專利名稱：一種等離子顯示屏的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于平板顯示領(lǐng)域，尤其涉及一種等離子顯示屏的制作方法。
背景技術(shù)：
近年來，隨著消費(fèi)者對顯示器件功能需求的不斷提高和科學(xué)的進(jìn)步，出現(xiàn)了PDP (Plasma Display Panel,等離子顯不屏)、LCD (Liquid C rystal Display,液晶顯不屏)等新型平板顯示器件，它們以其清晰度高、重量輕、耗電少、無輻射、環(huán)保性能好等優(yōu)點(diǎn)越來越多的進(jìn)入人們的社會(huì)生活領(lǐng)域，特別是在超大屏幕的平板顯示器件中，PDP技術(shù)有絕對的優(yōu)勢。F1DP (結(jié)構(gòu)如圖1所不)由第一基板I ( 一般為玻璃基板)和第二基板2 ( —般為玻璃基板)組成，在第一基板上設(shè)置有透明電極3和總線電極4以及前介質(zhì)5和覆蓋在前介質(zhì)5表面的保護(hù)層6，在第二基板2上設(shè)置有地址電極7和后介質(zhì)8以及障壁9。PDP利用了氣體放電原理，由障壁9和前介質(zhì)5、后介質(zhì)8組成微小的絕緣放電間，放電間填滿用于等離子放電的放電氣體，通過等離子放電激發(fā)涂覆在放電間上的熒光粉層10發(fā)光?，F(xiàn)有的制作PDP的過程為步驟S1、提供第一基板1，所述第一基板上設(shè)置有透明電極3和總線電極4 ；步驟S2、在所述第一基板I上涂覆前介質(zhì)，形成前介質(zhì)層5 ；步驟S3、在所述前介質(zhì)層5表面上涂覆保護(hù)層6 ；步驟S4、提供第二基板2，所述第二基板2上設(shè)置有地址電極7 ；步驟S5、在所述第二基板2上涂覆后介質(zhì)，形成后介質(zhì)層8 ；步驟S6、在所述后介質(zhì)層8表面上形成障壁9，在所述障壁9和后介質(zhì)層8表面涂覆熒光粉層10 ；步驟S7、將第一基板I和第二基板2對合、封排；之后，還要進(jìn)行研磨、端末刻蝕、老煉、點(diǎn)燈、貼膜、模組裝配等步驟最終得到市面上的等離子顯示屏。但是，在現(xiàn)有技術(shù)下，時(shí)常會(huì)有等離子顯示屏的電極端子導(dǎo)電不良的現(xiàn)象出現(xiàn)，甚至?xí)霈F(xiàn)電極端子不能導(dǎo)電、失去作用的現(xiàn)象。

發(fā)明內(nèi)容
為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種等離子顯示屏的制作方法，具體方案如下一種等離子顯示屏的制作方法，其特征在于，包括提供第一基板和第二基板，且所述第一基板上設(shè)置有透明電極和總線電極，所述第二基板上設(shè)置有地址電極；在所述第一基板上涂覆前介質(zhì)層，所述前介質(zhì)層完全覆蓋所述透明電極和總線電極；
在所述第二基板上涂覆后介質(zhì)層，所述后介質(zhì)層完全覆蓋所述地址電極；將所述第一基板和所述第二基板對合、封排；將覆蓋在透明電極端子和總線電極端子表面的前介質(zhì)層材料和覆蓋在地址電極端子表面的后介質(zhì)層材料去除，露出透明電極端子、總線電極端子和地址電極端子。優(yōu)選的，所述將覆蓋在透明電極端子和總線電極端子表面的前介質(zhì)層材料和覆蓋在地址電極端子表面的后介質(zhì)層材料去除，具體包括在所述第一基板和第二基板上噴淋刻蝕藥液，將覆蓋在透明電極端子和總線電極端子表面的前介質(zhì)層材料和覆蓋在地址電極端子表面的后介質(zhì)層材料去除。
