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一種單片集成收發(fā)一體光電芯片及集成芯片陣列的制作方法

文檔序號(hào):12457787閱讀:來(lái)源:國(guó)知局

技術(shù)特征:

1.一種單片集成收發(fā)一體光電芯片,其特征在于,包括襯底、光吸收單元和光發(fā)射單元;所述光發(fā)射單元的光激射波長(zhǎng)構(gòu)成光電芯片的發(fā)射光譜區(qū),所述光吸收單元吸收波長(zhǎng)構(gòu)成光電芯片的吸收光譜區(qū),所述吸收光譜區(qū)和所述發(fā)射光譜區(qū)不重疊;所述光吸收單元包括依次層疊于襯底上的第一半導(dǎo)體材料層、第二半導(dǎo)體材料層和第三半導(dǎo)體材料層;所述光發(fā)射單元包括第一反射鏡、光學(xué)腔和第二反射鏡,所述光學(xué)腔位于第一反射鏡上,所述第二反射鏡位于光學(xué)腔上;所述光吸收單元和光發(fā)射單元縱向垂直集成為一體。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單片集成收發(fā)一體光電芯片,其特征在于,所述第三半導(dǎo)體材料層上設(shè)有絕緣層,所述光吸收單元和光發(fā)射單元通過(guò)絕緣層電隔離。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單片集成收發(fā)一體光電芯片,其特征在于,所述光學(xué)腔由InxGayAl1-x-yAs、InxGayAs1-x-yP、InxGayAl1-x-yP、InxGayAl1-x-yN或InxGayAs1-x-yN中的一種材料層或多種不同材料層構(gòu)成,其中,0≤x≤1,0≤y≤1,且x+y≤1;所述光學(xué)腔中含有InxGayAl1-x-yAs,InxGayAs1-x-yP,InxGayAl1-x-yP,InxGayAl1-x-yN或InxGayAs1-x-yN材料構(gòu)成的多量子阱或多層量子點(diǎn)有源區(qū),其中0≤x≤1,0≤y≤1,在被注入電流的情況下可激射的光波波長(zhǎng)為700nm~1700nm。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單片集成收發(fā)一體光電芯片,其特征在于,所述第一半導(dǎo)體材料層、第二半導(dǎo)體材料層或第三半導(dǎo)體材料層由InxGayAl1-x-yAs,InxGayAs1-x-yP,InxGayAl1-x-yP,InxGayAl1-x-yN或InxGayAs1-x-yN中的一種材料層或多種不同材料層構(gòu)成,其中0≤x≤1,0≤y≤1;其中含有由InxGayAl1-x-yAs、InxGayAs1-x-yP、InxGayAl1-x-yP、InxGayAl1-x-yN或InxGayAs1-x-yN半導(dǎo)體材料構(gòu)成的吸收層,所述吸收層為體結(jié)構(gòu),多量子阱結(jié)構(gòu)或多層量子點(diǎn)結(jié)構(gòu),且吸收700nm~1700nm波長(zhǎng)的入射光波,其中,0≤x≤1,0≤y≤1,且x+y≤1。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單片集成收發(fā)一體光電芯片,其特征在于,所述光發(fā)射單元的光激射方向指向光吸收單元所在方向的反方向,所述吸收光譜區(qū)和發(fā)射光譜區(qū)位于光纖的850nm通信窗口、1310nm通信窗口或1550nm通信窗口。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單片集成收發(fā)一體光電芯片,其特征在于,所述絕緣層由絕緣膠構(gòu)成,或由InxAlyGa1-x-yAs、InxAlyGa1-x-yP或InxAlyGa1-x-yN半導(dǎo)體材料經(jīng)濕法氧化工藝轉(zhuǎn)變的絕緣材料構(gòu)成,其中,0≤x≤1,y≥0.94,且x+y≤1。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單片集成收發(fā)一體光電芯片,其特征在于,所述第一反射鏡和第二反射鏡為多層由不同材料構(gòu)成的布拉格反射鏡或亞波長(zhǎng)光柵反射鏡;所述構(gòu)成布拉格反射鏡或亞波長(zhǎng)光柵反射鏡的材料包括InxGayAl1-x-yAs、InxGayAs1-x-yP、InxGayAl1-x-yP,InxGayAl1-x-yN、InxGayAs1-x-yN半導(dǎo)體材料,SiO2、TiO2、MgF、Si介質(zhì)膜材料,其中,0≤x≤1,0≤y≤1,且x+y≤1。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單片集成收發(fā)一體光電芯片,其特征在于,所述第一反射鏡、第二反射鏡中至少一個(gè)反射鏡含有至少一層InxAlyGa1-x-yAs、InxAlyGa1-x-yP或InxAlyGa1-x-yN半導(dǎo)體材料,其中0≤x≤1,y≥0.94,x+y≤1,且該層半導(dǎo)體材料經(jīng)濕法氧化工藝部分氧化為絕緣材料并構(gòu)成注入電流限制窗口。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的單片集成收發(fā)一體光電芯片,其特征在于,所述光吸收單元為PIN光電探測(cè)器、雪崩光電探測(cè)器或單行載流子光電探測(cè)器。

10.一種集成芯片陣列,其特征在于,包括若干如權(quán)利要求1至9任一所述的單片集成收發(fā)一體光電芯片。

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