本發(fā)明涉及能夠?qū)丈浼す夤饩€而形成加工槽的激光加工裝置。
背景技術(shù):
作為被分割預(yù)定線劃分而在正面上形成有IC、LSI等多個(gè)器件的晶片,在通過激光加工裝置沿著分割預(yù)定線照射激光光線而形成槽而被分割成各個(gè)器件之后,被用于各種電子設(shè)備等。
上述激光加工裝置構(gòu)成為包含:卡盤工作臺(tái),其對(duì)晶片進(jìn)行保持;激光光線照射構(gòu)件,其具有對(duì)保持在卡盤工作臺(tái)上的晶片照射激光光線的聚光器;加工進(jìn)給構(gòu)件,其對(duì)卡盤工作臺(tái)和激光光線照射構(gòu)件在X軸方向上進(jìn)行相對(duì)地加工進(jìn)給;分度進(jìn)給構(gòu)件,其在與X軸方向垂直的Y軸方向上對(duì)卡盤工作臺(tái)和激光光線照射構(gòu)件相對(duì)地進(jìn)行分度進(jìn)給;拍攝單元,其對(duì)加工區(qū)域進(jìn)行拍攝;以及控制器,該激光加工裝置例如能夠沿著寬度大約為50μm左右的分割預(yù)定線照射激光光線而實(shí)施燒蝕加工并高精度地形成槽(例如,參照專利文獻(xiàn)1)。
在此,作為沿著分割預(yù)定線形成的槽,例如在如下的情況下形成:以槽作為起點(diǎn)將晶片分割成各個(gè)器件的情況(例如,參照專利文獻(xiàn)2),或者將在分割預(yù)定線上層疊有低介電常數(shù)絕緣體覆蓋膜(Low-k)的膜去除的情況(例如,參照專利文獻(xiàn)3)。并且,在任意一種的情況下,由于各器件與分割預(yù)定線相鄰而形成,所以需要確保通過燒蝕加工而形成的槽不超出分割預(yù)定線的寬度而是限制在其內(nèi)側(cè)。
專利文獻(xiàn)1:日本特開2006-245467號(hào)公報(bào)
專利文獻(xiàn)2:日本特開2007-19252號(hào)公報(bào)
專利文獻(xiàn)3:日本特開2007-173475號(hào)公報(bào)
但是,存在如下問題:在激光加工裝置所具有的在X軸方向上對(duì)卡盤工作臺(tái)和激光光線照射構(gòu)件相對(duì)地進(jìn)行加工進(jìn)給的加工進(jìn)給構(gòu)件中,在產(chǎn)生了向Y軸方向的偏轉(zhuǎn)(旋轉(zhuǎn)振動(dòng))的情況下,激光光線會(huì)偏離分割預(yù)定線而照射,由此損傷器件。因 此,產(chǎn)生了如下的課題:在使用激光加工裝置對(duì)晶片照射激光光線實(shí)施燒蝕加工而形成槽的情況下,即使在加工進(jìn)給構(gòu)件中產(chǎn)生了Y軸方向上的偏轉(zhuǎn),也能夠?qū)υ撈D(zhuǎn)是否在容許值的范圍內(nèi)進(jìn)行檢測(cè)。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本發(fā)明的目的在于提供一種激光加工裝置,對(duì)在加工進(jìn)給構(gòu)件中產(chǎn)生了偏轉(zhuǎn)的情況是否在容許范圍內(nèi)進(jìn)行檢測(cè)。
根據(jù)本發(fā)明,提供激光加工裝置,對(duì)在由互相交叉的多條分割預(yù)定線劃分的各區(qū)域內(nèi)形成有器件的晶片照射激光光線而對(duì)分割預(yù)定線實(shí)施燒蝕加工而形成槽,其中,該激光加工裝置具有:卡盤工作臺(tái),其對(duì)晶片進(jìn)行保持;激光光線照射構(gòu)件,其具有對(duì)保持在該卡盤工作臺(tái)上的晶片照射激光光線的聚光器;加工進(jìn)給構(gòu)件,其在X軸方向上對(duì)該卡盤工作臺(tái)和該激光光線照射構(gòu)件相對(duì)地進(jìn)行加工進(jìn)給;分度進(jìn)給構(gòu)件,其在與X軸方向垂直的Y軸方向上對(duì)該卡盤工作臺(tái)和該激光光線照射構(gòu)件相對(duì)地進(jìn)行分度進(jìn)給;拍攝單元,其對(duì)加工區(qū)域進(jìn)行拍攝;以及控制器,該控制器包含:目標(biāo)圖案檢測(cè)部,其根據(jù)由該拍攝單元拍攝到的圖像所包含的圖案與關(guān)鍵圖案的匹配來檢測(cè)目標(biāo)圖案;間隔檢測(cè)部,其對(duì)該目標(biāo)圖案與通過燒蝕加工而形成的該槽在Y軸方向上的間隔進(jìn)行檢測(cè);以及映射制作部,其使該加工進(jìn)給構(gòu)件進(jìn)行動(dòng)作而使保持在該卡盤工作臺(tái)上的晶片相對(duì)于該拍攝單元在X軸方向上移動(dòng)來實(shí)施該目標(biāo)圖案檢測(cè)部對(duì)該目標(biāo)圖案的檢測(cè)和該間隔檢測(cè)部對(duì)該間隔的檢測(cè),從而制作針對(duì)各目標(biāo)圖案的示出該間隔的映射。