優(yōu)選的，在所述第一基板和第二基板上噴淋刻蝕藥液，具體包括將所述第一基板和第二基板送入刻蝕設(shè)備腔室，且使得所述第二基板位于所述第一基板上方；開啟刻蝕設(shè)備腔室內(nèi)的第一藥液噴嘴和第二藥液噴嘴，且所述第一藥液噴嘴和第二藥液噴嘴分別設(shè)置在所述刻蝕設(shè)備腔室的頂部和底部；由第一藥液噴嘴噴出的刻蝕藥液由上至下噴淋到覆蓋在透明電極端子和總線電極端子表面的前介質(zhì)層上，由第二藥液噴嘴噴出的刻蝕藥液由下至上噴淋到覆蓋在地址電極端子表面的后介質(zhì)層上。優(yōu)選的，所述刻蝕藥液的噴淋壓力為0.1MPa 0. 5MPa。優(yōu)選的，所述第一藥液噴嘴設(shè)置在一搖桿上。優(yōu)選的，所述第一藥液噴嘴噴出的刻蝕藥液由上至下噴淋到覆蓋在透明電極端子和總線電極端子表面的前介質(zhì)層上時(shí)，設(shè)置使第一基板和第二基板靜止。優(yōu)選的，待覆蓋在透明電極端子和總線電極端子表面的前介質(zhì)層被去掉之后，使第一基板和第二基板以設(shè)定的速度通過刻蝕設(shè)備腔室；所述設(shè)定速度為1500mm/s 15000mm/s。優(yōu)選的，所述刻蝕藥液為硝酸。優(yōu)選的，所述硝酸濃度為5. 5% 6. 5%，硝酸溫度為30°C 40°C。優(yōu)選的，所述透明電極、總線電極和地址電極的制作材料均為耐酸材料。由上述方案可以看出，本發(fā)明所提供的等離子顯示屏的制作方法包括提供第一基板和第二基板，且所述第一基板上設(shè)置有透明電極和總線電極，所述第二基板上設(shè)置有地址電極；在所述第一基板上涂覆前介質(zhì)層，所述前介質(zhì)層完全覆蓋所述透明電極和總線電極；在所述第二基板上涂覆后介質(zhì)層，所述后介質(zhì)層完全覆蓋所述地址電極；將所述第一基板和所述第二基板對合、封排；將覆蓋在透明電極端子和總線電極端子表面的前介質(zhì)層材料和覆蓋在地址電極端子表面的后介質(zhì)層材料去除，露出透明電極端子、總線電極端子和地址電極端子?？梢姡诘谝换搴偷诙鍖?、封排等高溫工序時(shí)，透明電極端子和總線電極端子被前介質(zhì)層完全覆蓋，地址電極端子被后介質(zhì)層完全覆蓋，從而使各電極端子與外界空氣隔離，避免了各電極端子在高溫環(huán)境下的氧化過程，高溫工序之后又會(huì)將各電極端子表面的前介質(zhì)層材料、后介質(zhì)層材料去除，從而露出各電極端子，使得各電極端子可以正常使用。如此，本發(fā)明提供的方法所生產(chǎn)的等離子顯示屏的電極端子不會(huì)因氧化而出現(xiàn)電阻變大的現(xiàn)象，即避免了電極端子導(dǎo)電不良甚至失去導(dǎo)電功能的現(xiàn)象出現(xiàn)。


為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖1是等離子顯示屏的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是本發(fā)明實(shí)施例的流程圖；圖3和圖4是在刻蝕設(shè)備腔室中第一基板和第二基板的狀態(tài)圖。
具體實(shí)施例方式為使本發(fā)明實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚，下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本發(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。正如背景技術(shù)部分所述，在現(xiàn)有生產(chǎn)等離子顯示屏的技術(shù)下，時(shí)常會(huì)有等離子顯示屏的電極端子導(dǎo)電不良的現(xiàn)象出現(xiàn)，甚至?xí)霈F(xiàn)電極端子不能導(dǎo)電、失去作用的現(xiàn)象。發(fā)明人研究發(fā)現(xiàn)，在等離子顯示屏的生產(chǎn)過程中，透明電極端子、總線電極的端子和地址電極的端子用于等離子顯示屏與外接電路的導(dǎo)通。