等離子體氣相沉積用半自動插片的制造方法
【專利摘要】一種等離子體氣相沉積用半自動插片機，包括：一儲片匣，用于存放一基片；一軌道，設置于該儲片匣及一PECVD爐之間；一軌道車，設置于該軌道并沿該軌道運動，其中，該軌道車往返于靠近該儲片匣的一第一位置及靠近該PECVD爐的一第二位置之間；一機械臂，固定于該軌道車，其中，該機械臂擁有一工作端；一吸片機，固定于該工作端，用于吸片；及一驅動單元，用于對該軌道車，該機械臂及該吸片機提供能量。籍由上述之結構，本發明可以半自動地完成基片安裝的工作，省去了人工搬片及人工對片的麻煩，降低了生產成本，極大地提高了工作效率及對片精度，保證了鍍膜產品的優良品質和外觀。
【專利說明】等離子體氣相沉積用半自動插片機

【技術領域】
[0001]本發明涉及一種氣相沉積用半自動插片機，尤其是一種等離子體氣相沉積用半自動插片機。

【背景技術】
[0002]PECVD,全稱為 Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposit1n,即:等離子體增強化學氣相沉積法。PECVD借助微波或射頻等使含有薄膜組成原子的氣體電離，在局部形成等離子體，而等離子體化學活性很強，很容易發生反應，并在基片上沉積出所期望的薄膜。為了使化學反應能在較低的溫度下進行，利用了等離子體的活性來促進反應，因而這種CVD稱為等離子體氣相沉積。
[0003]現有的PECVD沉積方式是采用頂部進氣通過氣體篩板后進入反應器內，而基片采用插入式安裝。基片插入作為PECVD鍍膜生產過程中的重要一環，對產品品質及外觀有著舉足輕重的作用。
[0004]在基片插入過程中，需要將處理后的基片移至反應爐前并定位，而現有技術一般采用人工操作等方法實現這一過程，極大地影響了工作效率，且浪費了大量的人力成本；除此以外，采用人工方式進行搬片及對位操作，不僅工作量大，且對片不準，會影響鍍膜產品的品質和外觀。


【發明內容】

[0005]本發明的目的在于提供一種結構合理，操作方便的等離子體氣相沉積用半自動插片機。
[0006]本發明的又一目的在于提供一種對片精度高，工作效果好的等離子體氣相沉積用半自動插片機。
[0007]為達到以上目的，本發明提供一種等離子體氣相沉積用半自動插片機，包括:
一儲片匣，用于存放一基片；
一軌道，設置于該儲片匣及一 PECVD爐之間；
一軌道車，設置于該軌道并沿該軌道運動，其中，該軌道車往返于靠近該儲片匣的一第一位置及靠近該PECVD爐的一第二位置之間；
一機械臂，固定于該軌道車，其中，該機械臂擁有一工作端；
一吸片機，固定于該工作端，用于吸片，其中，當該軌道車位于該第一位置時，該吸片機吸住該儲片匣中的該基片，并通過該機械臂的運動將該基片取出，然后該軌道車向該PECVD爐移動并到達該第二位置，該機械臂運動并將該基片放入該PECVD爐中后，再將該基片推入一基片插座，之后，該吸片機停止吸片并通過該機械臂的運動離開該PECVD爐以此完成基片安裝，最后，該軌道車向該儲片匣移動并到達該第一位置重新吸片 '及一驅動單元，用于對該軌道車，該機械臂及該吸片機提供能量。
[0008]籍由上述之結構，本發明可以半自動地完成基片安裝的工作，整個安裝過程中，僅需人工將基片放入該儲片匣即可，剩余的操作將由該等離子體氣相沉積用半自動插片機完成，省去了人工搬片及人工對片的麻煩，降低了生產成本，極大地提高了工作效率及對片精度，保證了鍍膜產品的優良品質和外觀。
[0009]本發明的這些目的，特點，和優點將會在下面的【具體實施方式】，附圖，和權利要求中詳細的揭露。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0010]圖1為本發明的結構圖。
[0011]圖2為本發明的A-A向視圖。
[0012]圖3為本發明的電路連接示意圖。
[0013]圖中:1-儲片匣，2-軌道，3-軌道車，4-機械臂，5-吸片機，6-驅動單元，7-定位傳感器，8-真空吸盤，9-第一控制單元，10-距離傳感器，11-第一電機，12-第二控制單元，13-第二電機，14-第二控制單兀，15-真空栗。

