多余厚度，或者采用鍍膜方式增加間隔塊厚度。
6.按權利要求4所述的一種空氣隙標準具的制作方法，其特征在于:所述步驟a中在第一光學基片的第二表面和第二光學基片的第一表面鍍部分反射膜之前，先鍍上一層光膠膜，所述部分反射膜鍍于光膠膜之上。
7.按權利要求4-6任一項所述的一種空氣隙標準具的制作方法，其特征在于:所述第一光學基片和第二光學基片采用相同的材料；所述材料為光學玻璃或者陶瓷材料。
8.按權利要求7所述的一種空氣隙標準具的制作方法,其特征在于:所述光學玻璃為融石英或者Zerodur。
9.按權利要求4-6任一項所述的一種空氣隙標準具的制作方法，其特征在于:所述間隔塊材料為光學玻璃或者陶瓷材料。
10.按權利要求9所述的一種空氣隙標準具的制作方法,其特征在于:所述光學玻璃為ULE 或者 Zerodur0
全文摘要
本發明公開了一種空氣隙標準具及其制作方法，該標準具由第一光學基片、間隔塊和第二光學基片通過深化光膠而成，本發明采用改變間隔塊厚度的方式，使標準具原透過峰波長移動到指定波長位置；采用刻蝕去除或鍍膜增厚等方式精加工間隔塊厚度，以精密控制透過峰波長。該標準具結構簡單、加工方便，而且對透過峰波長的鎖定精度高，同時提高了標準具的溫度穩定性，有利于降低波長鎖定器的設計和制作難度。
文檔編號G02B1/11GK103091757SQ201110333359
公開日2013年5月8日 申請日期2011年10月27日 優先權日2011年10月27日
發明者張新漢, 王曉東, 鄧韋偉, 林磊, 黃富泉, 黃國玲, 凌吉武 申請人:福州高意光學有限公司