涂覆前、后介質(zhì)的時(shí)候只是把透明電極、總線電極和地址電極覆蓋住，透明電極端子、總線電極的端子和地址電極的端子裸露在外，涂覆完前、后介質(zhì)之后，兩基板還要經(jīng)過對合、封排等高溫工序，由于工藝要求，這些工序過程中透明電極端子、總線電極端子和地址電極端子會(huì)接觸到空氣，因而在經(jīng)過這些高溫工序之后，透明電極端子、總線電極端子和地址電極端子極易被氧化，進(jìn)而生產(chǎn)得到的等離子顯示屏的透明電極端子、總線電極端子和地址電極端子的電阻變大，使得透明電極端子、總線電極端子和地址電極端子導(dǎo)電不良，甚至失去導(dǎo)電功能。基于上述研究的基礎(chǔ)，本發(fā)明公開了一種等離子顯示屏的制作方法，該方法包括提供第一基板和第二基板，且所述第一基板上設(shè)置有透明電極和總線電極，所述第二基板上設(shè)置有地址電極；在所述第一基板上涂覆前介質(zhì)層，所述前介質(zhì)層完全覆蓋所述透明電極和總線電極；在所述第二基板上涂覆后介質(zhì)層，所述后介質(zhì)層完全覆蓋所述地址電極；將所述第一基板和所述第二基板對合、封排；將覆蓋在透明電極端子和總線電極端子上的前介質(zhì)層材料和覆蓋在地址電極端子表面的后介質(zhì)層材料去除，露出透明電極端子、總線電極端子和地址電極端子。采用本發(fā)明所提供的等離子顯示屏的制作方法時(shí)，各電極端子分別被前介質(zhì)層和后介質(zhì)層完全覆蓋，從而與外界空氣隔離，避免了電極端子在高溫工序時(shí)的氧化過程，高溫工序之后又會(huì)將電極端子表面的前介質(zhì)層材料、后介質(zhì)層材料去除，從而露出電極端子，使得電極端子可以正常使用。如此，本發(fā)明提供的方法所生產(chǎn)的等離子顯示屏的電極端子不會(huì)因氧化而出現(xiàn)電阻變大的現(xiàn)象，即避免了電極端子導(dǎo)電不良甚至失去導(dǎo)電功能的現(xiàn)象出現(xiàn)。以上是本申請的核心思想，下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒景l(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。在下面的描述中闡述了很多具體細(xì)節(jié)以便于充分理解本發(fā)明，但是本發(fā)明還可以采用其他不同于在此描述的其它方式來實(shí)施，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以在不違背本發(fā)明內(nèi)涵的情況下做類似推廣，因此本發(fā)明不受下面公開的具體實(shí)施例的限制。本實(shí)施例公開了一種等離子顯示屏的制作方法，如圖2所示，該方法包括以下步驟S1、提供第一基板和第二基板，且所述第一基板上設(shè)置有透明電極和總線電極，所 述第二基板上設(shè)置有地址電極。本實(shí)施例中所述第一基板和第二基板均為玻璃基板。在對兩基板進(jìn)行清洗后，可在第一基板上沿著縱向以一定的間距設(shè)置透明電極和總線電極，透明電極的形成具體包括在第一基板一側(cè)的主面上通過CVD法形成透明電極層，然后在透明電極層表面涂覆光致刻蝕劑，形成光致刻蝕劑層，將帶有一定圖形的光掩模重疊在上面，經(jīng)過精確對位，進(jìn)行紫外線照射，在光致刻蝕劑層上形成透明電極圖案，經(jīng)顯影后，除去透明電極圖案處的光致刻蝕劑，形成透明電極圖形，再以具有透明電極圖形的光致刻蝕劑層為掩模，通過刻蝕工藝將透明電極圖形下方的透明電極材料去掉，形成透明電極，之后再去除光致刻蝕劑層。所述透明電極圖案為光致刻蝕劑層表面上的二維圖案，圖案區(qū)域并不向下延伸，不具有立體形狀；所述透明電極圖形為具有立體形狀的三維圖形，該圖形的厚度為光致刻蝕劑層的厚度。采用如同制作透明電極的光刻方法在透明電極上形成總線電極。