一種車燈鍍膜設備及其鍍膜方法
【專利摘要】本發明屬于真空鍍膜技術領域，特別涉及一種車燈鍍膜設備及其鍍膜方法，所述鍍膜設備包括真空鍍膜室、與真空鍍膜室連通的抽氣管道和反應氣充氣系統，與真空鍍膜室連接的用于檢測室內真空度的電離真空規管和電阻真空規管，以及作為反應氣體的離化電源，所述抽氣管道上設有流量調節裝置。該鍍膜設備能使保護膜沉積速度快、膜層較厚且均勻，確保保護性能穩定，以滿足高品質需求的車燈鍍膜的需要，此外，本發明所述的鍍膜方法易于實現，鍍膜速度快，膜層均勻度高，鍍膜效果好。
【專利說明】
_種車燈鍍膜設備及其鍍膜方法
技術領域
[0001]本發明屬于真空鍍膜技術領域，特別涉及一種車燈鍍膜設備及其鍍膜方法。
【背景技術】
[0002]汽車燈具(主要是指汽車燈具中的關鍵部件，如反射鏡、裝飾框)，其多以BMC、PC、ABS或PBT等主要材料制成，其不僅是汽車的安全部件，也是非常重要的外觀件，隨著汽車工業的飛速發展，對汽車照明也提出了越來越高的要求，汽車燈具配件的質量直接影響到其車燈的照明功能和外觀效果。
[0003]為提高汽車車燈的照明效果以及增強外觀效果，通常是采用真空鍍鋁的工藝，該真空鍍鋁是通過專用的真空鍍膜系統，在高溫條件下將鋁材蒸發使其成為分子狀態后，吸附/覆蓋在汽車燈具的反射鏡、裝飾框等表面以形成一層鋁膜層，從而使得部件表面具有耐磨損、耐腐蝕、抗氧化和裝飾等性能和效果。但該種真空蒸發鍍鋁的方式由于其生產過程中不節能、效率低以及損耗高等因素，越來越不能滿足生產的需要，因此，在現有技術中，汽車車燈的鍍膜技術逐漸被帶保護膜的真空蒸發反光膜所替代。
[0004]目前鍍車燈保護膜主要的方式為真空蒸發鍍膜系統+硅油蒸汽充氣系統+RF或直流高壓離化鍍保護膜系統，該設備配置工藝穩定成熟，但仍存在不少不足之處，比如測量高真空用的電離真空規管管容易因為燈絲被鍍上保護膜導致失效，損耗比較快，而且硅油蒸汽消耗量大，部分會被真空栗直接排走，硅油損耗大利用率低;此外保護膜沉積速率仍然較慢，膜層厚度不夠，且厚度不夠均勻，性能不夠穩定等，無法滿足車燈鍍膜高品質的要求。
[0005]因此，研發一種保護膜沉積速度快、膜層較厚且均勻、性能穩定、滿足高品質需求的車燈鍍膜設備迫在眉睫。

【發明內容】

[0006]本發明的目的是克服現有技術的不足，公開一種車燈鍍膜設備，該鍍膜設備能使保護膜沉積速度快、膜層較厚且均勻，確保保護性能穩定，以滿足高品質需求的車燈鍍膜的需要。
[0007]為了克服上述技術目的，本發明是按以下技術方案實現的:
[0008]本發明所述的一種車燈鍍膜設備，包括真空鍍膜室、與真空鍍膜室連通的抽氣管道和反應氣充氣系統，與真空鍍膜室連接的用于檢測室內真空度的電離真空規管和電阻真空規管，以及作為反應氣體的離化電源，所述抽氣管道上設有流量調節裝置。
[0009]作為上述技術的進一步改進，所述反應充氣系統接入真空鍍膜室的入口處設有第一截止閥門。
[0010]作為上述技術的進一步改進，所述電離真空規管的測量入口處設有第二截止閥門。
[0011 ]在本發明中，所述離化電源為中頻電源，其額定功率值為I OKff，額定頻率值為40KHZ，額定電壓值為5000V。
[0012]在本發明中，所述真空鍍膜室內腔的兩側位置處各安裝有一離化發生器。
[0013]在本發明中，所述抽氣管道上向著流量調節裝置的前端還依次設置有粗抽栗、增壓栗和擋板閥。
