一種蒸鍍設備的制作方法
【專利摘要】本發明涉及顯示裝置的制造【技術領域】，公開了一種蒸鍍設備，可以實現連續蒸鍍，提高生產效率，降低生產成本。蒸鍍設備包括：蒸鍍室，內部設置有可容置坩堝的坩堝置換盤、夾具，以及至少一個加熱坩堝的蒸鍍裝置；置換室，內部設置有可容置坩堝的坩堝置換盤；將蒸鍍室與置換室連通或隔離的閥門；對置換室抽真空的抽真空設備；控制設備，控制夾具夾持坩堝在蒸鍍位置和蒸鍍室內的坩堝置換盤之間換位，以及控制夾具在閥門打開時夾持坩堝置換盤在蒸鍍室和置換室之間換位。向蒸鍍室內添加蒸鍍材料無需降溫和破真空，蒸鍍裝置可以進行連續蒸鍍，大大提高了生產效率，降低了生產成本。
【專利說明】一種蒸鍍設備
【技術領域】
[0001]本發明涉及顯示裝置的制造【技術領域】，特別是涉及一種蒸鍍設備。
【背景技術】
[0002]OLED (Organic Light-Emitting Diode,有機發光二級管，簡稱 0LED)顯示屏由于具有薄、輕、寬視角、主動發光、發光顏色連續可調、成本低、響應速度快、能耗小、驅動電壓低、工作溫度范圍寬、生產工藝簡單、發光效率高及可柔性顯示等優點，已被列為極具發展前景的下一代顯示技術。
[0003]在基板上形成OLED器件通常采用蒸鍍工藝，其是指在一定的真空條件下加熱蒸鍍材料，使蒸鍍材料熔化(或升華)成原子、分子或原子團組成的蒸氣，然后凝結在基板表面成膜，從而形成OLED器件的功能層。
[0004]蒸鍍工藝按照蒸鍍源(蒸鍍材料的加熱裝置)的類型可分為點源蒸鍍和線源蒸鍍，其中點源蒸鍍技術發展較為成熟，已經在生產線實現了量產。真空度和蒸鍍溫度是蒸鍍工藝中的重要技術指標，現有技術中，當需要向蒸鍍室內添加蒸鍍材料時，需要先停止生產，使設備降溫并破真空，當蒸鍍材料添加完畢后需要再次對蒸鍍室抽真空并加熱蒸鍍材料。可見，現有的蒸鍍設備無法進行連續蒸鍍，生產效率較低，生產成本較高，此外，向蒸鍍室內添加蒸鍍材料也極易導致粉塵進入，從而造成基板污染。

【發明內容】

[0005]本發明實施例提供了一種蒸鍍設備，可以實現連續蒸鍍，提高生產效率，降低生產成本。
[0006]本發明實施例提供的蒸鍍設備，包括:
[0007]蒸鍍室，內部設置有可容置坩堝的坩堝置換盤、夾具，以及至少一個加熱坩堝的蒸鍍裝置；
[0008]置換室，內部設置有可容置坩堝的坩堝置換盤；
[0009]將蒸鍍室與置換室連通或隔離的閥門；
[0010]對所述置換室抽真空的抽真空設備；
[0011]控制設備，控制夾具夾持坩堝在蒸鍍位置和蒸鍍室內的坩堝置換盤之間換位，以及控制夾具在閥門打開時夾持坩堝置換盤在蒸鍍室和置換室之間換位。
[0012]在本發明技術方案中，當蒸鍍裝置加熱坩堝使蒸鍍材料消耗殆盡時，夾具將空坩堝移至蒸鍍室內的坩堝置換盤中，并將該坩堝置換盤中填有相同材料的坩堝移至原蒸鍍位置，使蒸鍍裝置繼續進行蒸鍍作業；當蒸鍍室內坩堝置換盤中無可用坩堝時，打開閥門，使處于真空狀態的蒸鍍室和置換室連通，夾具將蒸鍍室內的坩堝置換盤移至置換室內，并將置換室內已放置填料坩堝的坩堝置換盤移至蒸鍍室內，然后關閉閥門；當需要對置換室中的坩堝填料時，保持閥門處于關閉狀態，對置換室破真空，取出置換室中的坩堝置換盤，對坩堝填料后再放入置換室內，然后對置換室抽真空。可見，向蒸鍍室內添加蒸鍍材料無需降溫和破真空，蒸鍍裝置可以進行連續蒸鍍，大大提高了生產效率，降低了生產成本。