優(yōu)選所述激光加工裝置的控制器還包含合格與否判定部,該合格與否判定部根據(jù)所述映射制作部所制作的映射,對(duì)與多個(gè)器件分別對(duì)應(yīng)的所述目標(biāo)圖案與通過燒蝕加工而形成的所述槽在Y軸方向上的各間隔的最大值與最小值的差是否在容許范圍內(nèi)進(jìn)行判定,如果在容許范圍內(nèi)則判定為精度合格,如果在容許范圍外則判定為精度不合格。
優(yōu)選控制器還包含位置校正部,該位置校正部根據(jù)所述映射制作部所制作的映射使所述分度進(jìn)給構(gòu)件進(jìn)行動(dòng)作而對(duì)照射到分割預(yù)定線的激光光線的Y軸方向的位置進(jìn)行校正。
關(guān)于本發(fā)明的激光加工裝置,激光加工裝置所具有的控制器包含:目標(biāo)圖案檢測(cè) 部,其根據(jù)由該拍攝單元拍攝到的圖像所包含的圖案與關(guān)鍵圖案的匹配來檢測(cè)目標(biāo)圖案;間隔檢測(cè)部,其對(duì)該目標(biāo)圖案與通過燒蝕加工而形成的該槽在Y軸方向上的間隔進(jìn)行檢測(cè);以及映射制作部,其使該加工進(jìn)給構(gòu)件進(jìn)行動(dòng)作而使保持在該卡盤工作臺(tái)上的晶片相對(duì)于該拍攝單元在X軸方向上移動(dòng)來實(shí)施該目標(biāo)圖案檢測(cè)部對(duì)該目標(biāo)圖案的檢測(cè)和該間隔檢測(cè)部對(duì)該間隔的檢測(cè),從而制作針對(duì)各目標(biāo)圖案的示出該間隔的映射,由此,,即使在加工進(jìn)給構(gòu)件中產(chǎn)生了Y軸方向上的偏轉(zhuǎn),也能夠根據(jù)所制作的映射來確認(rèn)產(chǎn)生的偏轉(zhuǎn)是否在容許值的范圍內(nèi)。
并且,關(guān)于本發(fā)明的激光加工裝置,在激光加工裝置所具有的控制器中除了上述的結(jié)構(gòu)外,還具有合格與否判定部,該合格與否判定部根據(jù)映射制作部所制作的映射,對(duì)與多個(gè)器件分別對(duì)應(yīng)的所述目標(biāo)圖案與通過燒蝕加工而形成的所述槽在Y軸方向上的各間隔的最大值與最小值的差是否在容許范圍內(nèi)進(jìn)行判定,如果在容許范圍內(nèi)則判定為精度合格,如果在容許范圍外則判定為精度不合格,由此,即使在加工進(jìn)給構(gòu)件中產(chǎn)生了Y軸方向上的偏轉(zhuǎn),也能夠在該偏轉(zhuǎn)偏離了容許值的范圍的情況下判定出精度不合格,操作者對(duì)加工進(jìn)給構(gòu)件進(jìn)行修理或者更換而將加工進(jìn)給構(gòu)件中產(chǎn)生的偏轉(zhuǎn)顯著在容許范圍內(nèi),由此,能夠防止從激光加工裝置所具有的激光照射構(gòu)件照射的激光光線偏離分割預(yù)定線照射而使器件損傷。
進(jìn)而,關(guān)于本發(fā)明的激光加工裝置,在激光加工裝置所具有的控制器中除了上述的結(jié)構(gòu)外,還具有位置校正部,該位置校正部根據(jù)映射制作部所制作的映射使分度進(jìn)給構(gòu)件進(jìn)行動(dòng)作而對(duì)照射到分割預(yù)定線的激光光線的Y軸方向的位置進(jìn)行校正,由此,根據(jù)由映射制作部制作的映射,以能夠消除加工進(jìn)給構(gòu)件中產(chǎn)生的偏轉(zhuǎn)的方式使分度進(jìn)給構(gòu)件進(jìn)行動(dòng)作,由此,能夠?qū)φ丈涞椒指铑A(yù)定線的激光光線的Y軸方向的位置進(jìn)行校正。因此,不用對(duì)加工進(jìn)給構(gòu)件進(jìn)行修理或者更換便將加工進(jìn)給構(gòu)件中產(chǎn)生的偏轉(zhuǎn)限制在容許范圍內(nèi),由此能夠防止從激光加工裝置所具有的激光照射構(gòu)件照射的激光光線偏離分割預(yù)定線照射而使器件損傷。
