技術總結
本發明涉及一種改進的真空鍍膜設備，包括外殼，外殼的內部設有卷繞室和鍍膜室，卷繞室中設有放卷輥、放膜過渡輥、第一張力調節輥、第一展平輥、主輥、壓輥、第二張力調節輥、導輥、第二展平輥、牽引輥和收券輥，主輥的端部設有軸承座，外殼的外部設有一層絕緣層，軸承座的下方設有絕緣基座，卷繞室中還設有與主輥相配合的弧形摩擦板和第一液壓伸縮桿，摩擦板包括弧形絕緣主板，絕緣主板的內側設有弧形第一摩擦層。該改進的真空鍍膜設備利用摩擦板和主輥以及定摩擦輪和動摩擦輪產生靜電使得原料膜能夠完全與主輥貼合，保證原料膜在蒸鍍時金屬鍍層分散均勻，避免產生疵點，制成的金屬化薄膜的質量顯著提高。

技術研發人員：宋仁祥;宋仁喜;吳義超;談智勇;汪志彬;宋雪峰
受保護的技術使用者：安徽省寧國市海偉電子有限公司
文檔號碼：201610732823
技術研發日：2016.08.27
技術公布日：2016.11.30