[0014]在本發明中，所述流量調節裝置為節流閥，所述節流閥的節流范圍可調節，其最大可減少流導面積90%。
[0015]在本發明中，所述真空鍍膜室內腔內安裝有基片轉架。
[0016]在本發明中，所述反應氣充氣系統包括硅油罐以及流量控制器MFC。
[0017]本發明還公開了上述車燈鍍膜設備的鍍膜方法，其具體步驟如下:
[0018](I)抽真空至10帕左右，啟動流量調節裝置，對真空鍍膜室內的待鍍車燈工件進行離化轟擊清洗；
[0019](2)關閉流量調節裝置，繼續抽真空至0.05帕以下壓力，鍍反射鋁膜，此步驟需使用高真空閥門+擴散栗的配置抽氣管道；
[0020](3)打開流量調節裝置，反應氣充入后，開始進行鍍保護膜，此時，關閉電離真空規管的測量入口處的第二截止閥門，通過電阻真空規管來測量真空鍍膜室內的真空度；
[0021](4)保護膜鍍膜完成后，立即關閉反應充氣系統接入真空鍍膜室的入口處設有第一截止閥門和流量調節裝置。
[0022]與現有技術相比，本發明的有益效果是:
[0023](I)本發明中，由于在抽氣管道上設有流量調節裝置，在進行表面離化轟擊清洗以及充反應氣鍍保護膜的時候，關閉流量調節裝置，大大減少抽氣速度，可以很方便地穩定氣壓，并使真空室內壓力梯度變化比無流量調節裝置的設備減少50 %以上;其一方面方便氣體充分反應，并且膜層沉積速率均勻；同時可大大減少充入的反應氣體用量，節約成本。
[0024](2)在本發明中，由于在電離真空規管管入口處設有截止閥，在進行鍍保護膜時，關閉電離真空規管入口的截止閥，改用電阻真空規管時行測量，防止保護膜沉積到電離真空規管的燈絲上造成規管損壞；另外，在鍍完保護膜后立即關閉充反應氣與真空室的管道閥門，這是由于充反應氣的輸入管道比較長、細，內部往往存在積油，在保護膜鍍完后仍然會持續產生硅油蒸汽，這個時候電離真空規管啟動，燈絲也會產生電離造成保護膜沉積到燈絲上，也會造成規管損壞，通過上述兩個閥門的設置與適時開合，可以防止電離真空規管管受到污染，大大節約規管損耗成本。
[0025](3)采用大功率高電壓中頻電源配合真空室兩側配置離化發生器，可以在兩個發生器間形成往復振蕩的電場，形成大范圍的等離子離化區，大大提高離化效率，提高保護膜的沉積速率。
[0026](4)本發明能使車燈鍍膜的保護膜沉積速度快、膜層較厚且均勻，確保保護性能穩定，以滿足高品質需求的車燈鍍膜的需要。
【附圖說明】
[0027]下面結合附圖和具體實施例對本發明做詳細的說明:
[0028]圖1是本發明所述的車燈鍍膜設備結構示意圖。
【具體實施方式】
[0029]如圖1所示，本發明所述的一種車燈鍍膜設備，包括真空鍍膜室1、與真空鍍膜室I連通的抽氣管道2和反應氣充氣系統3，與真空鍍膜室I連接的用于檢測室內真空度的電離真空規管4和電阻真空規管5，以及作為反應氣體的離化電源6，所述抽氣管道2上設有流量調節裝置7，所述流量調節裝置7為節流閥，所述節流閥的節流范圍可調節，其最大可減少流導面積90%。
[0030]在本發明中，所述反應氣充氣系統3包括硅油罐31以及流量控制器(MFC)32此外，所述反應氣充氣系統3接入真空鍍膜室I的入口處設有第一截止閥門8;所述電離真空規管4的測量入口處設有第二截止閥門9。
[0031]所述離化電源6為中頻電源，其額定功率值為IOKff，額定頻率值為40KHZ，額定電壓值為5000V。
[0032]在本發明中，所述真空鍍膜室I內腔的兩側位置處各安裝有一離化發生器11，所述真空鍍膜室I內腔內安裝有基片轉架12。