附圖說明
圖1是示出激光加工裝置的一例的立體圖。
圖2是示出晶片隔著粘合帶被支承于框架的狀態(tài)的立體圖。
圖3是示出包含關(guān)鍵圖案的圖像的例子的說明圖。
圖4是將晶片的正面的一部分放大而示出的俯視圖。
圖5是示出對(duì)晶片照射激光光線而在分割預(yù)定線上形成燒蝕槽的狀態(tài)的立體圖。
圖6是示出通過拍攝單元對(duì)晶片的正面上的包含有沿著分割預(yù)定線所形成的燒蝕槽和形成于器件的目標(biāo)圖案的區(qū)域進(jìn)行拍攝的狀態(tài)的立體圖。
圖7是將形成有燒蝕槽的晶片的正面的一部分放大而示出的俯視圖。
圖8是由映射制作部制作的示出每個(gè)目標(biāo)圖案的間隔的映射。
標(biāo)號(hào)說明
2:激光加工裝置;21:加工進(jìn)給構(gòu)件;210:滾柱絲杠;211:導(dǎo)軌;212:脈沖電動(dòng)機(jī);213:可動(dòng)板;22:分度進(jìn)給構(gòu)件;220:滾柱絲杠;221:導(dǎo)軌;222:脈沖電動(dòng)機(jī);223:可動(dòng)板;23:壁部;40:卡盤工作臺(tái);400:吸附部;400a:保持面;401:殼體;41:罩;42:固定構(gòu)件;43:旋轉(zhuǎn)構(gòu)件;70:拍攝單元;71:顯示構(gòu)件;8:激光光線照射構(gòu)件;80:外殼;81:聚光器;81a:聚光透鏡;9:控制器;90:目標(biāo)圖案檢測(cè)部;91:間隔檢測(cè)部;92:映射制作部;93:合格與否判定部;94:位置校正部;W:晶片;Wa:晶片的正面;Wb:晶片的背面;S:分割預(yù)定線;So:在X軸方向上延伸的分割預(yù)定線的中心線;Lo:基準(zhǔn)間隔;D:器件;F:環(huán)狀框架;M:燒蝕槽;P:關(guān)鍵圖案。
具體實(shí)施方式
圖1所示的激光加工裝置2是通過激光光線照射構(gòu)件8對(duì)晶片W照射激光光線的裝置,其中,該晶片W隔著粘合帶T被環(huán)狀框架F支承并被保持在卡盤工作臺(tái)40上。
在激光加工裝置2的基臺(tái)20的前方(-Y方向側(cè))具有加工進(jìn)給構(gòu)件21,該加工進(jìn)給構(gòu)件21相對(duì)于激光光線照射構(gòu)件8在X軸方向上對(duì)卡盤工作臺(tái)40進(jìn)行加工進(jìn)給。加工進(jìn)給構(gòu)件21包含:滾柱絲杠210,其具有X軸方向的軸心;一對(duì)導(dǎo)軌211,其與滾柱絲杠210平行配設(shè);脈沖電動(dòng)機(jī)212,其使?jié)L柱絲杠210轉(zhuǎn)動(dòng);以及可動(dòng)板213,其內(nèi)部的螺母與滾柱絲杠210螺合且底部與導(dǎo)軌211滑動(dòng)連接。并且,當(dāng)脈沖電動(dòng)機(jī)212使?jié)L柱絲杠210轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí),與此相伴可動(dòng)板213被導(dǎo)軌211引導(dǎo)而在X軸方向上移動(dòng),配設(shè)在可動(dòng)板213上的卡盤工作臺(tái)40隨著可動(dòng)板213的移動(dòng)而在X軸方向上移動(dòng),由此對(duì)保持在卡盤工作臺(tái)40上的晶片W進(jìn)行加工進(jìn)給。脈沖電動(dòng)機(jī) 212與控制器9連接,例如,根據(jù)從控制器9所具有的未圖示的脈沖振蕩器提供的脈沖信號(hào)而進(jìn)行動(dòng)作。并且控制器9對(duì)所提供的脈沖信號(hào)進(jìn)行計(jì)數(shù),由此來識(shí)別卡盤工作臺(tái)40的加工進(jìn)給量,并對(duì)卡盤工作臺(tái)40的X軸方向的位置進(jìn)行控制。
