專利名稱：真空鍍膜裝置的改良結(jié)構(gòu)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明屬于鍍膜設(shè)備，特別涉及一種在真空沉積腔室內(nèi)對(duì)工件鍍膜的加工裝置的改良結(jié)構(gòu)。
背景技術(shù)：
真空鍍膜技術(shù)在經(jīng)濟(jì)社會(huì)各個(gè)領(lǐng)域有著廣泛應(yīng)用，特別是科技迅速發(fā)展、人們生活的不斷提高以及高科技鍍膜產(chǎn)品的不斷涌現(xiàn)，給真空鍍膜技術(shù)的發(fā)展和推廣應(yīng)用帶來了新的機(jī)遇。真空鍍膜主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。需要鍍膜的被稱為 基片，鍍的材料被稱為靶材。基片與靶材同在真空腔中。如蒸發(fā)鍍膜就是加熱靶材，使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來，并且沉降在基片表面，通過成膜過程形成薄膜。常見的蒸發(fā)鍍膜就是放置鍍膜工件的托架置于真空沉積腔室內(nèi)，該托架通過環(huán)狀滾珠軸轉(zhuǎn)動(dòng)固定于環(huán)狀支撐架，而該環(huán)狀支撐架環(huán)周設(shè)有環(huán)狀齒條，并與之嚙合的驅(qū)動(dòng)齒輪及驅(qū)動(dòng)馬達(dá)控制轉(zhuǎn)動(dòng)，實(shí)現(xiàn)該托架連帶工件轉(zhuǎn)動(dòng)，而該托架下方放置靶材，該靶材通過加熱機(jī)構(gòu)加熱揮發(fā)，從而實(shí)現(xiàn)工件在真空腔室內(nèi)高溫鍍膜操作。然而，驅(qū)動(dòng)放置工件的托架轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)十分繁瑣，不利于放置各種尺寸的工件。

發(fā)明內(nèi)容
為了克服上述缺陷，本發(fā)明提供了一種基于真空濺射沉積技術(shù)的真空鍍膜裝置的改良結(jié)構(gòu)，使得放置工件的托架驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)簡(jiǎn)便實(shí)用。本發(fā)明為了解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是一種真空鍍膜裝置的改良結(jié)構(gòu)，包括真空沉積腔室以及位于該真空沉積腔室內(nèi)的托架和靶材，該托架通過第一轉(zhuǎn)軸和軸承轉(zhuǎn)動(dòng)固定于該真空沉積腔室頂部，而該第一轉(zhuǎn)軸由驅(qū)動(dòng)馬達(dá)控制連帶該托架轉(zhuǎn)動(dòng)，該革巴材位于該托架下方，通過加熱機(jī)構(gòu)控制該IE材加熱蒸發(fā)。作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，該托架呈穹頂狀結(jié)構(gòu)，該托架內(nèi)側(cè)向下設(shè)有多個(gè)用于固定工件的掛鉤，該托架頂部中心通過該第一轉(zhuǎn)軸和軸承轉(zhuǎn)動(dòng)固定于該真空沉積腔室頂部。作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，該托架與該真空沉積腔室頂部之間至少設(shè)有一個(gè)能對(duì)該托架上的工件加熱的預(yù)加熱機(jī)構(gòu)。作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，該預(yù)加熱機(jī)構(gòu)為電熱絲加熱體或紅外加熱體。作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，該加熱機(jī)構(gòu)為安裝于該真空沉積腔室內(nèi)并可放置該靶材的槽狀金屬加熱體，該槽狀金屬加熱體兩側(cè)設(shè)有一對(duì)電極，該對(duì)電極另一端引出于該真空沉積腔室后，分別與電源變壓器之次級(jí)繞組引出端連接。作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn),該祀材還通過轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)控制能相對(duì)該托架轉(zhuǎn)動(dòng),該轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)為通過軸承固定于該真空沉積腔室內(nèi)側(cè)底部的第二轉(zhuǎn)軸，該第二轉(zhuǎn)軸上端與絕緣連接桿一端固定，并且該絕緣連接桿與該第二轉(zhuǎn)軸呈直角連接，該絕緣連接桿另一端固定該槽狀電熱體，該對(duì)電極另一端沿該絕緣連接桿，并通過該第二轉(zhuǎn)軸內(nèi)的兩通孔引出，該第二轉(zhuǎn)軸下端伸出該真空沉積腔室外后固定滾輪，并通過傳送帶和馬達(dá)控制轉(zhuǎn)動(dòng)。