本發明涉及自動化設備技術領域，尤其涉及電動可調鍍膜擋板裝置及鍍膜設備。

背景技術：

在真空鍍膜設備的使用過程中，常出現靶材濺射均勻性波動的問題。目前，一般采用工藝氣體進行微調。但是，工藝氣體調節范圍有限，當靶材濺射均勻性出現較大的波動時，只能回氣在大氣狀態處理，調節完后再抽真空回到生產狀態。然而，回氣在大氣狀態處理的方法僅限于旋轉陰極，對平面陰極無能為力。此外，回氣在大氣狀態處理的方法調節周期一般會超過24小時，并且調節后不一定能夠達到預想的效果，有可能再次回氣調整，這樣不僅浪費時間，還會導致交貨和產量問題，而且生產成本非常高。

技術實現要素：

本發明的目的在于提供一種電動可調鍍膜擋板裝置及鍍膜設備，旨在解決現有技術中鍍膜中采用工藝氣體調節的方法調節范圍有限以及回氣在大氣狀態處理的方法浪費時間且生產成本高的技術問題。

為實現上述目的，本發明的技術方案是：電動可調鍍膜擋板裝置，應用于鍍膜設備中，所述鍍膜設備包括間隔設置的靶材和基片，所述電動可調鍍膜擋板裝置包括底板、設于所述底板上方的擋板組件以及設于所述底板上方與所述擋板組件連接并用于控制所述擋板組件運動以伸出所述底板外至所述靶材與所述基片之間的調節機構。

進一步地，所述擋板組件包括若干依序相互活動連接的擋片，且相鄰的所述擋片之間疊層設置。

進一步地，所述調節機構包括若干個數量相同的搖臂、轉盤和驅動電機，所述驅動電機安裝于所述底板的上方，所述轉盤與所述驅動電機的輸出軸連接，各所述搖臂的第一端與對應的一所述轉盤的一側固定連接，各所述搖臂的第二端與對應的一所述擋片的一側鉸接。

進一步地，所述調節機構還包括若干個數量與所述搖臂相同的鉸接桿，各所述搖臂的第二端設有連接孔，所述擋片與所述連接孔對應的位置設有安裝孔，所述底板與所述安裝孔對應的位置設有沿所述擋片的運動方向分布的導向槽，所述鉸接桿穿設所述連接孔、相鄰的兩所述擋片的所述安裝孔和所述導向槽。

進一步地，所述驅動電機為步進電機或者伺服電機。

進一步地，所述電動可調鍍膜擋板裝置還包括設于所述底板上方并罩設住所述擋板組件和所述調節機構的保護罩。

進一步地，所述電動可調鍍膜擋板裝置還包括套設于所述驅動電機外并與所述保護罩固定連接的電機支撐件。

本發明的有益效果：本發明的電動可調鍍膜擋板裝置，應用于鍍膜設備中，所述鍍膜設備包括間隔設置的靶材和基片，在真空鍍膜過程中，當檢測到基片上膜層存在不均勻區域時，調節機構控制擋板組件延伸出底板外至靶材與基片之間，使得擋板組件擋住膜層較厚區域的基片，從而控制該區域膜層的均勻性。由于本發明的電動可調鍍膜擋板裝置中的擋板組件可以大范圍的使用，因此可以解決工藝氣體調節方法調節范圍有限的技術問題；此外，本發明的電動可調鍍膜擋板裝置可以在真空狀態下使用，不用回氣在大氣狀態處理，因此，可以有效避免因回氣調整均勻性造成的成本和時間浪費。

本發明的另一技術方案是：一種鍍膜設備，包括間隔設置的靶材和基片，所述鍍膜設備還包括至少一個位于所述靶材和所述基片同一側的上述的電動可調鍍膜擋板裝置。

進一步地，所述鍍膜設備還包括與所述調節機構的電動部件連接以用于控制所述調節機構工作的控制器。

進一步地，所述電動可調鍍膜擋板裝置有兩個，且兩個所述電動可調鍍膜擋板裝置分別位于所述靶材和所述基片的兩側。

本發明的鍍膜設備，由于使用有至少一個上述的電動可調鍍膜擋板裝置，從而不必回大氣進行處理，可以在真空狀態下對基片的膜層均勻性進行大范圍的調節，進而有效地節約時間和成本。