卡盤工作臺(tái)40具有吸附晶片的吸附部400和對(duì)吸附部400進(jìn)行支承的殼體401。吸附部400與未圖示的吸引源連通,將晶片W吸引保持在吸附部400的露出面即保持面400a上。卡盤工作臺(tái)40被罩41從周圍包圍,被配設(shè)在卡盤工作臺(tái)40的底面?zhèn)鹊男D(zhuǎn)構(gòu)件43驅(qū)動(dòng)而能夠旋轉(zhuǎn)。并且,在卡盤工作臺(tái)40的周圍配設(shè)有對(duì)環(huán)狀框架F進(jìn)行固定的固定構(gòu)件42。
卡盤工作臺(tái)40能夠通過加工進(jìn)給構(gòu)件21而在X軸方向上往復(fù)移動(dòng),并且能夠通過配設(shè)在卡盤工作臺(tái)40的下方的分度進(jìn)給構(gòu)件22而在與X軸方向垂直的Y軸方向上進(jìn)行分度進(jìn)給。分度進(jìn)給構(gòu)件22包含:滾柱絲杠220,其具有Y軸方向的軸心;一對(duì)導(dǎo)軌221,其與滾柱絲杠220平行配設(shè);脈沖電動(dòng)機(jī)222,其使?jié)L柱絲杠220轉(zhuǎn)動(dòng);以及可動(dòng)板223,其內(nèi)部的螺母與滾柱絲杠220螺合且底部與導(dǎo)軌221滑動(dòng)連接。并且,當(dāng)脈沖電動(dòng)機(jī)222使?jié)L柱絲杠220轉(zhuǎn)動(dòng)時(shí),與此相伴可動(dòng)板223被導(dǎo)軌221引導(dǎo)而在Y軸方向上移動(dòng),配設(shè)在可動(dòng)板223上的卡盤工作臺(tái)40隨著可動(dòng)板223的移動(dòng)而在Y軸方向上移動(dòng)并被分度進(jìn)給,由此對(duì)保持在卡盤工作臺(tái)40上的晶片W進(jìn)行分度進(jìn)給。脈沖電動(dòng)機(jī)222與控制器9連接,例如,根據(jù)從控制器9所具有的未圖示的脈沖振蕩器提供的脈沖信號(hào)而進(jìn)行動(dòng)作。并且控制器9對(duì)所提供的脈沖信號(hào)數(shù)進(jìn)行計(jì)數(shù),由此來識(shí)別卡盤工作臺(tái)40的分度進(jìn)給量,并對(duì)卡盤工作臺(tái)40的Y軸方向上的位置進(jìn)行控制。
在激光加工裝置2的基臺(tái)20的后方(+Y方向側(cè))豎立設(shè)置有壁部23,在壁部23的側(cè)面配設(shè)有激光光線照射構(gòu)件8,該激光光線照射構(gòu)件8具有照射激光光線的聚光器81。
在激光光線照射構(gòu)件8的外殼80內(nèi)配設(shè)有未圖示的激光振蕩器,在外殼80的前端的下表面上安裝有用于對(duì)從激光振蕩器振蕩出的激光光線進(jìn)行會(huì)聚的聚光器81。聚光器81通過聚光器81的內(nèi)部所具有的未圖示的鏡而使從激光振蕩器振蕩出的激光光線反射并使其入射到聚光透鏡81a,由此能夠?qū)⒓す夤饩€會(huì)聚在晶片W的正面而實(shí)施燒蝕加工。
如圖1所示,例如,在卡盤工作臺(tái)40的移動(dòng)路徑的上方且在聚光器81的附近配 設(shè)有對(duì)晶片W的加工區(qū)域進(jìn)行拍攝的拍攝單元70。拍攝單元70例如包含顯微鏡和使用了CCD圖像傳感器的照相機(jī)等。拍攝單元70所拍攝的拍攝圖像被顯示在例如配設(shè)在外殼80上的顯示器等顯示構(gòu)件71上,由此操作者能夠進(jìn)行確認(rèn)。
圖2所示的晶片W為例如圓形狀的半導(dǎo)體晶片,在晶片W的正面Wa上,在由例如寬度大約為50μm的分割預(yù)定線S劃分的格子狀的區(qū)域內(nèi)形成有多個(gè)器件D。晶片W以隔著粘合帶T被環(huán)狀框架F支承的狀態(tài)被保持在圖1所示的激光加工裝置2所具有的卡盤工作臺(tái)40上。另外,晶片W的形狀和種類并不僅限于本實(shí)施方式。
在晶片W的各器件D上形成有相同的回路圖案。并且,預(yù)先將形成在各器件D的正面上的回路圖案中的具有特征形狀的一個(gè)圖案選定為例如圖3所示的關(guān)鍵圖案P,在控制器9中存儲(chǔ)有顯現(xiàn)該關(guān)鍵圖案P的圖像70a。對(duì)于形成在晶片W的正面Wa上的多個(gè)器件D的各個(gè)而言,關(guān)鍵圖案P形成在同樣的位置。雖然圖3的例子的關(guān)鍵圖案P形成為L(zhǎng)字型,但并不限定于該形狀。