[0013]優選的，所述蒸鍍室內部還設置有:位于坩堝置換盤上方的第一遮擋板，以及每一個蒸鍍裝置所對應的坩堝上方的第二遮擋板。第一遮擋板可以防止蒸鍍室內坩堝置換盤中的坩堝材料蒸發，從而污染基板，影響最終的蒸鍍效果；同理，在未開始蒸鍍作業時，第二遮擋板可以防止蒸鍍裝置所對應的坩堝材料蒸發。
[0014]優選的，每一個坩堝置換盤具有至少一個填料坩堝容置槽和至少一個空坩堝容置槽。填料坩堝容置槽對應放入填料坩堝，空坩堝容置槽對應放入空坩堝，這樣，較易區分坩堝置換盤中坩堝的使用狀態，有利于提高夾具的自動化程度，并且，坩堝在坩堝置換盤中也可平穩放置。
[0015]更優的，所述填料坩堝容置槽內設置有預熱裝置。蒸鍍裝置對坩堝的加熱溫度較高，在填料坩堝容置槽內設置預熱裝置可以對填料坩堝進行預熱，以減少蒸鍍裝置的加熱時間，提聞加熱效率。
[0016]可選的，所述預熱裝置包括加熱絲或加熱筒。
[0017]可選的，所述夾具包括:夾持坩堝在蒸鍍位置和蒸鍍室內的坩堝置換盤之間換位的坩堝夾，以及夾持坩堝置換盤在蒸鍍室和置換室之間換位的置換盤夾。
[0018]優選的，所述置換室包括至少兩個放置坩堝置換盤的區域。這樣夾具可以分步操作，先將蒸鍍室內的坩堝置換盤移至置換室內的其中一個放置區域，再將另一個放置區域內的已放置填料坩堝的坩堝置換盤移至蒸鍍室內。
[0019]較佳的，在所述蒸鍍室內部，所述至少一個蒸鍍裝置分布于坩堝置換盤的周邊。坩堝在蒸鍍位置和蒸鍍室內的坩堝置換盤之間的移動距離較短，有利于提高整個蒸鍍設備的蒸鍍效率。
【專利附圖】

【附圖說明】
[0020]圖1為本發明一實施例的蒸鍍設備立體結構示意圖；
[0021]圖2為一實施例中坩堝置換盤的俯視結構示意圖；
[0022]圖3為圖2中A-A向剖視圖；
[0023]圖4為本發明另一實施例所提供的蒸鍍設備俯視結構示意圖。
[0024]附圖標記:
[0025]11-蒸鍍室12-坩堝13-坩堝置換盤
[0026]15-蒸鍍裝置16-置換室17-閥門
[0027]18-抽真空設備19-第一遮擋板 20-第二遮擋板
[0028]21-填料坩堝容置槽 22-空坩堝容置槽 23-預熱裝置
[0029]24-坩堝夾25-置換盤夾26-放置坩堝置換盤的區域
【具體實施方式】
[0030]為了提高生產效率，降低生產成本，本發明實施例提供了一種蒸鍍設備。為使本發明的目的、技術方案和優點更加清楚，以下舉實施例對本發明作進一步詳細說明。
[0031]如圖1所示，本發明實施例提供的蒸鍍設備，包括:
[0032]蒸鍍室11，內部設置有可容置坩堝12的坩堝置換盤13、夾具，以及至少一個加熱坩堝12的蒸鍍裝置15 ；
[0033]置換室16，內部設置有可容置坩堝12的坩堝置換盤13 ；
[0034]將蒸鍍室11與置換室16連通或隔離的閥門17 ；
[0035]對置換室16抽真空的抽真空設備18 ；
[0036]控制設備(圖中未示出)，控制夾具夾持坩堝12在蒸鍍位置和蒸鍍室11內的坩堝置換盤13之間換位，以及控制夾具在閥門17打開時夾持坩堝置換盤13在蒸鍍室11和置換室16之間換位。
[0037]本發明各實施例中，坩堝置換盤13的具體形狀不限，例如可以為方形、多邊形、也可以為圖1實施例所示的圓形。蒸鍍裝置15的數量不限，可根據蒸鍍設備的具體型號等參數進行設置，例如可以為I~100個(如圖4所示)。蒸鍍室11內坩堝置換盤13的放置位置不限，只要能夠配合夾具動作，便于夾具夾取即可。至少一個蒸鍍裝置15優選分布于坩堝置換盤13的周邊，這樣坩堝12在蒸鍍位置和蒸鍍室11內的坩堝置換盤13之間的移動距離較短，有利于提高整個蒸鍍設備的蒸鍍效率。