作為本發(fā)明的進(jìn)一步改進(jìn)，該真空沉積腔室側(cè)部設(shè)有可裝卸鍍膜工件的操作門。本發(fā)明的有益技術(shù)效果是所述托架頂部中心通過第一轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng)固定于呈穹頂結(jié)構(gòu)，該第一轉(zhuǎn)軸又可由控制馬達(dá)驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)，這樣將該托架驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)設(shè)計(jì)在該真空沉積腔室內(nèi)側(cè)頂部后，將鍍膜工件放置于該托架的操作更加方便。所述祀材還通過轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)控制相對(duì)該托架轉(zhuǎn)動(dòng),該轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)為通過軸承固定于該真空沉積腔室內(nèi)側(cè)底部的第二轉(zhuǎn)軸，該第二轉(zhuǎn)軸上端與絕緣連接桿一端固定，并且該絕緣連接桿與該第二轉(zhuǎn)軸呈直角連接，該絕緣連接桿另一端固定該槽狀電熱體，該對(duì)電極另一端沿該絕緣連接桿，并通過該第二轉(zhuǎn)軸內(nèi)的兩通孔引出，該第二轉(zhuǎn)軸下端伸出該真空沉積腔室外后固定滾輪，并通過傳送帶和馬達(dá)控制轉(zhuǎn)動(dòng)。這樣托架和靶材都可以分別控制轉(zhuǎn)動(dòng)，當(dāng)靶材通過加熱機(jī)構(gòu)加熱揮發(fā)后，沉積于該托架上工件鍍膜層厚度一致性更加合理。·


圖I為本發(fā)明的半剖視結(jié)構(gòu)示意圖。對(duì)照以上附圖，作如下補(bǔ)充I——真空沉積腔室 60——第二轉(zhuǎn)軸2——托架61——軸承3-靶材63-滾輪4——第一轉(zhuǎn)軸64——傳送帶5——電熱絲加熱體 66——馬達(dá)50——槽狀金屬加熱體 73——電源變壓器51——通孔100——工件52——絕緣連接桿
具體實(shí)施例方式結(jié)合圖1，作以下進(jìn)一步描述一種真空鍍膜裝置的改良結(jié)構(gòu)，包括真空沉積腔室I以及位于該真空沉積腔室內(nèi)的托架2和靶材3，該托架2可放置工件100，該托架2呈穹頂狀結(jié)構(gòu)，該托架內(nèi)側(cè)向下設(shè)有多個(gè)用于固定工件的掛鉤，該托架頂部中心通過該第一轉(zhuǎn)軸4和軸承轉(zhuǎn)動(dòng)固定于該真空沉積腔室I頂部，而該第一轉(zhuǎn)軸4由驅(qū)動(dòng)馬達(dá)控制連帶該托架2轉(zhuǎn)動(dòng)，該托架2與該真空沉積腔室I頂部之間至少設(shè)有一個(gè)能對(duì)該托架上的工件加熱的預(yù)加熱機(jī)構(gòu)，該預(yù)加熱機(jī)構(gòu)為電熱絲加熱體5(也可以采用紅外加熱體)，以便鍍膜工件一直處于適合鍍膜溫度，該靶材3位于該托架下方，通過加熱機(jī)構(gòu)控制該靶材加熱蒸發(fā)，實(shí)現(xiàn)對(duì)該托架上工件鍍膜，這樣所述靶材經(jīng)加熱機(jī)構(gòu)加熱后，其組分蒸發(fā)到穹頂結(jié)構(gòu)上的工件，達(dá)到真空鍍膜目的，該加熱機(jī)構(gòu)為安裝于該真空沉積腔室內(nèi)并可放置該靶材3的槽狀金屬加熱體，該槽狀金屬加熱體兩側(cè)設(shè)有一對(duì)電極，該對(duì)電極另一端引出于該真空沉積腔室I后，分別與電源變壓器73之次級(jí)繞組引出端連接，該真空沉積腔室側(cè)部設(shè)有操作門，便于裝卸該托架上鍍膜工件。
為了靶材蒸發(fā)成份更均勻鍍膜于工件各表面，該靶材3還通過轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)控制能相對(duì)該托架2轉(zhuǎn)動(dòng)，該轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)為通過軸承61固定于該真空沉積腔室I內(nèi)側(cè)底部的第二轉(zhuǎn)軸60，該第二轉(zhuǎn)軸60上端與絕緣連接桿52 —端固定，并且該絕緣連接桿52與該第二轉(zhuǎn)軸60呈直角連接，該絕緣連接桿52另一端固定該槽狀金屬加熱體50，該對(duì)電極另一端沿該絕緣連接桿52，并通過該第二轉(zhuǎn)軸60內(nèi)的兩通孔51引出，該第二轉(zhuǎn)軸60下端伸出該真空沉積腔室I外后固定滾輪63，并通過傳送帶64和馬達(dá)66控制轉(zhuǎn)動(dòng)。所述真空沉積腔室實(shí)現(xiàn)真空度屬于現(xiàn)有技術(shù)，不是本發(fā)明的技術(shù)創(chuàng)新點(diǎn)，在此不作陳述，上述電熱絲加熱方式也可以采用紅外加熱體。所謂金屬加熱體就是利用金屬體兩端接通交流電，使得金屬體發(fā)熱產(chǎn)生熱量，而紅外加熱和金屬體加熱不是本發(fā)明的創(chuàng)新點(diǎn)，屬于現(xiàn)有 技術(shù)，在此不作詳細(xì)描述。