控制器9例如至少具有CPU和存儲(chǔ)器等存儲(chǔ)元件,還具有:目標(biāo)圖案檢測(cè)部90,其根據(jù)包含在由拍攝單元70拍攝到的圖像中的圖案與圖3所示的關(guān)鍵圖案P的匹配來檢測(cè)與關(guān)鍵圖案P相同形狀的目標(biāo)圖案;間隔檢測(cè)部91,其對(duì)目標(biāo)圖案與通過燒蝕加工而形成在分割預(yù)定線S上的燒蝕槽在Y軸方向上的間隔進(jìn)行檢測(cè);映射制作部92,其使加工進(jìn)給構(gòu)件21進(jìn)行動(dòng)作并使保持在卡盤工作臺(tái)40上的晶片W相對(duì)于拍攝單元70在X軸方向上移動(dòng)而針對(duì)各目標(biāo)圖案制作映射(map),該映射示出目標(biāo)圖案與通過燒蝕加工而形成在分割預(yù)定線S上的燒蝕槽在Y軸方向上的間隔;合格與否判定部93,其根據(jù)映射制作部92所制作的映射對(duì)與多個(gè)器件D分別對(duì)應(yīng)的目標(biāo)圖案和燒蝕槽在Y軸方向上的各間隔的最大值與最小值的差是否在容許范圍內(nèi)進(jìn)行檢測(cè),如果在容許范圍內(nèi)則判定為精度合格,如果在容許范圍外則判定為精度不合格;以及位置校正部94,其根據(jù)由映射制作部92制作的映射使分度進(jìn)給構(gòu)件22進(jìn)行動(dòng)作而對(duì)激光光線的Y軸方向的位置進(jìn)行校正。
目標(biāo)圖案檢測(cè)部90例如存儲(chǔ)有圖3所示的圖像70a。并且,圖4所示的目標(biāo)圖案P1與在X軸方向上延伸的分割預(yù)定線S的位置關(guān)系,即,分割預(yù)定線S的中心線So與目標(biāo)圖案P1之間的一定的基準(zhǔn)間隔Lo也預(yù)先存儲(chǔ)于目標(biāo)圖案檢測(cè)部90。
以下,對(duì)從激光光線照射構(gòu)件8對(duì)圖1所示的晶片W照射激光光線而對(duì)分割預(yù)定線S實(shí)施燒蝕加工從而形成燒蝕槽的情況下的激光加工裝置2的動(dòng)作進(jìn)行說明。
(1)激光光線照射工序
為了通過激光加工裝置2所具有的映射制作部92來制作上述映射,需要通過燒蝕加工而形成的至少1條燒蝕槽。因此,例如,通過使用激光加工裝置2對(duì)晶片W照射激光光線從而對(duì)分割預(yù)定線S實(shí)施燒蝕加工而形成1條燒蝕槽。另外,關(guān)于在本工序中實(shí)施燒蝕加工的分割預(yù)定線S,例如選擇最長(zhǎng)且與最多的器件D相鄰的分割預(yù)定線S中的一條即圖5所示的在X軸方向上延伸的分割預(yù)定線S1。另外,也可以代替晶片W而使用試驗(yàn)用的晶片。
首先,對(duì)圖1所示的激光加工裝置2所具有的卡盤工作臺(tái)40的保持面400a和粘接在晶片W的背面Wb側(cè)的粘合帶T以對(duì)置的方式進(jìn)行定位,并將隔著粘合帶T被環(huán)狀框架F支承的晶片W載置到卡盤工作臺(tái)40上。并且,通過配設(shè)在卡盤工作臺(tái)40的周圍的固定構(gòu)件42將環(huán)狀框架F固定,并使與卡盤工作臺(tái)40連接的未圖示的吸引源進(jìn)行動(dòng)作而將晶片W吸引保持在卡盤工作臺(tái)40上。
接著,在通過加工進(jìn)給構(gòu)件21在-X方向上對(duì)保持在卡盤工作臺(tái)40上的晶片W進(jìn)行輸送而將晶片W定位于拍攝單元70的正下方之后,通過拍攝單元70對(duì)晶片W的待加工的區(qū)域進(jìn)行拍攝。由拍攝單元70拍攝的拍攝圖像作為數(shù)字信號(hào)被輸送至與拍攝單元70連接的控制器9所具有的目標(biāo)圖案檢測(cè)部90。
