專利名稱：一種電鍍前表面處理的方法
技術領域：
本發明涉及一種電鍍前表面處理的方法。
背景技術：
目前，制備太陽能電池過程中，用于正面金屬化的主流エ藝是絲網印刷，但絲網印刷エ藝有其自身的缺點，如高寬比不高；印刷、燒結后形成的柵線是多孔的，電導率不高等。而電鍍エ藝制備出來的金屬電極其電導率能與正常的金屬體材料相當，且能達到較好的高寬比，從而可以減小柵線寬度，減少電池效率的光損失，而且，甚至可以通過直接在硅上電鍍Ni/Cu/Sn金屬疊層結構來實現完全不含銀的電池，從而大幅降低生產成本。但直接在硅上電鍍鎳有一個較大的缺陷，就是粘附性不好，往往在電鍍前需要做表面處理。目前主要是通過蘸PdC12溶液來進行表面處理，Pd2+能與Si發生取代反應， 從而使硅表面變得凹凸不平，這種方法的缺點是，PdC12溶液濃度太稀，表面處理不夠充分，而太濃，又會破壞SiNx減反層，從而產生背景電鍍(Background plating,又稱Ghostplating)。而另外ー種方法就是電鍍前用光刻的方法在娃表面刻出溝槽來,但光刻エ藝的成本比較高。納米壓印技術是通過將刻有目標圖形的掩模板壓印到長有掩模層的襯底上，實現圖形轉移，隨后再刻蝕掩模層較薄的地方，將襯底的表面加工成想要的結果，納米壓印技術比光刻エ藝成本要低得多。

發明內容
本發明要解決的技術問題是克服現有技術中的不足，提供一種電鍍前表面處理的方法，解決傳統電池片在電鍍前表面粘附性處理成本高且容易產生副作用的缺陷。本發明解決其技術問題所采用的技術方案是一種電鍍前表面處理的方法，首先在去掉電池片柵線處氮化硅減反層的電池片上涂覆ー層多孔掩模層，然后通過納米壓印技術將帶有目標圖形的掩模板壓印到多孔掩模層上，最后通過濕法刻蝕使電池片表面帶有目標圖形的凹凸表面。具有如下實施步驟①、用激光燒蝕去掉電池片柵線處的氮化硅減反層；②、涂覆上ー層多孔掩模層；③、通過納米壓印技術將帶有目標圖形的掩模板壓印到多孔掩模層上；④、用氫氧化鉀溶液進行濕法刻蝕，直到多孔掩模層被去除干凈，使電池片表面形成帶有目標圖形的凹凸表面?？紤]到好的可塑性及易刻蝕性，多孔掩模層一般為ニ氧化硅層或有機薄膜。為了出于有效控制去除多孔掩模層的速度的目的，在步驟④中氫氧化鉀溶液的濃度為I 5%。本發明的有益效果是本發明提供一種電鍍前表面處理的方法，通過使用納米壓印技術作電鍍エ藝前的硅片表面處理，有效的避免了傳統處理方法的容易產生副作用和成本過高的缺陷，并且避免對硅片表面減反層破壞。


下面結合附圖和實施例對本發明進ー步說明。圖I是電池片未被打開的結構示意圖；圖2是柵線已被打開的電池片結構示意圖；圖3是電池片涂覆上多孔掩模層的結構示意圖；圖4是電池片被納米壓印后的結構示意圖；圖5是電池片被濕發刻蝕后的結構示意圖。 圖中I.電池片，2.氮化硅減反層，3.多孔掩模層。