【具體實施方式】
[0014]請參見圖1和圖2，本發明為一種等離子體氣相沉積用半自動插片機，包括:
一儲片匣I，用于存放一基片；
一軌道2，設置于該儲片匣I及一 PECVD爐之間；
一軌道車3，設置于該軌道2并沿該軌道2運動，其中，該軌道車3往返于靠近該儲片匣I的一第一位置及靠近該PECVD爐的一第二位置之間；
一機械臂4，固定于該軌道車3，其中，該機械臂4擁有一工作端；
一吸片機5，固定于該工作端，用于吸片，其中，當該軌道車3位于該第一位置時，該吸片機5吸住該儲片匣I中的該基片，并通過該機械臂4的運動將該基片取出，然后該軌道車3向該PECVD爐移動并到達該第二位置，該機械臂4運動并將該基片放入該PECVD爐中后，再將該基片推入一基片插座，之后，該吸片機5停止吸片并通過該機械臂4的運動離開該PECVD爐以此完成基片安裝，最后，該軌道車3向該儲片匣I移動并到達該第一位置重新吸片 '及
一驅動單元6，用于對該軌道車3，該機械臂4及該吸片機5提供能量。
[0015]籍由上述之結構，本發明可以半自動地完成基片安裝的工作，整個安裝過程中，僅需人工將基片放入該儲片匣I即可，剩余的操作將由該等離子體氣相沉積用半自動插片機完成，省去了人工搬片及人工對片的麻煩，降低了生產成本，極大地提高了工作效率及對片精度，保證了鍍膜產品的優良品質和外觀。
[0016]優選的，該儲片匣I可從本發明中略去，該基片從生產線通過人工搬運至該吸片機5旁，然后該吸片機5進行吸片。
[0017]優選的，該機械臂4吸在該基片的側面中心部位，將該基片放入該PECVD爐中后，該機械臂4撤走，該基片由人工推入該基片插座。
[0018]優選的，該軌道2進一步包括兩個擋板，固定于該軌道2的兩端，用于防止該軌道車3滑落。
[0019]優選的，所述的一種等離子體氣相沉積用半自動插片機，進一步包括一控制面板，用于手動啟動和停止該等離子體氣相沉積用半自動插片機。
[0020]優選的，所述的一種等離子體氣相沉積用半自動插片機，進一步包括一保護單元，用于在過載，短路，漏電和過熱時使該等離子體氣相沉積用半自動插片機停止工作。
[0021]藉由上述之結構，該保護單元可以有效防止過載，短路，漏電和過熱對該等離子體氣相沉積用半自動插片機帶來的損害。
[0022]優選的，其中，該軌道車3包括:
一車體；
復數個車輪，設置于該車體的一下部，其中，該車輪被該軌道2限制以此沿該軌道2滾動；
一第一電機11，用于驅動該車輪；
一平臺，固定于該車體的一上部，其中，該機械臂4固定于該平臺；
一距離傳感器10，固定于該車體上，用于測量該軌道車3與該儲片匣I之間的一第一距離及與該PECVD爐之間的一第二距離；及
一第一控制單元9，用于控制該第一電機11，其中，當該第一距離小于一第一預設距離，或該第二距離小于一第二預設距離時，該第一控制單元9使該第一電機11停止工作，并當該機械臂4及該吸片機5完成工作時使該第一電機11反向工作，以此使該軌道車3從該第一位置移動至該第二位置，或從該第二位置移動至該第一位置。
[0023]籍由上述之結構，該軌道車3可以自動往返于該第一位置及該第二位置之間，整個過程不需人為干預，降低了生產成本，提高了工作效率。
[0024]優選的，該軌道車3進一步包括剎車裝置，固定于該車輪，用于使該軌道車3快速停止。
[0025]優選的，其中，該機械臂4包括:
一升降臂，擁有一齒狀邊緣；
一第二電機13,擁有一齒輪,其中，該齒輪與該齒狀邊緣嚙合，以此通過該第二電機13驅動該升降臂；
一支架，固定于該升降臂的一下部，其中，該支架擁有該工作端，用于固定該吸片機5;一定位傳感器7，設置于該升降臂，用于測定該升降臂的一位置信息；及一第二控制單元12，用于控制該第二電機13，其中，當該位置信息與一預設位置信息相符合時，該第二控制單元12使該第二電機13停止工作，并當該吸片機5完成工作時使該第二電機13反向工作。
[0026]籍由上述之結構，該機械臂4可以輔助該吸片機5完成取片操作及插片操作，且使用了該定位傳感器7，使該機械臂4被限定在有效范圍內工作，整個過程不需人為干預，降低了生產成本，提高了工作效率。
[0027]優選的，該機械臂4進一步包括一配重塊，用于使該軌道車3受到的總力矩為零以此提供穩定性并減少脫軌的可能性。
[0028]優選的，其中，該吸片機5包括:
一真空吸盤8，用于吸住該基片；