目標(biāo)圖案檢測(cè)部90根據(jù)輸送來的拍攝圖像進(jìn)行對(duì)形成在各個(gè)器件D的正面上的圖案與存儲(chǔ)在目標(biāo)圖案檢測(cè)部90中的圖3所示的關(guān)鍵圖案P的匹配,并檢測(cè)圖4所示的目標(biāo)圖案P1,根據(jù)預(yù)先存儲(chǔ)在目標(biāo)圖案檢測(cè)部90中的信息、即圖4所示的在X軸方向上延伸的分割預(yù)定線S的中心線So與目標(biāo)圖案P1之間的一定的基準(zhǔn)間隔Lo來檢測(cè)在X軸方向上延伸的一條分割預(yù)定線S1的位置。隨著檢測(cè)出分割預(yù)定線S1,從圖1所示的控制器9所具有的脈沖振蕩器對(duì)分度進(jìn)給構(gòu)件22所具有的脈沖電動(dòng)機(jī)222提供規(guī)定的量的脈沖信號(hào),由此,通過分度進(jìn)給構(gòu)件22在Y軸方向上驅(qū)動(dòng)卡盤工作臺(tái)40,進(jìn)行分割預(yù)定線S1與激光光線照射構(gòu)件8所具有的聚光器81的Y軸方向上的對(duì)位。該對(duì)位例如以分割預(yù)定線S1的中心線So位于聚光器81所具有的聚光透鏡81a的正下方的方式來進(jìn)行。
在進(jìn)行了分割預(yù)定線S1與聚光器81的Y軸方向上的對(duì)位之后,如圖5所示,使從聚光器81照射的激光光線的聚光點(diǎn)與分割預(yù)定線S1的中心線So一致。并且,一邊沿著分割預(yù)定線S1的中心線So照射激光光線,一邊對(duì)晶片W在-X方向上以 100mm/秒的速度進(jìn)行加工進(jìn)給,對(duì)分割預(yù)定線S1實(shí)施燒蝕加工。這樣,在分割預(yù)定線S1上形成燒蝕槽M。并且,例如,當(dāng)使晶片W在-X方向上行進(jìn)至對(duì)在X軸方向上延伸的一條分割預(yù)定線S1的全長(zhǎng)完成照射激光光線的X軸方向的規(guī)定的位置之后,暫時(shí)停止對(duì)晶片W在-X方向上的加工進(jìn)給,并朝向+X方向送出卡盤工作臺(tái)40而使卡盤工作臺(tái)40回到原來的位置。
例如,按照以下的激光加工條件來實(shí)施上述激光光線的照射。
(2)目標(biāo)圖案檢測(cè)工序
當(dāng)如上述的那樣對(duì)在X軸方向上延伸的一條分割預(yù)定線S1實(shí)施燒蝕加工而形成燒蝕槽M之后,如圖6所示,再次對(duì)保持在卡盤工作臺(tái)40上的晶片W向-X方向輸送,如圖6所示,通過拍攝單元70對(duì)包含有燒蝕槽M和形成在器件D1上的目標(biāo)圖案P1的拍攝區(qū)域G1進(jìn)行拍攝。在此,例如由于在加工進(jìn)給構(gòu)件21中產(chǎn)生了向Y軸方向的偏轉(zhuǎn),從而如圖7所示,燒蝕槽M沒有成為與分割預(yù)定線S1的中心線So平行的直線,而是成為具有相對(duì)于中心線So在Y軸方向上移位而形成的部位的蜿蜒線。
這樣,當(dāng)通過拍攝單元70對(duì)包含有形成在器件D1上的目標(biāo)圖案P1和形成在分割預(yù)定線S1上的燒蝕槽M這雙方的區(qū)域G1進(jìn)行拍攝并將該拍攝圖像輸送至目標(biāo)圖案檢測(cè)部90時(shí),目標(biāo)圖案檢測(cè)部90進(jìn)行圖案匹配,該圖案匹配判斷拍攝單元70所拍攝的拍攝圖像中的目標(biāo)圖案P1是否與預(yù)先存儲(chǔ)在目標(biāo)圖案檢測(cè)部90中的關(guān)鍵圖案P一致。并且,在完成了圖案匹配的時(shí)間點(diǎn),停止拍攝單元70和卡盤工作臺(tái)40。
(3)間隔檢測(cè)工序
接著,將完成了圖案匹配的時(shí)間點(diǎn)的包含有目標(biāo)圖案P1和燒蝕槽M這雙方的拍攝區(qū)域G1的拍攝圖像輸送至間隔檢測(cè)部91。間隔檢測(cè)部91通過分別具有的帶著固有的顏色信息的像素來識(shí)別拍攝圖像中的目標(biāo)圖案P1和燒蝕槽M。并且,例如,根據(jù)目標(biāo)圖案P1與燒蝕槽M之間的像素?cái)?shù)來計(jì)算圖7所示的兩者在Y軸方向上的間隔L1。例如,間隔L1為203μm。
(4)映射制作工序
在通過間隔檢測(cè)部91對(duì)目標(biāo)圖案P1與燒蝕槽M在Y軸方向上的間隔L1進(jìn)行了檢測(cè)之后,映射制作部92與器件D1相對(duì)應(yīng)地,將器件D1內(nèi)的目標(biāo)圖案P1與燒蝕槽M的間隔L1的值即“203μm”存儲(chǔ)到例如圖8所示的映射C中。