具體實施例方式現在結合附圖對本發明作進ー步詳細的說明。這些附圖均為簡化的示意圖，僅以示意方式說明本發明的基本結構，因此其僅顯示與本發明有關的構成。一種電鍍前表面處理的方法，首先在去掉電池片I柵線處氮化硅減反層2的電池片I上涂覆ー層多孔掩模層3，然后通過納米壓印技術將帶有目標圖形的掩模板壓印到多孔掩模層3上，最后通過濕法刻蝕使電池片I表面帶有目標圖形的凹凸表面，其中，多孔掩模層3可采用ニ氧化硅層或有機薄膜。納米壓印技術是ー種全新的納米圖形復制方法，在此技術中將具有特定圖案的標準模板以壓印機將其施加于鍍有高分子光阻層的基板上，等到降溫后移除模板，即可在光阻層上形成所要的圖案；在信息存儲、生物傳感器、亞波長光學器件領域，納米壓印曝光技術已成為價格相對較低、性能可靠、具有量產能力的制備技木；納米壓印可望成為ー種大面積制備微納結構的エ業化技術，因此，在不顯著増加加工成本的基礎上，納米壓印技術有希望引入到太陽能電池制備エ藝中，可帶來較好的效果。具有如下實施步驟步驟1，如圖I圖2所示，用激光燒蝕去掉如圖I中電池片I柵線處的氮化硅減反層2，形成如圖2的結構。步驟2，如圖3所示，在柵線已被打開的電池片I表面涂覆上ー層多孔掩模層3。步驟3，通過納米壓印技術將帶有目標圖形的掩模板壓印到多孔掩模層3上，在多孔掩模層3上形成凹凸結構，如圖4所示；步驟4，用氫氧化鉀溶液進行濕法刻蝕，氫氧化鉀溶液的濃度優選為I 5%，直到多孔掩模層3被去除干凈，使電池片I表面形成帶有目標圖形的凹凸表面，如圖5所示。通過使用納米壓印技術作電鍍エ藝前的硅片表面處理，有效的避免了傳統處理方法的容易產生副作用和成本過高的缺陷，并且避免對硅片表面減反層破壞。以上述依據本發明的理想實施例為啟示，通過上述的說明內容，相關工作人員完全可以在不偏離本項發明技術思想的范圍內，進行多祥的變更以及修改。本項發明的技術性范圍并不局限于說明書上的內容，必須要根據權利要求范圍來確定其技術性范圍。
權利要求
1.一種電鍍前表面處理的方法，其特征在于首先在去掉電池片(I)柵線處氮化硅減反層(2)的電池片(I)上涂覆ー層多孔掩模層(3)，然后通過納米壓印技術將帶有目標圖形的掩模板壓印到多孔掩模層(3)上，最后通過濕法刻蝕使電池片(I)表面帶有目標圖形的凹凸表面。
2.根據權利要求I所述的ー種電鍍前表面處理的方法，其特征在于具有如下實施步驟 ①、用激光燒蝕去掉電池片(I)柵線處的氮化硅減反層(2); ②、涂覆上ー層多孔掩模層(3)； ③、通過納米壓印技術將帶有目標圖形的掩模板壓印到多孔掩模層(3)上； ④、用氫氧化鉀溶液進行濕法刻蝕，直到多孔掩模層(3)被去除干凈，使電池片(I)表面形成帶有目標圖形的凹凸表面。
3.根據權利要求I所述的ー種電鍍前表面處理的方法，其特征在于多孔掩模層(3)為ニ氧化硅層或有機薄膜。
4.根據權利要求2所述的ー種電鍍前表面處理的方法，其特征在于所述步驟④中氫氧化鉀溶液的濃度為I 5%。
全文摘要
本發明涉及一種電鍍前表面處理的方法，用于解決傳統電池片在電鍍前表面粘附性處理成本高且容易產生副作用的缺陷，提供一種電鍍前表面處理的方法，首先在去掉電池片柵線處氮化硅減反層的電池片上涂覆一層多孔掩模層，然后通過納米壓印技術將帶有目標圖形的掩模板壓印到多孔掩模層上，最后通過濕法刻蝕使電池片表面帶有目標圖形的凹凸表面。通過使用納米壓印技術作電鍍工藝前的硅片表面處理，有效的避免了傳統處理方法的容易產生副作用和成本過高的缺陷，并且避免對硅片表面減反層破壞。
文檔編號C23F1/32GK102709383SQ201210140700
公開日2012年10月3日 申請日期2012年5月8日 優先權日2012年5月8日
發明者袁聲召 申請人:常州天合光能有限公司