[0038]夾具可被控制夾持坩堝12在蒸鍍位置和蒸鍍室11內的坩堝置換盤13之間換位，并且可被控制夾持坩堝置換盤13在蒸鍍室11和置換室16之間換位，可以設計為同時具備以上兩種功能的一個機械手臂(既可夾持坩堝12移動，也可夾持坩堝置換盤13移動)，也可以設計為兩個機械手臂，分別夾持坩堝12移動和坩堝置換盤13移動，如圖1所示，該實施例中，夾具包括:夾持坩堝12在蒸鍍位置和蒸鍍室11內的坩堝置換盤13之間換位的坩堝夾24，以及夾持坩堝置換盤13在蒸鍍室11和置換室16之間換位的置換盤夾25。
[0039]在本發明技術方案中，當蒸鍍裝置15加熱坩堝12使蒸鍍材料消耗殆盡時，夾具將空坩堝移至蒸鍍室11內的坩堝置換盤(對應圖1所示狀態的I號坩堝置換盤)中，并將該坩堝置換盤中填有相同材料的坩堝移至原蒸鍍位置，使蒸鍍裝置15繼續進行蒸鍍作業；當蒸鍍室11內坩堝置換盤中無可用坩堝時，打開閥門17，使處于真空狀態的蒸鍍室11和置換室16連通，夾具將蒸鍍室11內的坩堝置換盤移至置換室16內，并將置換室16內已放置填料坩堝的坩堝置換盤(對應圖1所示狀態的2號坩堝置換盤)移至蒸鍍室11內，然后關閉閥門17 ;當需要對置換室16中的坩堝填料時，保持閥門17處于關閉狀態，對置換室16破真空，取出置換室16中的坩堝置換盤，對坩堝填料后再放入置換室16內，然后對置換室16抽真空。可見，向蒸鍍室11內添加蒸鍍材料無需降溫和破真空，蒸鍍裝置15可以進行連續蒸鍍，大大提高了生產效率，降低了生產成本，也避免了現有技術中因添加材料導致的粉塵污染。
[0040]請繼續參照圖1所示，蒸鍍室11內部還設置有:位于坩堝置換盤13上方的第一遮擋板19，以及每一個蒸鍍裝置15所對應的坩堝12上方的第二遮擋板20。第一遮擋板19可以防止蒸鍍室11內坩堝置換盤13中的坩堝材料蒸發，從而污染基板，影響最終的蒸鍍效果；同理，在未開始蒸鍍作業時，第二遮擋板20可以防止蒸鍍裝置15所對應的坩堝材料蒸發。該實施例方案有利于改善蒸鍍質量，提高OLED器件的制作合格率。
[0041]如圖2所示，優選的，每一個坩堝置換盤13具有至少一個填料坩堝容置21槽和至少一個空坩堝容置槽22。填料坩堝容置槽21對應放置填料坩堝，空坩堝容置槽22對應放入空坩堝，這樣，較易區分坩堝置換盤13中坩堝的使用狀態，有利于提高夾具的自動化程度，并且，坩堝放置在容置槽中也較為穩實、可靠。填料坩堝容置槽21和空坩堝容置槽22的具體數量不限，可根據蒸鍍裝置的數量進行相應設計。例如，蒸鍍裝置數量為50個，填料坩堝容置槽和空坩堝容置槽數量分別為50個。
[0042]請參照圖2和圖3所示，填料坩堝容置槽21內設置有預熱裝置23。蒸鍍裝置對坩堝的加熱溫度較高(需要使蒸鍍材料達到蒸鍍工藝所要求的溫度)，在填料坩堝容置槽21內設置預熱裝置23可以對填料坩堝進行預熱，當填料坩堝被移動至蒸鍍位置時，蒸鍍裝置15的加熱時間可以相應縮短，這樣便提高了蒸鍍效率。預熱裝置23的具體類型和結構形式不限，例如可以選用加熱效果較好的加熱絲或加熱筒。
[0043]在本發明的一個優選實施例中，置換室16包括至少兩個放置坩堝置換盤13的區域26。這樣夾具可以分步操作，先將蒸鍍室11內的坩堝置換盤移至置換室16內的其中一個放置區域，再將另一個放置區域內的已放置填料坩堝的坩堝置換盤移至蒸鍍室11內。可根據置換室16的結構形狀以及夾具的結構形式來劃分這些放置區域，例如，至少兩個放置區域平層設置(如圖4所示)，或者沿高度方向依次設置等。