接著,再次進(jìn)行目標(biāo)圖案檢測(cè)工序和間隔檢測(cè)工序。即,通過加工進(jìn)給構(gòu)件21對(duì)卡盤工作臺(tái)40進(jìn)行加工進(jìn)給,通過拍攝單元70拍攝包含有位于之前已檢測(cè)出的目標(biāo)圖案P1的相鄰位置的另外一個(gè)目標(biāo)圖案P2和燒蝕槽M這雙方的拍攝區(qū)域G2的一個(gè)拍攝圖像,并檢測(cè)出一個(gè)目標(biāo)圖案P2,進(jìn)而檢測(cè)出目標(biāo)圖案P2與燒蝕槽M的Y軸方向的間隔L2。例如,間隔L2為241μm。并且,在映射制作工序中,映射制作部92與器件D2相對(duì)應(yīng)地,將目標(biāo)圖案P2與燒蝕槽M在Y軸方向上的間隔L2的值記錄在映射C中。
例如通過對(duì)在X軸方向上排列的一列器件的全部重復(fù)這樣的動(dòng)作,映射制作部92制作一個(gè)映射C。即,以下,與上述同樣,對(duì)與分割預(yù)定線S1相鄰而在X軸方向上并排形成m個(gè)的各器件D3、器件D4、…器件D(m-1)、器件Dm上所形成的各目標(biāo)圖案P3、目標(biāo)圖案P4、…目標(biāo)圖案P(m-1)、目標(biāo)圖案Pm與燒蝕槽M的Y軸方向上的各間隔L3、間隔L4、…間隔L(m-1)、間隔Lm進(jìn)行檢測(cè)并制作一個(gè)映射C。
另外,由映射制作部92制作的映射C并不限定于上述的例子。例如,也可以在檢測(cè)出一個(gè)圖7所示的目標(biāo)圖案P1與燒蝕槽M在Y軸方向上的間隔L1之后,越過一個(gè)位于之前已檢測(cè)出的目標(biāo)圖案P1的相鄰位置的另外的目標(biāo)圖案P2而對(duì)一個(gè)位于該目標(biāo)圖案P2的相鄰位置的目標(biāo)圖案P3與燒蝕槽M在Y軸方向上的間隔L3進(jìn)行檢測(cè),并記錄該檢測(cè)出的目標(biāo)圖案P3與燒蝕槽M在Y軸方向上的間隔L3的值。并且,也可以在對(duì)各目標(biāo)圖案與燒蝕槽M在Y軸方向上的間隔進(jìn)行規(guī)定的次數(shù)(例如,對(duì)在X軸方向上排列的一列器件D的全部)進(jìn)行了檢測(cè)之后,將檢測(cè)出的間隔的值暫時(shí)存儲(chǔ)到存儲(chǔ)器中,然后一并地記錄下該暫時(shí)存儲(chǔ)的數(shù)據(jù)而制作一個(gè)映射。
(5)合格與否判定工序
合格與否判定部93根據(jù)映射制作部92所制作的映射C來計(jì)算與多個(gè)器件D分別對(duì)應(yīng)的、目標(biāo)圖案與燒蝕槽M在Y軸方向上的各間隔的最大值與最小值的差。并且,合格與否判定部93存儲(chǔ)有與多個(gè)器件分別對(duì)應(yīng)的、目標(biāo)圖案與燒蝕槽M在Y 軸方向上的各間隔的最大值與最小值的差的容許值,并對(duì)各目標(biāo)圖案與燒蝕槽M在Y軸方向上的各間隔的最大值與最小值的差是否在容許值以下、即處于容許范圍內(nèi)進(jìn)行判定,如果在容許范圍內(nèi)則為精度合格,如果在容許范圍外則為精度不合格。例如,在合格與否判定部93中預(yù)先存儲(chǔ)了10μm作為各目標(biāo)圖案P與燒蝕槽M在Y軸方向上的各間隔的最大值與最小值的差的容許范圍。并且,合格與否判定部93根據(jù)映射C將目標(biāo)圖案P2與燒蝕槽M在Y軸方向上的間隔L2(241μm)選擇為最大值,將目標(biāo)圖案P1與燒蝕槽M在Y軸方向上的間隔L1(203μm)選擇為最小值,進(jìn)而計(jì)算最大值與最小值的差(38μm)。
由于目標(biāo)圖案與燒蝕槽M在Y軸方向上的各間隔的最大值與最小值的差38μm在容許范圍外,所以合格與否判定部93判定為精度不合格,并將該內(nèi)容顯示在圖1所示的顯示構(gòu)件71上而通知操作者。得到精度不合格的報(bào)告的操作者可以對(duì)加工進(jìn)給構(gòu)件21進(jìn)行修理或者更換從而將產(chǎn)生于加工進(jìn)給構(gòu)件21的偏轉(zhuǎn)限制在容許范圍內(nèi)。
