技術總結
本發明公開的化學氣相沉積設備包括進氣裝置，所述進氣裝置包括：第一反應氣體出氣口，其用于向所述待處理襯底輸送第一反應氣體，和第二反應氣體出氣口用于向所述待處理襯底輸送第二反應氣體；隔離裝置分布在第一反應氣體出氣口周圍，隔離裝置使得第一反應氣體與第二反應氣體的混合反應在空間上實現局域化；兩種氣體出氣口與分布在第一反應氣體出氣口周圍的隔離裝置一起組成最小周期結構單元，本設備包括一個周期結構單元或一個以上周期結構單元；驅動裝置，其用于驅動所述待處理襯底或者驅動進氣裝置。本發明通過隔離裝置設計將兩種反應氣體的混合反應在空間上實現局域化，通過進氣裝置與襯底載具之間的相對運動，對襯底進行沉積處理。

技術研發人員：左敏
受保護的技術使用者：江蘇微導納米裝備科技有限公司
文檔號碼：201611188878
技術研發日：2016.12.21
技術公布日：2017.02.22