1.自分散SiNWs粉體的制備方法，其特征在于：包括如下步驟：
先稱取一定量的Ni(NO3)2于40mL燒杯中，緩慢加入蒸餾水至Ni(NO3)2完全溶解；再加入與Ni(NO3)2摩爾比為1∶1的 Si粉，并放置于磁力攪拌器上進行攪拌烘干，恒溫65℃，時間約1h，以上過程均在通風廚中進行；將烘干粉體裝入氧化鋁陶瓷管，并一同放入石英管，在管式爐中進行硝酸鎳分解-氫還原反應，其中硝酸鎳分解溫度300℃，保溫20min；氫還原反應溫度700℃，還原性氣體為含5％ H2 的Ar，保溫30min，冷卻后得到Ni包Si結構粉體；
將上述Ni包Si結構粉體在管式爐中進行共晶析出反應，溫度為980℃，保溫時間120min；加熱前，通入Ar 氣去除裝置中的氧氣，流量為20mL/min，時間20min；然后開始升溫，升溫速度5℃/min，到達溫度后進入保溫階段，將純氬氣換為5％ H2 ＋95％ Ar混合氣體，流量調整為60mL/min，反應完成后產物隨爐冷卻，得到SiNWs粉體。