專利名稱：一種用于真空鍍膜設備的雙層密封結構的制作方法
技術領域：
—種用于真空鍍膜設備的雙層密封結構本實用新型涉及真空鍍膜設備技術領域，具體涉及一種用于真空鍍膜設備的雙層密封結構。真空鍍膜是一種產生薄膜材料的技術。在真空室內材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。真空鍍膜的先決條件是要確保真空腔室具有良好穩定的真空度。目前，真空鍍膜設備密封形式多采用單根橡膠圈密封，這種密封形式適用于較小密封面的密封，對于較大密封面采用該種密封方式容易出現密封效果不佳的問題。尤其對于經常開閉的蓋板，橡膠圈受反復作用力以及溫度和其他環境因素的影響下，很容易產生異常變形和老化，縮短橡膠圈的使用壽命。橡膠圈一旦在局部某處產生異常變形和老化，就會影響鍍膜設備真空度的獲得；而且因需經常更換密封件，極大的影響著生產連續、正常的進行。·本實用新型就是為了解決現有技術中的不足，提供一種結構新穎，密封性能更可靠，穩定性好的一種用于真空鍍膜設備的雙層密封結構。為實現上述目的，提供一種用于真空鍍膜設備的雙層密封結構，包括密封法蘭I、光面法蘭2、內層密封圈3、外層密封圈4、支架5、密封槽6、泄氣槽7、泄氣孔8和真空泵，其特征在于所述密封法蘭I的密封面上開設有密封槽6，密封槽6內設有內層密封圈3和外層密封圈4，內層密封圈3和外層密封圈4之間開設有泄氣槽7，泄氣槽7上設有泄氣孔8，泄氣槽7通過泄氣孔8連接真空管道一端，真空管道另一端連接真空泵。所述的內層密封圈3和外層密封圈4嵌于同一密封槽6內。所述的內層密封圈3和外層密封圈4之間通過支架5隔開。所述的支架5分為若干段，通過螺釘固定于密封法蘭I上，支架5下表面開設有泄氣槽7。所述的內層密封圈3和外層密封圈4分別嵌于相互獨立的兩密封槽內。所述的內層密封圈3和外層密封圈4在螺栓力或者重力和壓差力的作用下壓緊光面法蘭2，形成雙層密封結構。本實用新型同現有技術相比，其采用了雙層密封圈的結構，使得密封性能更可靠；且不會因其中一根密封圈的失效而影響真空腔體的密封性，延長了大面積密封結構的使用壽命。同時，本密封結構具有結構簡單，易安裝、拆卸的優點。圖I為本實用新型實施例I的結構示意圖；圖2為本實用新型實施例2的結構示意圖；如圖所示，圖中1為密封法蘭2為光面法蘭3為內層密封圈4為外層密封圈5為支架6為密封槽7為泄氣槽8為泄氣孔9為真空腔室；指定圖I為本實用新型的摘要附圖
。
以下結合附圖對本實用新型作進一步說明，這種裝置的結構和原理對本專業的人來說是非常清楚的。本實用新型解決為一種用于真空鍍膜設備的雙層密封結構，包括真空泵，真空泵通過真空管道與法蘭上泄氣孔連接，其特征在于它由內層密封圈、外層密封圈以及密封法蘭和光面法蘭組成。密封法蘭密封面上開有密封槽，內層密封圈和外層密封圈嵌于密封槽內；兩密封圈間開有泄氣槽，法蘭體上開有一泄氣孔，泄氣槽通過泄氣孔以及真空管道與真空泵相連，通過真空泵可以把兩密封圈間的氣體排出，形成真空，提高密封效果。兩密封圈在螺栓力或者重力和壓差力的作用下壓緊光面法蘭，形成雙層密封。·[0017]在上述主要技術方案的基礎上，可以增加以下進一步完善的技術方案內層密封圈和外層密封圈可嵌于同一密封槽內，密封法蘭密封面上只需開一個密封槽，簡化了密封槽結構，減小了加工難度。同一密封槽內的內外兩層密封圈間通過支架隔開，支架同時起到固定密封圈的作用。支架可分為若干段，通過螺釘固定于密封法蘭體上，支架下表面開有泄氣槽，用于排出兩密封圈間的氣體。內層密封圈和外層密封圈也可分別嵌于相互獨立的兩密封槽內，無需支架固定，節約了支架成本。雙層密封結構既可垂直安裝，也可水平安裝；對于垂直安裝的形式，兩法蘭間通過螺栓連接，如鍍膜腔體與腔體之間的密封；對于水平安裝的形式，兩密封圈在密封法蘭的重力以及壓差力的作用下壓緊光面法蘭，如蓋板與腔體間的密封，則可省去螺栓連接。