附圖說明

圖1為本發明實施例提供的電動可調鍍膜擋板裝置的結構示意圖。

圖2為本發明實施例提供的電動可調鍍膜擋板裝置的結構分解示意圖。

圖3為圖2中A處的局部結構放大示意圖。

圖4為本發明實施例提供的電動可調鍍膜擋板裝置的局部結構剖切圖。

附圖標記包括：

10—底板 11—導向槽 20—擋板組件

21—擋片 30—調節機構 31—搖臂

32—轉盤 33—驅動電機 34—鉸接桿

40—保護罩 50—電機支撐件 211—安裝孔

311—連接孔。

具體實施方式

下面詳細描述本發明的實施例，所述實施例的示例在附圖中示出，其中自始至終相同或類似的標號表示相同或類似的元件或具有相同或類似功能的元件。下面通過參考附圖1～4描述的實施例是示例性的，旨在用于解釋本發明，而不能理解為對本發明的限制。

在本發明的描述中，需要理解的是，術語“長度”、“寬度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”“內”、“外”等指示的方位或位置關系為基于附圖所示的方位或位置關系，僅是為了便于描述本發明和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構造和操作，因此不能理解為對本發明的限制。

此外，術語“第一”、“第二”僅用于描述目的，而不能理解為指示或暗示相對重要性或者隱含指明所指示的技術特征的數量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隱含地包括一個或者更多個該特征。在本發明的描述中，“多個”的含義是兩個或兩個以上，除非另有明確具體的限定。

在本發明中，除非另有明確的規定和限定，術語“安裝”、“相連”、“連接”、“固定”等術語應做廣義理解，例如，可以是固定連接，也可以是可拆卸連接，或成一體；可以是機械連接，也可以是電連接；可以是直接相連，也可以通過中間媒介間接相連，可以是兩個元件內部的連通或兩個元件的相互作用關系。對于本領域的普通技術人員而言，可以根據具體情況理解上述術語在本發明中的具體含義。

如圖1～4所示，本發明實施例提供的電動可調鍍膜擋板裝置，應用于鍍膜設備中，鍍膜設備包括間隔設置的靶材(圖未示)和基片(圖未示)，電動可調鍍膜擋板裝置包括底板10、設于底板10上方的擋板組件20以及設于底板10上方與擋板組件20連接并用于控制擋板組件20運動以伸出底板10外至靶材與基片之間的調節機構30。

本發明實施例的電動可調鍍膜擋板裝置，應用于鍍膜設備中，鍍膜設備包括間隔設置的靶材和基片，在真空鍍膜過程中，當檢測到基片上膜層存在不均勻區域時，調節機構30控制擋板組件20延伸出底板10外至靶材與基片之間，使得擋板組件20擋住膜層較厚區域的基片，從而控制該區域膜層的均勻性。由于本發明實施例的電動可調鍍膜擋板裝置中的擋板組件20可以大范圍的使用，因此可以解決工藝氣體調節方法調節范圍有限的技術問題；此外，本發明實施例的電動可調鍍膜擋板裝置可以在真空狀態下使用，不用回氣在大氣狀態處理，因此，可以有效避免因回氣調整均勻性造成的成本和時間浪費。

進一步地，擋板組件20包括若干依序相互活動連接的擋片21，且相鄰的擋片21之間疊層設置。擋片21形狀可以為長方形、圓角矩形或橢圓形等。由于擋片21為活動連接，相鄰擋片21之間可以相互運動，因此，在基片上膜層不均勻的區域，可通過調節機構30控制相鄰擋片21之間的相對運動，從而改變擋片21之間開口大小，實現基片上膜層厚度在同一水平。

如圖2～4所示，進一步地，調節機構30包括若干個數量相同的搖臂31、轉盤32和驅動電機33，驅動電機33安裝于底板10的上方，轉盤32與驅動電機33的輸出軸連接，各搖臂31的第一端與對應的一轉盤32的一側固定連接，各搖臂31的第二端與對應的一擋片21的一側鉸接。使用時，根據基片膜層均勻性確定所需調節的位置，然后，啟動相應位置的驅動電機33，通過相應位置的驅動電機33旋轉帶動轉盤32轉動，由于搖臂31與轉盤32連接，且搖臂31會跟隨著轉盤32運動，那么當驅動電機33控制轉盤32作正反轉時，即可實現控制搖臂31作前進后后退的運動，從而通過搖臂31推動擋板組件20中的其中至少一個擋片21移動或者整個擋板組件20的整體移動，以此來實現膜層均勻性調整。