這樣,即使是在加工進(jìn)給構(gòu)件21中產(chǎn)生了Y軸方向上的偏轉(zhuǎn)的情況下,在本發(fā)明的激光加工裝置2中,通過目標(biāo)圖案檢測(cè)部90來檢測(cè)各目標(biāo)圖案,并通過間隔檢測(cè)部91來對(duì)檢測(cè)出的各目標(biāo)圖案與燒蝕槽M的Y軸方向上的各間隔進(jìn)行檢測(cè),通過映射制作部92來制作映射C,由此,能夠確認(rèn)加工進(jìn)給構(gòu)件21中產(chǎn)生的偏轉(zhuǎn)是否在容許范圍內(nèi)。
并且,在控制器9中還具有合格與否判定部93,由此,如本實(shí)施方式中的那樣,操作者能夠容易地根據(jù)映射制作部92所制作的映射C判斷出加工進(jìn)給構(gòu)件21中產(chǎn)生的偏轉(zhuǎn)處于容許范圍外,操作者可以通過對(duì)加工進(jìn)給構(gòu)件21進(jìn)行修理或者更換來將加工進(jìn)給構(gòu)件21中產(chǎn)生的偏轉(zhuǎn)限制在容許范圍內(nèi),能夠防止從激光加工裝置2所具有的激光照射構(gòu)件8照射的激光光線偏離分割預(yù)定線S照射而導(dǎo)致器件D損傷。
另外,也可以即使在加工進(jìn)給構(gòu)件21中產(chǎn)生了偏轉(zhuǎn)的情況下,不管該偏轉(zhuǎn)是否在容許范圍內(nèi),都不對(duì)加工進(jìn)給構(gòu)件21進(jìn)行修理或者更換,而是通過位置校正部94來對(duì)分度進(jìn)給構(gòu)件22的動(dòng)作進(jìn)行調(diào)整,由此對(duì)照射到分割預(yù)定線S的激光光線的Y軸方向的位置進(jìn)行校正。
例如,位置校正部94根據(jù)映射制作部92所制作的映射C來計(jì)算針對(duì)加工進(jìn)給構(gòu)件21的產(chǎn)生在Y軸方向上的偏轉(zhuǎn)的校正值。校正值是指各間隔L1、L2、…Lm與 一定的基準(zhǔn)間隔Lo(例如210μm)的差的值,其中,該各間隔L1、L2、…Lm為各目標(biāo)圖案與燒蝕槽M在Y軸方向上的間隔,一定的基準(zhǔn)間隔Lo為分割預(yù)定線S的中心線So與目標(biāo)圖案P的間隔。位置校正部94預(yù)先將計(jì)算出的校正值存儲(chǔ)到存儲(chǔ)器等中,再根據(jù)所存儲(chǔ)的校正值使從控制器9提供到分度進(jìn)給構(gòu)件22所具有的脈沖電動(dòng)機(jī)222的脈沖信號(hào)的提供數(shù)增減,由此,一邊按照該校正值對(duì)激光光線照射構(gòu)件8的Y軸方向的位置進(jìn)行校正,加工進(jìn)給構(gòu)件21一邊對(duì)分度進(jìn)給構(gòu)件22和卡盤工作臺(tái)40進(jìn)行加工進(jìn)給。這樣,能夠沿著分割預(yù)定線S的中心線So形成不蜿蜒的燒蝕槽。
當(dāng)在控制器9中也具有位置校正部94時(shí),能夠不對(duì)加工進(jìn)給構(gòu)件21進(jìn)行修理或者更換而將產(chǎn)生于加工進(jìn)給構(gòu)件21的偏轉(zhuǎn)限制在容許范圍內(nèi),并能夠防止從激光照射構(gòu)件8照射的激光光線偏離分割預(yù)定線照射而導(dǎo)致器件損傷。
另外,上述實(shí)施方式中的加工進(jìn)給構(gòu)件21采用了使卡盤工作臺(tái)40在X軸方向上移動(dòng)的結(jié)構(gòu),但是加工進(jìn)給構(gòu)件也可以采用使激光光線照射構(gòu)件8在X軸方向上移動(dòng)的結(jié)構(gòu)。即,只要加工進(jìn)給構(gòu)件能夠?qū)ūP工作臺(tái)40和激光光線照射構(gòu)件8在X軸方向上相對(duì)地進(jìn)行加工進(jìn)給即可。
并且,上述實(shí)施方式中的分度進(jìn)給構(gòu)件22采用了使卡盤工作臺(tái)40在Y軸方向上移動(dòng)的結(jié)構(gòu),但是分度進(jìn)給構(gòu)件也可以采用使激光光線照射構(gòu)件8在Y軸方向上移動(dòng)的結(jié)構(gòu)。即,只要分度進(jìn)給構(gòu)件能夠?qū)ūP工作臺(tái)40和激光光線照射構(gòu)件8在Y軸方向上相對(duì)地進(jìn)行分度進(jìn)給即可。