實施例一如圖I所示，本實施例包括真空泵，真空泵通過真空管道與法蘭上泄氣孔8連接，其特征在于它由內層密封圈3、外層密封圈4、支架5以及密封法蘭I和光面法蘭2組成。密封法蘭I密封面上開有密封槽6，內層密封圈3和外層密封圈4嵌于密封槽6內，兩密封圈間通過支架5隔開，支架5通過螺釘固定于密封法蘭I上，同時將兩密封圈固定于密封槽6內；支架5可分為若干段，且底部開有泄氣槽7，光面法蘭2上開有一泄氣孔8，泄氣槽7通過泄氣孔8以及真空管道與真空泵相連，通過真空泵可以把兩密封圈間的氣體排出，形成真空，提高密封效果。兩密封圈在螺栓力或者重力和壓差力的作用下壓緊光面法蘭2，形成雙層密封。實施例二如圖2所示，本實施例包括真空泵，真空泵通過真空管道與法蘭上泄氣孔8連接，其特征在于它由內層密封圈3、外層密封圈4以及密封法蘭I和光面法蘭2組成。密封法蘭I密封面上開有兩密封槽6,內層密封圈3和外層密封圈4分別嵌于兩密封槽6內，兩密封圈間的密封法蘭I密封面上開有泄氣槽7，在泄氣槽7上方密封法蘭I上某處開有一泄氣孔8，泄氣槽7通過泄氣孔8以及真空管道與真空泵相連，通過真空泵可以把兩密封圈間的氣體排出，形成真空，提高密封效果。兩密封圈在螺栓力或者重力和壓差力的作用下壓緊光面法蘭2，形成雙層密封。
權利要求1.一種用于真空鍍膜設備的雙層密封結構，包括密封法蘭(I)、光面法蘭(2)、內層密封圈(3)、外層密封圈(4)、支架(5)、密封槽￠)、泄氣槽(7)、泄氣孔(8)和真空泵，其特征在于所述密封法蘭(I)的密封面上開設有密封槽￠)，密封槽(6)內設有內層密封圈(3)和外層密封圈(4)，內層密封圈(3)和外層密封圈(4)之間開設有泄氣槽(7)，泄氣槽(7)上設有泄氣孔(8)，泄氣槽(7)通過泄氣孔(8)連接真空管道一端，真空管道另一端連接真空栗。
2.如權利要求I所述的一種用于真空鍍膜設備的雙層密封結構，其特征在于所述的內層密封圈(3)和外層密封圈(4)嵌于同一密封槽(6)內。
3.如權利要求I所述的一種用于真空鍍膜設備的雙層密封結構，其特征在于所述的內層密封圈(3)和外層密封圈(4)之間通過支架(5)隔開。
4.如權利要求3所述的一種用于真空鍍膜設備的雙層密封結構，其特征在于所述的支架(5)分為若干段，通過螺釘固定于密封法蘭(I)上，支架(5)下表面開設有泄氣槽(7)。
5.如權利要求I所述的一種用于真空鍍膜設備的雙層密封結構，其特征在于所述的內層密封圈(3)和外層密封圈(4)分別嵌于相互獨立的兩密封槽內。
6.如權利要求I所述的一種用于真空鍍膜設備的雙層密封結構，其特征在于所述的內層密封圈(3)和外層密封圈(4)在螺栓力或者重力和壓差力的作用下壓緊光面法蘭(2)，形成雙層密封結構。
專利摘要本實用新型涉及一種用于真空鍍膜設備的雙層密封結構，包括真空泵，真空泵通過真空管道與法蘭上泄氣孔8連接，其特征在于它由內層密封圈3、外層密封圈4以及密封法蘭1和光面法蘭2組成，密封法蘭1密封面上開有密封槽6，內層密封圈3和外層密封圈4嵌于密封槽6內；兩密封圈間開有泄氣槽7，法蘭體上開有一泄氣孔8，泄氣槽7通過泄氣孔8以及真空管道與真空泵相連，通過真空泵可以把兩密封圈間的氣體排出，形成真空，提高密封效果。兩密封圈在螺栓力或者重力和壓差力的作用下壓緊光面法蘭2，形成雙層密封。本實用新型能夠實現真空腔體的可靠的密封；同時，本實用新型具有結構簡單，使用壽命長，易于安裝、拆卸的優點。
文檔編號C23C14/56GK202705460SQ20122033136
公開日2013年1月30日 申請日期2012年7月9日 優先權日2012年7月9日
發明者羅松松, 葛治亮, 李險峰 申請人:中國建材國際工程集團有限公司