[0044]圖1所示實施例的蒸鍍設備實現連續蒸鍍的過程如下:
[0045]進行點源蒸鍍時，第二遮擋板20打開，蒸鍍裝置15對坩堝12內的材料進行加熱，使之形成蒸汽，蒸汽凝結在貼覆有掩模板的基板(設置在坩堝12的上方，圖中未示出)表面，從而在基板上形成功能層的圖案；
[0046]當蒸鍍裝置15所對應的坩堝12內的蒸鍍材料消耗殆盡時，第一遮擋板19打開，夾具將空坩堝移至I號坩堝置換盤的空坩堝容置槽內，并將I號坩堝置換盤中填料坩堝容置槽內的填料坩堝(已在蒸鍍室內被預熱裝置預熱)移至原蒸鍍位置，第一遮擋板19關閉，使蒸鍍裝置繼續進行蒸鍍作業；
[0047]當I號坩堝置換盤中的填料坩堝均被置換為空坩堝時，打開閥門17，使處于真空狀態的蒸鍍室11和置換室16連通，夾具將I號坩堝置換盤移至置換室16的上層，并將置換室16下層已放置填料坩堝的2號坩堝置換盤移至蒸鍍室11內，然后關閉閥門17 ；
[0048]當需要對置換室16中I號坩堝置換盤的空坩堝填料時，保持閥門17處于關閉狀態，對置換室16破真空，取出置換室16上層的I號坩堝置換盤，對空坩堝填料后放入置換室16的下層，然后對置換室16抽真空。
[0049]從以上過程可以看出，向蒸鍍室內添加蒸鍍材料無需降溫和破真空，蒸鍍裝置可以進行連續蒸鍍，大大提高了生產效率，降低了生產成本。
[0050]顯然，本領域的技術人員可以對本發明進行各種改動和變型而不脫離本發明的精神和范圍。這樣，倘若本發明的這些修改和變型屬于本發明權利要求及其等同技術的范圍之內，則本發明也意圖包含這些改動和變型在內。
【權利要求】
1.一種蒸鍍設備，其特征在于，包括: 蒸鍍室，內部設置有可容置坩堝的坩堝置換盤、夾具，以及至少一個加熱坩堝的蒸鍍裝置； 置換室，內部設置有可容置坩堝的坩堝置換盤 ； 將蒸鍍室與置換室連通或隔離的閥門； 對所述置換室抽真空的抽真空設備； 控制設備，控制夾具夾持坩堝在蒸鍍位置和蒸鍍室內的坩堝置換盤之間換位，以及控制夾具在閥門打開時夾持坩堝置換盤在蒸鍍室和置換室之間換位。
2.如權利要求1所述的蒸鍍設備，其特征在于，所述蒸鍍室內部還設置有:位于坩堝置換盤上方的第一遮擋板，以及每一個蒸鍍裝置所對應的坩堝上方的第二遮擋板。
3.如權利要求1所述的蒸鍍設備，其特征在于， 每一個坩堝置換盤具有至少一個填料坩堝容置槽和至少一個空坩堝容置槽。
4.如權利要求3所述的蒸鍍設備，其特征在于，所述填料坩堝容置槽內設置有預熱裝置。
5.如權利要求4所述的蒸鍍設備，其特征在于，所述預熱裝置包括加熱絲或加熱筒。
6.如權利要求1所述的蒸鍍設備，其特征在于，所述夾具包括:夾持坩堝在蒸鍍位置和蒸鍍室內的坩堝置換盤之間換位的坩堝夾，以及夾持坩堝置換盤在蒸鍍室和置換室之間換位的置換盤夾。
7.如權利要求1所述的蒸鍍設備，其特征在于，所述置換室包括至少兩個放置坩堝置換盤的區域。
8.如權利要求1~7任一項所述的蒸鍍設備，其特征在于，在所述蒸鍍室內部，所述至少一個蒸鍍裝置分布于坩堝置換盤的周邊。
【文檔編號】C23C14/24GK103526164SQ201310505072
【公開日】2014年1月22日 申請日期:2013年10月23日 優先權日:2013年10月23日
【發明者】李元虎, 馬大偉, 王玉 申請人:京東方科技集團股份有限公司, 合肥鑫晟光電科技有限公司