觸控面板上形成透明導電線路的蝕刻系統的制作方法
【專利摘要】本實用新型涉及一種蝕刻系統，具體的說是一種觸控面板上形成透明導電線路的蝕刻系統，包含帶有透明導電鍍層的觸控面板、將所述觸控面板上的透明導電鍍層形成透明導電線路的蝕刻裝置，所述蝕刻裝置包含鐳射頭，所述觸控面板上的透明導電鍍層在所述鐳射頭的照射下燒灼形成所述透明導電線路。本實用新型的實施方式，采用鐳射方式蝕刻線路，根據所需要的透明導電線路，將所述觸控面板上需要去除的透明導電鍍層用鐳射方式去除，剩余部分的透明導電鍍層形成觸控面板的透明導電線路。同現有技術相比，因簡化了蝕刻工藝，所以使生產成本大大降低，而且由于鐳射蝕刻的特性是具有很高的精度，所以可以在觸控面板上實現制作高精度的透明導電線路。
【專利說明】觸控面板上形成透明導電線路的蝕刻系統
【技術領域】
[0001]本實用新型涉及一種蝕刻系統，具體的說是一種觸控面板上形成透明導電線路的蝕刻系統。
【背景技術】
[0002]由于如今科技發展之快，其觸控設備的普及率越來越高，比如手機、平板電腦、電視等設備都可以進行觸控操作。目前市場上大多數的觸控設備一般都設置有一塊觸控面板，用戶可通過觸控面板對相關設備進行操作，去除了相關設備上的功能按鍵，不僅提高了設備的一體化程度，而且增加了人機的互動性。
[0003]觸控面板的工作原理是，在觸控面板的表面復合有ITO導電薄膜，并通過蝕刻工藝，將ITO導電薄膜中的線路蝕刻出來，觸控面板根據根據蝕刻出的線路進行工作。
[0004]而目前的蝕刻工藝一般采用濕蝕刻，其方式有兩種:
[0005]方式一，在帶有ITO薄膜的觸控面板表面涂上光刻膠，然后用菲林遮蓋，菲林上預先設計有表示觸控面板的ITO線路，菲林在經曝光后去除，其中表示觸控面板的ITO線路部分會在光刻膠上顯影出來，把未被顯影出來的光刻膠部分去除后，再用藥水對該部分的ITO薄膜進行蝕刻，清洗后，在觸控面板表面會留下所需要的ITO線路。
[0006]上述蝕刻方式的弊端在于:
[0007]1、工藝復雜，對生產環境要求很高；
[0008]2.該工藝對設備的要求非常高，生產成本相對較高；
[0009]3.工藝的步驟較多，對產品的良率有極大限制；
[0010]4.對蝕刻后的ITO線路的外觀良率控制要求高。
[0011]方式二，在帶有ITO薄膜的觸控面板表面印刷有耐酸油墨，烘干后再用藥水進行蝕刻，清洗后，在觸控面板的表面留下所需要的ITO線路。
[0012]上述蝕刻方式的弊端在于:因沒有預先設計ITO線路，所以在蝕刻時的精度低、對蝕刻線路寬度要求較高，做不了高精度線路。
實用新型內容
[0013]本實用新型為了克服現有技術的不足，設計了一種觸控面板上形成透明導電線路的蝕刻系統，使其蝕刻在保證高精度的同時，簡化了蝕刻的工藝步驟，并且提高了對產品的良率。
[0014]為了實現上述目的，本實用新型提供了一種觸控面板上形成透明導電線路的蝕刻系統，包含帶有透明導電鍍層的觸控面板、將所述觸控面板上的透明導電鍍層形成透明導電線路的蝕刻裝置，所述蝕刻裝置包含鐳射頭，所述觸控面板上的透明導電鍍層在所述鐳射頭的照射下燒灼形成所述透明導電線路。
[0015]本實用新型的實施方式，采用鐳射方式蝕刻線路，根據所需要的透明導電線路，將所述觸控面板上需要去除的透明導電鍍層用鐳射方式去除，剩余部分的透明導電鍍層形成觸控面板的透明導電線路。同現有技術相比，因簡化了蝕刻工藝，所以使生產成本大大降低，而且由于鐳射蝕刻的特性是具有很高的精度，所以可以在觸控面板上實現制作高精度的透明導電線路。
[0016]優選的，所述透明導電鍍層為銦錫氧化物ITO薄膜、碳納米管薄膜或納米銀薄膜。用戶可以根據需求進行選擇。
[0017]優選的，所述鐳射頭的鐳射線波長為800nm-1500nm。鐳射頭的掃描速度為800mm/s-2000mm/s,頻率為80khz_250khz。鐳射線寬0.0lmm-0.05mm。以適應各種蝕刻線路的工
藝要求。
[0018]優選的，所述觸控面板為電容式觸摸屏中的觸控面板。所述電容式觸摸屏通過觸控面板上的透明導電線路進行工作。該電容式觸摸屏可用于手機、平板電腦、電視等設備，以滿足市場的需求。
[0019]優選的，所述觸控面板為基于聚碳酸酯PC面板的觸控面板、或基于聚對苯二甲酸乙二醇酯PET面板的的觸控面板、或基于玻璃GLASS面板的觸控面板。以滿足市場的需求。
【專利附圖】

【附圖說明】、
[0020]圖1為現有蝕刻系統的結構示意圖；
[0021]圖2為本實用新型第一實施方式的結構示意圖。
【具體實施方式】
[0022]為使本實用新型的目的、技術方案和優點更加清楚，下面將結合附圖對本實用新型的各實施方式進行詳細的闡述。然而，本領域的普通技術人員可以理解，在本實用新型各實施方式中，為了使讀者更好地理解本申請而提出了許多技術細節。但是，即使沒有這些技術細節和基于以下各實施方式的種種變化和修改，也可以實現本申請各權利要求所要求保護的技術方案。