如圖2～4所示，進一步地，調節機構30還包括若干個數量與搖臂31相同的鉸接桿34，各搖臂31的第二端設有連接孔311，擋片21與連接孔311對應的位置設有安裝孔211，底板10與安裝孔211對應的位置設有沿擋片21的運動方向分布的導向槽11，鉸接桿34穿設連接孔311、相鄰的兩擋片21的安裝孔211和導向槽11。具體地，搖臂31在轉盤32的帶動下作前后方向運動，由于搖臂31的前端開設的連接孔311連接有鉸接桿34，且鉸接桿34同時連接單個擋片21或者疊層設置的擋片21，這樣，鉸接桿34隨著搖臂31動作時就可以實現帶動擋片21動作。又由于鉸接桿34是穿設在導向槽11內的，那么通過該導向槽11的設置限制了鉸接桿34的運動行程和方向，如此就可以確保控制擋片21在設定的區域內動作，確保生產的穩定性。

如圖2所示，進一步地，驅動電機33為步進電機或者伺服電機。優選地，驅動電機33為步進電機。本發明實施例通過計算步進電機的脈沖數，可精確控制擋板組件20中的擋片21的移動距離，進而精確控制擋板組件20的開口大小，以實現高效解決真空狀態下調節鍍膜均勻性的問題。

進一步地，步進電機上設有減速器(圖未示)。減速器可以在降速的同時提高輸出扭矩，并降低負載的慣量。

進一步地，步進電機上設有扭力放大器(圖未示)。扭力放大器又稱扭矩倍增器，是一種將力矩放大的裝置。

在其他實施例中，調節機構30還可以是氣缸或者電缸。調節機構30為氣缸時，可以將氣缸的缸體固定在底板10上，氣缸的活塞桿與擋板組件20連接，這樣通過氣缸的活塞桿的伸縮來控制擋板組件20的運動。調節機構30為電缸時，電缸的外殼固定在底板10上，電缸的滑塊與擋板組件20通過傳動件連接，那么電缸的滑塊動作時即可帶動擋板組件20動作。

如圖1和圖4所示，電動可調鍍膜擋板裝置還包括設于底板10上方并罩設住擋板組件20和調節機構30的保護罩40。通過設置保護罩40，可有效地防止在鍍膜過程中擋板組件20和調節機構30被污染。其中，保護罩40可以與底板10可拆卸連接，例如采用扣接或者通過緊固件連接。當然，還可以將保護罩40與底板10焊接連接。根據實際情況的需要，選擇合適的連接方式以連接保護罩40和底板10。

如圖2和圖4所示，電動可調鍍膜擋板裝置還包括套設于驅動電機33外并與保護罩40固定連接的電機支撐件50。電機支撐件50可有效地固定驅動電機33，以使驅動電機33在運行時平穩性高。

本發明實施例還提供一種鍍膜設備，包括間隔設置的靶材(圖未示)和基片(圖未示)，鍍膜設備還包括至少一個位于靶材和基片同一側的上述的電動可調鍍膜擋板裝置。

本發明實施例的鍍膜設備，由于使用有至少一個上述的電動可調鍍膜擋板裝置，從而不必回大氣進行處理，可以在真空狀態下對基片的膜層均勻性進行大范圍的調節，進而有效地節約時間和成本。本發明實施例的鍍膜設備可以是磁控濺射鍍膜系統、脈沖激光沉積系統等。

進一步地，鍍膜設備還包括與調節機構30的電動部件電性連接以用于控制調節機構30工作的控制器(圖未示)。具體地，通過控制器可以協調控制各個調節機構30的驅動電機33工作，以實現控制各個擋片21的工作。其中，控制器可以是PLC控制器或者計算機等。

進一步地，電動可調鍍膜擋板裝置有兩個，且兩個電動可調鍍膜擋板裝置分別位于靶材和基片的兩側。本發明實施例通過在靶材和基片的兩側分別設置電動可調鍍膜擋板裝置，使得膜層均勻性調節范圍更廣，更靈活。

以上所述僅為本發明的較佳實施例而已，并不用以限制本發明，凡在本發明的思想和原則之內所作的任何修改、等同替換或改進等，均應包含在本發明的保護范圍之內。