專利名稱：殼體及其制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種殼體及其制作方法，尤其涉及ー種具有藏藍(lán)色外觀的殼體及其制作方法。
背景技術(shù)：
為了使電子裝置的外殼具有豐富色彩，目前主要通過陽極氧化、烤漆、烤瓷等エ藝制備裝飾性涂層。相比這些傳統(tǒng)エ藝，PVD鍍膜技術(shù)更加綠色環(huán)保，且采用PVD鍍膜技術(shù)可在產(chǎn)品外殼表面形成具有金屬質(zhì)感的裝飾性色彩層。然而現(xiàn)有技術(shù)中，利用PVD鍍膜技術(shù)于殼體表面形成的膜層的色彩非常有限，目前能夠廣泛制備和使用的PVD膜層主要為金黃色、黒色、白色等色系，能夠穩(wěn)定生產(chǎn)的顏色較少。

發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此，本發(fā)明提供ー種通過鍍膜形成藏藍(lán)色外觀的殼體。另外，本發(fā)明還提供ー種上述殼體的制作方法。ー種殼體，其包括基體及形成于基體表面的色彩層，該色彩層包括依次形成于基體表面的氮氧鈦層和氧化鋁層，該色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)介于49至53之間，a*坐標(biāo)介于-10至-9之間，b*坐標(biāo)介于-39至-37之間，所述氮氧鈦層中Ti、0及N各元素的質(zhì)量百分含量分別為42% 65%，30% 50%及5% 9%，所述氧化鋁層中Al、O各元素的質(zhì)量百分含量分別為63 % 65 %及35 % 37 %。一種殼體的制作方法，其包括如下步驟提供一基體；于該基體的表面中頻磁控濺射形成氮氧鈦層，以鈦靶為靶材，以氧氣和氮?dú)鉃榉磻?yīng)氣體，控制氧氣的初始流量為20SCCm，氮?dú)獾某跏剂髁繛?5SCCm，氧氣和氮?dú)獾牧髁砍侍荻仍黾樱沟踱亴拥难踉雍偷佑煽拷w至遠(yuǎn)離基體的方向呈梯度増加；于氮氧鈦層上直流磁控濺射形成氧化鋁層，制得一包括氮氧鈦層及氧化鋁層的色彩層，直流磁控濺射形成氧化鋁層以鋁靶為靶材，控制氧氣流量SOsccm ;所述色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)介于49至53之間，a*坐標(biāo)介于-10至-9之間，b*坐標(biāo)介于-39至-37之間。相較于現(xiàn)有技術(shù)，所述殼體的制備方法在形成色彩層時(shí)，通過對(duì)靶材的選取、反應(yīng)氣體氧氣和氮?dú)饬髁康脑O(shè)計(jì)和濺射時(shí)間的控制形成氮氧鈦層，之后磁控濺射氧化鋁層，通過兩個(gè)膜層之間的重疊作用，從而達(dá)到使色彩層呈現(xiàn)藏藍(lán)色的目的，以該方法所制得的殼體呈現(xiàn)出具有吸引力的藏藍(lán)色的外觀，豐富了真空鍍膜層的顔色，提高了產(chǎn)品的外觀競爭力。


圖I是本發(fā)明一較佳實(shí)施例殼體的剖視圖；圖2是圖I殼體的制作過程中所用鍍膜機(jī)的俯視示意圖。主要元件符號(hào)說明殼體10基體11色彩層 13氮氧鈦層 131氧化鋁層 133鍍膜機(jī) 100鍍膜室 20軌跡21鈦靶22鋁靶23真空泵30
具體實(shí)施方式