在第二基板上設(shè)置地址電極，具體包括采用如同制作透明電極的光刻方法在第二基板上形成地址電極。S2、在所述第一基板上涂覆前介質(zhì)層，所述前介質(zhì)層完全覆蓋透明電極和總線電極，具體包括在具有透明電極和總線電極的第一基板表面，涂覆包含前介質(zhì)層材料的涂料，所述前介質(zhì)層材料完全覆蓋所述透明電極和總線電極，即使所述透明電極端子和總線電極端子與空氣隔絕，然后，焙燒涂覆的包含前介質(zhì)層材料的涂料，形成前介質(zhì)層。所述前介質(zhì)層的制作材料優(yōu)選為無鉛玻璃材料。之后還包括在所述前介質(zhì)層表面用CVD法涂覆保護(hù)層，所述保護(hù)層并不覆蓋透明電極端子和總線電極端子。所述保護(hù)層的制作材料優(yōu)選為氧化鎂。S3、在所述第二基板上涂覆后介質(zhì)層，所述后介質(zhì)層完全覆蓋所述地址電極。在具有地址電極的第二基板表面涂覆包含后介質(zhì)層材料的涂料，所述后介質(zhì)層材料完全覆蓋所述地址電極，即使所述地址電極端子與空氣隔絕，然后，焙燒涂覆的包含后介質(zhì)層材料的涂料，形成后介質(zhì)層。所述后介質(zhì)層的制作材料優(yōu)選為無鉛玻璃材料。
之后還要在后介質(zhì)層上每隔鄰接的地址電極的間隙形成障壁，該障壁可以通過反復(fù)絲網(wǎng)印刷包含有障壁材料的涂料并進(jìn)行焙燒形成，也可以采用噴砂的方法形成。形成障壁后，在障壁的壁面和兩個(gè)壁面之間露出的后介質(zhì)層的表面上涂覆包含有紅色熒光粉、綠色熒光法和藍(lán)色熒光粉中任何一種材料的涂料并進(jìn)行干燥和焙燒，分別形成突光粉層。S4、將所述第一基板和所述第二基板對合、封排。
對合過程具體包括在第二基板表面的后介質(zhì)層的周邊部分涂覆密封材料，接著將第一基板和第二基板設(shè)置成保護(hù)層與障壁相對的位置，且兩個(gè)基板縱向正交的重疊在一起，在該狀態(tài)將兩基板送入高熱爐，進(jìn)行焙燒，密封材料熔融，將第一基板和第二基板粘合在一起。之后對兩基板進(jìn)行抽真空，充入工作氣體，再進(jìn)行封離作業(yè)。封離過程具體包括封離裝置均勻加熱排氣管封離部分，初步達(dá)到溫度均勻效果；預(yù)熱完成后，封離裝置在排氣管切斷位置連續(xù)加熱，將排氣管切斷位置持續(xù)加熱軟化，按壓封離去除排氣管部分，使其與大氣封離，形成一個(gè)密閉空間；按壓封離后，封離裝置移動(dòng)至排氣管切斷位置加熱，依靠兩基板間與外界的壓力差，排氣管頭部形成圓球形狀，消除內(nèi)部應(yīng)力。可見，在第一基板和第二基板對合、封排等高溫工序時(shí)，透明電極端子和總線電極端子被前介質(zhì)層完全覆蓋，地址電極端子被后介質(zhì)層完全覆蓋，從而各電極端子與外界空氣隔離，避免了各電極端子在高溫環(huán)境下的氧化過程。如此，本發(fā)明提供的方法所生產(chǎn)的等離子顯示屏的電極端子不會(huì)因氧化而出現(xiàn)電阻變大的現(xiàn)象，即避免了電極端子導(dǎo)電不良甚至失去導(dǎo)電功能的現(xiàn)象出現(xiàn)。S5、將覆蓋在所述透明電極端子和總線電極端子表面的前介質(zhì)層材料和覆蓋在地址電極端子表面的后介質(zhì)層材料去除，露出透明電極端子、總線電極端子和地址電極端子。步驟S5具體包括將對合、封排后的第一基板和第二基板送入刻蝕設(shè)備腔室，如圖3和圖4所示，所述第二基板12位于所述第一基板11上方。在刻蝕設(shè)備腔室內(nèi)有第一藥液噴嘴22和第二藥液23噴嘴，所述第一藥液噴嘴22和第二藥液噴嘴23分別設(shè)置在所述刻蝕設(shè)備腔室的頂部和底部，并且第一藥液噴嘴22設(shè)置在搖桿21上，開啟刻蝕設(shè)備腔室內(nèi)的第一藥液噴嘴22和第二藥液噴嘴23，由第一藥液噴嘴22噴出的刻蝕藥液由上至下噴淋到覆蓋在透明電極端子和總線電極端子表面的前介質(zhì)層13上，由第二藥液噴嘴23噴出的刻蝕藥液由下至上噴淋到覆蓋在地址電極端子表面的后介質(zhì)層14上。