[0033]在本發明中，所述抽氣管道2上向著流量調節裝置7的前端還依次設置有粗抽栗
10、增壓栗20和擋板閥30。
[0034]本發明還公開了上述車燈鍍膜設備的鍍膜方法，其具體步驟如下:
[0035](I)抽真空至10帕左右，啟動流量調節裝置7，對真空鍍膜室I內的待鍍車燈工件進行離化轟擊清洗；
[0036](2)關閉流量調節裝置7，繼續抽真空至0.05帕以下壓力，鍍反射鋁膜，此步驟需使用高真空閥門+擴散栗的配置抽氣管道；
[0037](3)打開流量調節裝置7，反應氣充入后，開始進行鍍保護膜，此時，關閉電離真空規管4的測量入口處的第二截止閥門9，通過電阻真空規管5來測量真空鍍膜室I內的真空度；
[0038](4)保護膜鍍膜完成后，立即關閉反應充氣系統3接入真空鍍膜室I的入口處設有第一截止閥門8和流量調節裝置7。
[0039]本發明能使車燈鍍膜的保護膜沉積速度快、膜層較厚且均勻，確保保護性能穩定，以滿足高品質需求的車燈鍍膜的需要;本發明所述的車燈鍍膜方法簡單，易于實現。
[0040]本發明并不局限于上述實施方式，凡是對本發明的各種改動或變型不脫離本發明的精神和范圍，倘若這些改動和變型屬于本發明的權利要求和等同技術范圍之內，則本發明也意味著包含這些改動和變型。
【主權項】
1.一種車燈鍍膜設備，包括真空鍍膜室、與真空鍍膜室連通的抽氣管道和反應氣充氣系統，與真空鍍膜室連接的用于檢測室內真空度的電離真空規管和電阻真空規管，以及作為反應氣體的離化電源，其特征在于:所述抽氣管道上設有流量調節裝置。2.根據權利要求1所述的車燈鍍膜設備，其特征在于:所述反應充氣系統接入真空鍍膜室的入口處設有第一截止閥門。3.根據權利要求1所述的車燈鍍膜設備，其特征在于:所述電離真空規管的測量入口處設有第二截止閥門。4.根據權利要求1至3所述的車燈鍍膜設備，其特征在于:所述離化電源為中頻電源，其額定功率值為1KW，額定頻率值為40KHZ，額定電壓值為5000V。5.根據權利要求4所述的車燈鍍膜設備，其特征在于:所述真空鍍膜室內腔的兩側位置處各安裝有一離化發生器。6.根據權利要求5所述的車燈鍍膜設備，其特征在于:所述抽氣管道上向著流量調節裝置的前端還依次設置有粗抽栗、增壓栗和擋板閥。7.根據權利要求1所述的車燈鍍膜設備，其特征在于:所述流量調節裝置為節流閥，所述節流閥的節流范圍可調節，其最大可減少流導面積90%。8.根據權利要求1所述的車燈鍍膜設備，其特征在于:所述真空鍍膜室內腔內安裝有基片轉架。9.根據權利要求1所述的車燈鍍膜設備，其特征在于:所述反應氣充氣系統包括硅油罐以及流量控制器MFC。10.—種根據權利要求1所述的車燈鍍膜設備的鍍膜方法，其具體步驟如下: (1)抽真空至10帕左右，啟動流量調節裝置，對真空鍍膜室內的待鍍車燈工件進行離化轟擊清洗； (2)關閉流量調節裝置，繼續抽真空至0.05帕以下壓力，鍍反射鋁膜； (3)打開流量調節裝置，反應氣充入后，開始進行鍍保護膜，此時，關閉電離真空規管的測量入口處的第二截止閥門，通過電阻真空規管來測量真空鍍膜室內的真空度； (4)保護膜鍍膜完成后，立即關閉反應充氣系統接入真空鍍膜室的入口處設有第一截止閥門和流量調節裝置。
【文檔編號】C23C14/22GK105887019SQ201610294370
【公開日】2016年8月24日
【申請日】2016年5月5日
【發明人】潘振強, 朱宇彬
【申請人】廣東振華科技股份有限公司