[0023]如圖1所示，現有的工藝在帶有ITO薄膜的觸控面板I的表面涂上光刻膠，然后用菲林遮蓋，菲林上預先設計有表示觸控面板的ITO線路，菲林在經曝光后去除，其中表示觸控面板的ITO線路部分會在光刻膠上顯影出來，把未被顯影出來的光刻膠部分去除后，通過藥水噴頭2對去除光膠部分的ITO薄膜噴灑藥水進行蝕刻，清洗后，在觸控面板表面會留下所需要的ITO線路。
[0024]上述蝕刻方式的弊端在于:
[0025]1、工藝復雜，對生產環境要求很高；
[0026]2.該工藝對設備的要求非常高，生產成本相對較高；
[0027]3.工藝的步驟較多，對產品的良率有極大限制；
[0028]4.對蝕刻后的ITO線路的外觀良率控制要求高。
[0029]本實用新型的第一實施方式涉及一種觸控面板上形成透明導電線路的蝕刻系統。如圖2所示，包含帶有透明導電鍍層的觸控面板3、將所述觸控面板3上的透明導電鍍層形成透明導電線路的蝕刻裝置，所述蝕刻裝置包含鐳射頭4，所述觸控面板3上的透明導電鍍層在所述鐳射頭的照射下燒灼形成所述透明導電線路。
[0030]本實施方式是采用鐳射方式蝕刻線路，根據所需要的透明導電線路，將所述觸控面板3上需要去除的透明導電鍍層用鐳射方式去除，剩余部分形成觸控面板3的透明導電線路。同現有技術相比，因簡化了蝕刻工藝，所以使生產成本大大降低，而且由于鐳射蝕刻的特性是具有很高精度，所以可以在觸控面板3上實現高精度的透明導電線路。
[0031]另外，本實施方式中的透明導電鍍層可以使用銦錫氧化物ITO薄膜、碳納米管薄膜或納米銀薄膜。用戶可以根據實際的需求進行選擇。
[0032]另外，在本實施方式中，鐳射頭4的鐳射線波長為800nm-1500nm。鐳射頭4的掃描速度為800mm/s-2000mm/s,頻率為80khz_250khz。儀射線寬為0.0lmm-0.05mm。以適應各種蝕刻線路的工藝要求。
[0033]本實用新型的第二實施方式涉及一種電容式觸摸屏，第二實施方式是在第一實施方式的基礎上做了進一步改進。具體改進為，觸控面板3可作為電容式觸摸屏中的觸控面板。所述電容式觸摸屏通過觸控面板上的透明導電線路進行工作。該電容式觸摸屏可用于手機、平板電腦、電視等設備，以滿足市場的需求。并且觸控面板為基于聚碳酸酯PC面板的觸控面板、或基于聚對苯二甲酸乙二醇酯PET面板的觸控面板、或基于玻璃GLASS面板的觸控面板。以滿足市場的需求。
[0034]本領域的普通技術人員可以理解，上述各實施方式是實現本實用新型的具體實施例，而在實際應用中，可以在形式上和細節上對其作各種改變，而不偏離本實用新型的精神和范圍。
【權利要求】
1.一種觸控面板上形成透明導電線路的蝕刻系統，包含帶有透明導電鍍層的觸控面板、將所述觸控面板上的透明導電鍍層形成透明導電線路的蝕刻裝置，其特征在于:所述蝕刻裝置包含鐳射頭，所述觸控面板上的透明導電鍍層在所述鐳射頭的照射下燒灼形成所述透明導電線路。
2.根據權利要求1所述的觸控面板上形成透明導電線路的蝕刻系統，其特征在于:所述透明導電鍍層為:銦錫氧化物ITO薄膜、碳納米管薄膜或納米銀薄膜。
3.根據權利要求1所述的觸控面板上形成透明導電線路的蝕刻系統，其特征在于:所述觸控面板為電容式觸摸屏中的觸控面板。
4.根據權利要求1至3中任意一項所述的觸控面板上形成透明導電線路的蝕刻系統，其特征在于:所述觸控面板為基于聚碳酸酯PC面板的觸控面板。
5.根據權利要求1至3中任意一項所述的觸控面板上形成透明導電線路的蝕刻系統，其特征在于:所述觸控面板為基于聚對苯二甲酸乙二醇酯PET面板的觸控面板。
6.根據權利要求1至3中任意一項所述的觸控面板上形成透明導電線路的蝕刻系統，其特征在于:所述觸控面板為基于玻璃GLASS面板的觸控面板。
7.根據權利要求1至3中任意一項所述的觸控面板上形成透明導電線路的蝕刻系統，其特征在于:所述鐳射頭為鐳射線波長為800nm-1500nm的鐳射頭。
8.根據權利要求7所述的觸控面板上形成透明導電線路的蝕刻系統，其特征在于:所述鐳射頭為掃描速度為800mm/s-2000mm/s，頻率為80khz-250khz的鐳射頭。
9.根據權利要求7所述的觸控面板上形成透明導電線路的蝕刻系統，其特征在于:所述錯射頭為錯射線寬為0.0lmm-0.05mm的錯射頭。
【文檔編號】B23K26/36GK203390394SQ201320346979
【公開日】2014年1月15日 申請日期:2013年6月18日 優先權日:2013年6月18日
【發明者】劉振國, 唐民超 申請人:蘇州市健邦觸摸屏技術有限公司