技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種減壓干燥設(shè)備，包括密封腔室，所述密封腔室設(shè)置有承載平臺，所述承載平臺用以承載表面涂布有光刻膠的基板，所述承載平臺上還設(shè)置有溫度調(diào)節(jié)模塊，以對所述基板進行局部溫度調(diào)控，使得所述基板表面各區(qū)域的光刻膠干燥程度均勻；本發(fā)明能夠使基板表面各區(qū)域的光刻膠干燥程度均勻，從而提高基板表面光刻膠的顯影均一性。

技術(shù)研發(fā)人員：金建龍
受保護的技術(shù)使用者：武漢華星光電技術(shù)有限公司
技術(shù)研發(fā)日：2017.06.22
技術(shù)公布日：2017.09.29