技術總結
本發明公開了一種SiONx頂層消影技術及SiONx薄膜制備方法，顯示屏包括玻璃層及設在玻璃層外側的光阻，在所述光阻外側設有IM層和ITO層，在所述ITO層上蝕刻圖形，所述ITO層外設有金屬邊框，所述金屬邊框個外側設有SiONx薄膜，SiONx薄膜為整面鍍膜，鍍膜完成后再將金手指部分蝕刻露出。磁控濺射技術制備SiONx薄膜。本發明使用SiONx材料進行頂層鍍膜，利用光學軟件進行匹配，使OGS產品貼合后人機面無法觀察到蝕刻痕，滿足要求，具有較好的應用前景。

技術研發人員：許沭華;鐘素文;夏大映;王超;李家衛
受保護的技術使用者：蕪湖長信科技股份有限公司
文檔號碼：201611159973
技術研發日：2016.12.15
技術公布日：2017.05.31