請(qǐng)參閱圖1，本發(fā)明ー較佳實(shí)施例的殼體10包括基體11及形成于基體11表面的色彩層13。該色彩層13呈現(xiàn)藏藍(lán)色。基體11的材質(zhì)可為不銹鋼、玻璃、陶瓷或塑料，優(yōu)選為不銹鋼。色彩層13形成于基體11的表面。該色彩層13包括依次形成于基體11表面的氮氧鈦層131和氧化招層133。所述氮氧鈦層131可通過中頻磁控濺射的方式形成。所述氧化鋁層133可通過直流磁控濺射的方式形成。該氮氧化鈦層131的厚度為O. 3 I. Oum。氧化鋁133的厚度為O. I O. 2um。該色彩層13肉眼直觀呈現(xiàn)藏藍(lán)色，其呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIELAB表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)介于49至53之間，a*坐標(biāo)介于-10至-9之間，b*坐標(biāo)介于-39至-37之間。所述氮氧鈦層131中Ti、0及N各元素的質(zhì)量百分含量分別為42% 65%，30% 50%及 5% 9%。所述氧化鋁層133中Al、O各元素的質(zhì)量百分含量分別為63% 65%及35% 37%。本發(fā)明殼體10的制作方法包括以下步驟提供基體11。基體11的材質(zhì)可為不銹鋼、玻璃、陶瓷或塑料，優(yōu)選為不銹鋼。將基體11放入無水こ醇中進(jìn)行超聲波清洗并烘干備用。于基體11的表面形成色彩層13。該色彩層13包括氮氧鈦層131和氧化鋁層133。該色彩層13采用磁控濺射的方式形成。結(jié)合參閱圖2，提供一鍍膜機(jī)100，該鍍膜機(jī)100包括一鍍膜室20及連接于鍍膜室20的一真空泵30，真空泵30用以對(duì)鍍膜室20抽真空。該鍍膜室20內(nèi)設(shè)有轉(zhuǎn)架(未圖示)、中心相對(duì)設(shè)置的ニ鈦靶22和鋁靶23，轉(zhuǎn)架帶動(dòng)基體11沿圓形的軌跡21公轉(zhuǎn)，且基體11在沿軌跡21公轉(zhuǎn)時(shí)亦自轉(zhuǎn)。于基體11上形成氮氧鈦層131，抽真空使該鍍膜室20的真空度為8 X 10_3Pa，設(shè)置轉(zhuǎn)架的公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速為O. 5rpm(轉(zhuǎn)/分鐘)，設(shè)置鍍膜室20溫度為100-150°C，設(shè)置鈦靶22的功率為7 9kw，以氬氣為工作氣體，氬氣的流量為150 300SCCm，施加于基體11的偏壓為-250 -200V，設(shè)置偏壓的占空比為50 80% ;以氧氣和氮?dú)鉃榉磻?yīng)氣體，控制氧氣的流量為20 40SCCm，氮?dú)獾牧髁繛?5 30sCCm。濺射時(shí)，使氧氣的初始流量為20sCCm，氮?dú)獾某跏沽髁繛?5sCCm，濺射過程中使氧氣和氮?dú)獾牧髁砍侍荻葔埣印Ｑ鯕夂偷獨(dú)饬髁烤唧w的梯度增加方式為在第O 5min內(nèi)，控制氧氣流量為20sccm,氮?dú)饬髁繛?5sccm ;第5 20min內(nèi)，控制氧氣流量為30sccm,氮?dú)饬髁繛?0sccm ;第20 35min內(nèi)，控制氧氣流量為35sccm,氮?dú)饬髁繛?5sccm ;第35 50min內(nèi)，控制氧氣流量為40sccm,氮?dú)饬髁繛?0sccm ;第50 70min時(shí),控制氧氣流量為40sccm,氮?dú)饬髁繛?0sccm。上述氧氣和氮?dú)獾牧髁孔兓蓞⒁姳鞩 :表I
權(quán)利要求
1.一種殼體，其包括基體及形成于基體表面的色彩層，其特征在于該色彩層包括依次形成于基體表面的氮氧鈦層和氧化鋁層，該色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)介于49至53之間，a*坐標(biāo)介于-10至-9之間，b*坐標(biāo)介于-39至-37之間,所述氮氧鈦層中Ti、O及N各元素的質(zhì)量百分含量分別為42% 65%，30% 50%及5% 9 %，所述氧化鋁層中Al、O各元素的質(zhì)量百分含量分別為63 % 65 %及35 % 37 %。