權(quán)利要求
1.一種真空鍍膜裝置的改良結(jié)構(gòu)，包括真空沉積腔室(I)以及位于該真空沉積腔室內(nèi)的托架(2)和靶材(3)，其特征在于該托架(2)通過第一轉(zhuǎn)軸(4)和軸承轉(zhuǎn)動(dòng)固定于該真空沉積腔室頂部，而該第一轉(zhuǎn)軸(4)由驅(qū)動(dòng)馬達(dá)控制連帶該托架(2)轉(zhuǎn)動(dòng)，該靶材(3)位于該托架下方，通過加熱機(jī)構(gòu)控制該IE材加熱蒸發(fā)。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的真空鍍膜裝置的改良結(jié)構(gòu)，其特征在于該托架(2)呈穹頂狀結(jié)構(gòu)，該托架內(nèi)側(cè)向下設(shè)有多個(gè)用于固定工件(100)的掛鉤，該托架頂部中心通過該第一轉(zhuǎn)軸(4)和軸承轉(zhuǎn)動(dòng)固定于該真空沉積腔室(I)頂部。
3.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的真空鍍膜裝置的改良結(jié)構(gòu)，其特征在于該托架(2)與該真空沉積腔室(I)頂部之間至少設(shè)有一個(gè)能對(duì)該托架上的工件加熱的預(yù)加熱機(jī)構(gòu)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的真空鍍膜裝置的改良結(jié)構(gòu)，其特征在于該預(yù)加熱機(jī)構(gòu)為電熱絲加熱體(5)或紅外加熱體。
5.根據(jù)權(quán)利要求I或2所述的真空鍍膜裝置的改良結(jié)構(gòu)，其特征在于該加熱機(jī)構(gòu)為安裝于該真空沉積腔室內(nèi)并可放置該靶材(3)的槽狀金屬加熱體，該槽狀金屬加熱體兩側(cè)設(shè)有一對(duì)電極，該對(duì)電極另一端引出于該真空沉積腔室(I)后，分別與電源變壓器(73)之次級(jí)繞組引出端連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的真空鍍膜裝置的改良結(jié)構(gòu)，其特征在于該靶材(3)還通過轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)控制能相對(duì)該托架(2)轉(zhuǎn)動(dòng)，該轉(zhuǎn)動(dòng)機(jī)構(gòu)為通過軸承(61)固定于該真空沉積腔室(I)內(nèi)側(cè)底部的第二轉(zhuǎn)軸(60)，該第二轉(zhuǎn)軸￠0)上端與絕緣連接桿(52) —端固定，并且該絕緣連接桿(52)與該第二轉(zhuǎn)軸￠0)呈直角連接，該絕緣連接桿(52)另一端固定該槽狀金屬加熱體(50)，該對(duì)電極另一端沿該絕緣連接桿(52)，并通過該第二轉(zhuǎn)軸￠0)內(nèi)的兩通孔(51)引出，該第二轉(zhuǎn)軸(60)下端伸出該真空沉積腔室(I)外后固定滾輪(63)，并通過傳送帶(64)和馬達(dá)(66)控制轉(zhuǎn)動(dòng)。
7.根據(jù)權(quán)利要求I所述真空鍍膜裝置的改良結(jié)構(gòu)，其特征在于該真空沉積腔室側(cè)部設(shè)有可裝卸鍍膜工件的操作門。
全文摘要
一種真空鍍膜裝置的改良結(jié)構(gòu)，包括真空沉積腔室以及位于真空沉積腔室內(nèi)的托架和靶材，該托架呈穹頂狀結(jié)構(gòu)，該托架內(nèi)側(cè)向下設(shè)有多個(gè)用于固定工件的掛鉤，該托架頂部中心通過該轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng)固定于該真空沉積腔室頂部，該轉(zhuǎn)軸可由控制馬達(dá)驅(qū)動(dòng)轉(zhuǎn)動(dòng)，該托架與該真空沉積腔室頂部之間至少設(shè)有一個(gè)能對(duì)該托架上的工件加熱的電阻加熱體，該靶材位于該托架下方，通過加熱機(jī)構(gòu)控制該靶材加熱揮發(fā)，實(shí)現(xiàn)對(duì)該托架上工件鍍膜，該加熱機(jī)構(gòu)為安裝于該真空沉積腔室內(nèi)并可放置該靶材的槽狀電熱體，該槽狀電熱體兩側(cè)設(shè)有一對(duì)電極，該對(duì)電極另一端引出于該真空沉積腔室與電源變壓器之次級(jí)繞組引出端連接，本發(fā)明使得放置工件的托架驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)簡(jiǎn)便實(shí)用。
文檔編號(hào)C23C14/34GK102899619SQ201110210048
公開日2013年1月30日 申請(qǐng)日期2011年7月26日 優(yōu)先權(quán)日2011年7月26日
發(fā)明者黃水祥 申請(qǐng)人:御林汽配(昆山)有限公司