需要說明的是，本實(shí)施例所選的刻蝕藥液為硝酸，所述硝酸濃度為5. 5% 6.5%，溫度為30°C 40°C，所以透明電極、總線電極和地址電極的制作材料需要為耐酸材料，本實(shí)施例優(yōu)選透明電極的制作材料為氧化銦錫，優(yōu)選總線電極的制作材料為鎘銅鎘，優(yōu)選地址電極的制作材料為銀。在刻蝕設(shè)備腔室內(nèi)部，需要對第一基板和第二基板進(jìn)行定位，以便使所述第一藥液噴嘴可以對準(zhǔn)覆蓋在透明電極端子和總線電極端子表面的前介質(zhì)層材料，所述第一藥液噴嘴隨搖桿一起擺動(dòng)，刻蝕藥液硝酸會(huì)呈錐狀由第一藥液噴嘴噴射出來，在第一基板和第二基板靜止的時(shí)候，刻蝕藥液硝酸即可以0.1MPa-O. 5MPa的噴淋壓力噴淋在覆蓋在透明電極端子和總線電極端子表面的前介質(zhì)層上，從而完成對覆蓋在透明電極端子和總線電極端子表面的前介質(zhì)層的刻蝕，將透明電極端子和總線電極端子裸露出來；之后，第一基板和第二基板會(huì)以設(shè)定好的速度通過刻蝕設(shè)備腔室，本實(shí)施例中，第一基板和第二基板通過刻蝕設(shè)備腔室的速度優(yōu)選為1500mm/s 15000mm/s,在第一基板和第二基板通過刻蝕設(shè)備腔室的整個(gè)過程中，在第一基板下方都會(huì)有柱狀的第二藥液噴嘴將刻蝕藥液硝酸以0.1MPa-O. 5MPa的噴淋壓力噴淋在覆蓋在地址電極端子表面的后介質(zhì)層上，硝酸在噴射時(shí)呈現(xiàn)錐狀，進(jìn)而增大藥液與后介質(zhì)層材料的接觸面積。需要說明的是，第一藥液噴嘴和第二藥液噴嘴可以在刻蝕設(shè)備腔室內(nèi)一直處于開啟狀態(tài)，但是為了節(jié)約刻蝕藥液的使用，可以在第一基板和第二基板定位靜止之后，再開啟第一藥液噴嘴，待覆蓋在透明電極端子和總線電極端子表面的前介質(zhì)層材料刻蝕掉之后，關(guān)閉第一藥液噴嘴直至下一組基板在第一藥液噴嘴下定位靜止，第一基板和第二基板靜止的時(shí)候，第二藥液噴嘴可以是關(guān)閉的，在第一基板和第二基板非靜止?fàn)顟B(tài)時(shí)開啟，以此方法可以節(jié)約刻蝕藥液的使用。

之后還包括清洗步驟，即第一基板和第二基板從刻蝕設(shè)備腔室出來后，覆蓋在透明電極端子、總線電極端子表面的前介質(zhì)層材料和覆蓋在地址電極端子表面上的后介質(zhì)層材料被刻蝕掉，然后，清洗第一基板和第二基板，去除掉殘留在第一基板和第二基板上的刻蝕藥液。以上所述僅是本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施方式，應(yīng)當(dāng)指出，對于本技術(shù)領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說，在不脫離本發(fā)明原理的前提下，還可以做出若干改進(jìn)和潤飾，這些改進(jìn)和潤飾也應(yīng)視為本發(fā)明的保護(hù)范圍。
權(quán)利要求
1.一種等離子顯示屏的制作方法，其特征在于，包括 提供第一基板和第二基板，且所述第一基板上設(shè)置有透明電極和總線電極，所述第二基板上設(shè)置有地址電極； 在所述第一基板上涂覆前介質(zhì)層，所述前介質(zhì)層完全覆蓋所述透明電極和總線電極； 在所述第二基板上涂覆后介質(zhì)層，所述后介質(zhì)層完全覆蓋所述地址電極； 將所述第一基板和所述第二基板對合、封排； 將覆蓋在透明電極端子和總線電極端子表面的前介質(zhì)層材料和覆蓋在地址電極端子表面的后介質(zhì)層材料去除，露出透明電極端子、總線電極端子和地址電極端子。