一真空泵15，用于為該真空吸盤8減壓；及一第三控制單元14，用于控制該真空泵15以完成吸片操作。
[0029]籍由上述之結構，該吸片機5可以用真空吸盤8進行取片操作，其具有吸力強，不易損傷基片表面的優點，且整個過程不需人為干預，降低了生產成本，提高了工作效率。
[0030]優選的，該真空吸盤8為橡膠材質，用于更好地貼合該基片。
[0031]通過上述實施例，本發明的目的已經被完全有效的達到了。熟悉該項技藝的人士應該明白本發明包括但不限于附圖和上面【具體實施方式】中描述的內容。任何不偏離本發明的功能和結構原理的修改都將包括在權利要求書的范圍中。
【權利要求】
1.一種等離子體氣相沉積用半自動插片機，包括: 一儲片匣，用于存放一基片； 一軌道，用于將該基片從該儲片匣運送至一 PECVD爐； 一軌道車，設置于該軌道并沿該軌道運動，其中，該軌道車往返于靠近該儲片匣的一第一位置及靠近該PECVD爐的一第二位置之間； 一機械臂，固定于該軌道車，其中，該機械臂擁有一工作端； 一吸片機，固定于該工作端，用于吸片，其中，當該軌道車位于該第一位置時，該吸片機吸住該儲片匣中的該基片，并通過該機械臂的運動將該基片取出，然后該軌道車向該PECVD爐移動并到達該第二位置，該機械臂運動并將該基片放入該PECVD爐中后，再將該基片推入一基片插座，之后，該吸片機停止吸片并通過該機械臂的運動離開該PECVD爐以此完成基片安裝，最后，該軌道車向該儲片匣移動并到達該第一位置重新吸片；及一驅動單元，用于對該軌道車，該機械臂及該吸片機提供能量。
2.根據權利要求1所述的一種等離子體氣相沉積用半自動插片機，其中，該軌道進一步包括兩個擋板，固定于該軌道的兩端，用于防止該軌道車滑落。
3.根據權利要求1所述的一種等離子體氣相沉積用半自動插片機，進一步包括一控制面板，用于手動啟動和停止該等離子體氣相沉積用半自動插片機。
4.根據權利要求1所述的一種等離子體氣相沉積用半自動插片機，進一步包括一保護單元，用于在過載，短路，漏電和過熱時使該等離子體氣相沉積用半自動插片機停止工作。
5.根據權利要求1所述的一種等離子體氣相沉積用半自動插片機，其中，該軌道車包括: 一車體； 復數個車輪，設置于該車體的一下部，其中，該車輪被該軌道限制以此沿該軌道滾動； 一第一電機，用于驅動該車輪； 一平臺，固定于該車體的一上部，其中，該機械臂固定于該平臺； 一距離傳感器，固定于該車體上，用于測量該軌道車與該儲片匣之間的一第一距離及與該PECVD爐之間的一第二距離；及 一第一控制單元，用于控制該第一電機，其中，當該第一距離小于一第一預設距離，或該第二距離小于一第二預設距離時，該第一控制單元使該第一電機停止工作，并當該機械臂及該吸片機完成工作時使該第一電機反向工作，以此使該軌道車從該第一位置移動至該第二位置，或從該第二位置移動至該第一位置。
6.根據權利要求5所述的一種等離子體氣相沉積用半自動插片機，其中，該軌道車進一步包括剎車裝置，固定于該車輪，用于使該軌道車快速停止。
7.根據權利要求1所述的一種等離子體氣相沉積用半自動插片機，其中，該機械臂包括: 一升降臂，擁有一齒狀邊緣； 一第二電機，擁有一齒輪，其中，該齒輪與該齒狀邊緣嚙合，以此通過該第二電機驅動該升降臂； 一支架，固定于該升降臂的一下部，其中，該支架擁有該工作端，用于固定該吸片機； 一定位傳感器，設置于該升降臂，用于測定該升降臂的一位置信息；及 一第二控制單元，用于控制該第二電機，其中，當該位置信息與一預設位置信息相符合時，該第二控制單元使該第二電機停止工作，并當該吸片機完成工作時使該第二電機反向工作。
8.據權利要求7所述的一種等離子體氣相沉積用半自動插片機，其中，該機械臂進一步包括一配重塊，用于使該軌道車受到的總力矩為零以此提供穩定性并減少脫軌的可能性。
9.根據權利要求1所述的一種等離子體氣相沉積用半自動插片機，其中，該吸片機包括: 一真空吸盤，用于吸住該基片； 一真空泵，用于為該真空吸盤減壓；及 一第三控制單元，用于控制該真空泵以完成吸片操作。
10.據權利要求9所述的一種等離子體氣相沉積用半自動插片機，其中，該真空吸盤為橡膠材質，用于更好地貼合該基片。
【文檔編號】C23C16/458GK104342638SQ201310333710
【公開日】2015年2月11日 申請日期:2013年8月3日 優先權日:2013年8月3日
【發明者】沙嫣, 沙曉林 申請人:沙嫣, 沙曉林