2.如權(quán)利要求I所述的殼體，其特征在于所述氮氧鈦層中Ti、0及N各元素的質(zhì)量百分含量分別為54%，39%及7%，所述氧化鋁層中A1、0各元素的質(zhì)量百分含量分別為65%，35%。
3.如權(quán)利要求I所述的殼體，其特征在于所述氮氧鈦層中Ti、0、N各元素的質(zhì)量百分比含量分別為52%，40%及8%，所述氧化鋁層中A1、0各元素的質(zhì)量百分含量分別為64%，36%。
4.如權(quán)利要求I所述的殼體，其特征在于所述氮氧鈦層中Ti、0、N各元素的質(zhì)量百分含量分別為51%，40%及9%，所述氧化鋁層中Al、O各元素的質(zhì)量百分含量分別為63%，37%。
5.如權(quán)利要求I所述的殼體，其特征在于所述基體的材質(zhì)為不銹鋼、玻璃、陶瓷或塑料。
6.如權(quán)利要求I所述的殼體，其特征在于該色彩層中氮氧鈦層的厚度為0.3 I.Oum,氧化招層的厚度為0. I 0. 2um。
7.如權(quán)利要求I所述的殼體，其特征在于所述氮氧鈦層以中頻磁控濺射形成，所述氧化鋁層以直流磁控濺射形成。
8.一種殼體的制作方法，其包括如下步驟 提供一基體； 于該基體的表面中頻磁控濺射形成氮氧鈦層，以鈦靶為靶材，以氧氣和氮?dú)鉃榉磻?yīng)氣體，控制氧氣的初始流量為20SCCm，氮?dú)獾某跏剂髁繛?5SCCm，氧氣和氮?dú)獾牧髁砍侍荻仍黾樱沟踱亴拥难踉雍偷佑煽拷w至遠(yuǎn)離基體的方向呈梯度增加； 于氮氧鈦層上直流磁控濺射形成氧化鋁層，制得一包括氮氧鈦層及氧化鋁層的色彩層，直流磁控濺射形成氧化鋁層以鋁靶為靶材，控制氧氣流量SOsccm ;所述色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)介于49至53之間，a*坐標(biāo)介于-10至-9之間，b*坐標(biāo)介于-39至-37之間。
9.如權(quán)利要求8所述的殼體的制作方法，其特征在于形成該氧化鋁層的工藝參數(shù)為設(shè)置鋁靶的功率為3kw，以氬氣為工作氣體，氬氣的流量為300 400SCCm，施加于基體的偏壓為-100 -200V，濺射20 30min。
10.如權(quán)利要求8所述的殼體的制作方法，其特征在于形成氮氧鈦層中氧氣和氮?dú)馓荻仍黾拥姆绞綖樵诘? 5min內(nèi)，控制氧氣流量為20sccm,氮?dú)饬髁繛?5sccm ;第5 20min內(nèi)，控制氧氣流量為30sccm,氮?dú)饬髁繛?0sccm ;第20 35min內(nèi)，控制氧氣流量為35sccm,氮?dú)饬髁繛?5sccm ;第35 50min內(nèi)，控制氧氣流量為40sccm,氮?dú)饬髁繛?0sccm ;第50 70min時(shí),控制氧氣流量為40sccm,氮?dú)饬髁繛?0sccm。
全文摘要
本發(fā)明提供一種具其包括基體及形成于基體表面的色彩層，該色彩層為包括依次形成于基體表面上氮氧鈦層和氧化鋁層，該色彩層呈現(xiàn)的色度區(qū)域于CIE LAB表色系統(tǒng)的L*坐標(biāo)介于49至53之間，a*坐標(biāo)介于-10至-9之間，b*坐標(biāo)介于-39至-37之間。本發(fā)明還提供一種上述殼體的制作方法。該色彩層可使殼體呈現(xiàn)出藏藍(lán)色，從而豐富了真空鍍膜層的顏色。
文檔編號(hào)C23C14/35GK102676988SQ20111005348
公開日2012年9月19日 申請(qǐng)日期2011年3月7日 優(yōu)先權(quán)日2011年3月7日
發(fā)明者張新倍, 熊小慶, 蔣煥梧, 陳文榮, 陳正士 申請(qǐng)人:鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司, 鴻海精密工業(yè)股份有限公司