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述方法，其特征在于，所述將覆蓋在透明電極端子和總線電極端子表面的前介質(zhì)層材料和覆蓋在地址電極端子表面的后介質(zhì)層材料去除，具體包括 在所述第一基板和第二基板上噴淋刻蝕藥液，將覆蓋在透明電極端子和總線電極端子表面的前介質(zhì)層材料和覆蓋在地址電極端子表面的后介質(zhì)層材料去除。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述方法，其特征在于，在所述第一基板和第二基板上噴淋刻蝕藥液，具體包括 將所述第一基板和第二基板送入刻蝕設(shè)備腔室，且使得所述第二基板位于所述第一基板上方； 開啟刻蝕設(shè)備腔室內(nèi)的第一藥液噴嘴和第二藥液噴嘴，且所述第一藥液噴嘴和第二藥液噴嘴分別設(shè)置在所述刻蝕設(shè)備腔室的頂部和底部； 由第一藥液噴嘴噴出的刻蝕藥液由上至下噴淋到覆蓋在透明電極端子和總線電極端子表面的前介質(zhì)層上，由第二藥液噴嘴噴出的刻蝕藥液由下至上噴淋到覆蓋在地址電極端子表面的后介質(zhì)層上。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述方法，其特征在于，所述刻蝕藥液的噴淋壓力為O.1MPa O.5MPa。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述方法,其特征在于,所述第一藥液噴嘴設(shè)置在一搖桿上。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述方法，其特征在于，所述第一藥液噴嘴噴出的刻蝕藥液由上至下噴淋到覆蓋在透明電極端子和總線電極端子表面的前介質(zhì)層上時(shí)，設(shè)置使第一基板和第二基板靜止。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述方法，其特征在于，待覆蓋在透明電極端子和總線電極端子表面的前介質(zhì)層被去掉之后，使第一基板和第二基板以設(shè)定的速度通過刻蝕設(shè)備腔室； 所述設(shè)定速度為1500mm/s 15000mm/s。
8.根據(jù)權(quán)利要求3所述方法，其特征在于，所述刻蝕藥液為硝酸。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述方法，其特征在于，所述硝酸濃度為5.5% 6. 5%，硝酸溫度為30°C 40°C。
10.根據(jù)權(quán)利要求1 9任一項(xiàng)所述方法，其特征在于，所述透明電極、總線電極和地址電極的制作材料均為耐酸材料。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種等離子顯示屏的制作方法，包括提供第一基板和第二基板，且所述第一基板上設(shè)置有透明電極和總線電極，所述第二基板上設(shè)置有地址電極；在所述第一基板上涂覆前介質(zhì)層，所述前介質(zhì)層完全覆蓋所述透明電極和總線電極；在所述第二基板上涂覆后介質(zhì)層，所述后介質(zhì)層完全覆蓋所述地址電極；將所述第一基板和所述第二基板對合、封排；將覆蓋在透明電極端子和總線電極端子上的前介質(zhì)層材料和覆蓋在地址電極端子表面的后介質(zhì)層材料去除，露出透明電極端子、總線電極端子和地址電極端子。本發(fā)明提供的方法避免了等離子顯示屏在生產(chǎn)過程中電極端子的氧化，即避免了電極端子電阻變大、導(dǎo)電不良甚至失去導(dǎo)電功能的現(xiàn)象出現(xiàn)。
文檔編號H01J9/02GK103000474SQ20111027518
公開日2013年3月27日 申請日期2011年9月16日 優(yōu)先權(quán)日2011年9月16日
發(fā)明者邵林飛 申請人:安徽鑫昊等離子顯示器件有限公司