1.一種液相狹縫干涉合成設備，其特征在于：包括上下兩個平行雙通道狹縫扁平限制區（B）和單通道狹縫合成區（A），所述上下兩個平行雙通道狹縫扁平限制區（B）和單通道狹縫合成區（A）凸凹鑲嵌連通后固定置于AB區銜接固定臺（3）上；其中上下兩個平行雙通道狹縫扁平限制區（B）分別設有氧化還原物料進口（1）和還原氧化物料進口（2），所述氧化還原物料進口（1）和還原氧化物料進口（2）與棱形可密閉式配液釜相連；所述單通道狹縫合成區（A）為可通冷卻循環水的長方形空殼，所述單通道狹縫合成區（A）靠近上下兩個平行雙通道狹縫扁平限制區（B）的部分一側設有冷卻水進口（4），另一側設置冷卻水出口（6），所述單通道狹縫合成區（A）外套有絕緣卡套（11），所述絕緣卡套（11）上下面設有兩個平行通道能夠分別將第一電極板（10）和第二電極板（13）鑲入并固定，所述第一電極板（10）和第二電極板（13）均設有與電流控制器鏈接的電流控制器接線柱；所述單通道狹縫合成區（A）與上下兩個平行雙通道狹縫扁平限制區（B）連接部位的垂直面為超聲器連接面（12），所述超聲器連接面（12）焊接超聲發射器；去能量槽（9）通過去能量槽隔板（8）分為進液區和出液區，其中進液區和出液區在能量槽隔板（8）底部連通，進液區承接單通道狹縫合成區（A）生成的銀粉溶液出口，出液區通過底部出口連接過濾洗滌設備。
2.根據權利要求1所述的一種液相狹縫干涉合成設備，其特征在于：所述上下兩個平行雙通道狹縫扁平限制區（B）長為0.2m-5m，其中每個通道狹縫寬為0.2m-1.5m，高為0.001m-0.5m。
3.根據權利要求1或2所述的一種液相狹縫干涉合成設備，其特征在于：所述單通道狹縫合成區（A）長為0.2m-5m，寬為0.2m-1.5m，高為0.004m-1.002m。
4.根據權利要求3所述的一種液相狹縫干涉合成設備，其特征在于：所述絕緣卡套（11）為橡膠材質。