技術總結
本實用新型公開一種基于PECVD的石墨烯薄膜鍍膜設備，包括直線式排列的多個真空室和柔性基材輸送機構，柔性基材輸送機構貫穿于多個真空室中；多個真空室包括依次連接的放卷室、多個鍍膜室和收卷室，各鍍膜室內分別設有射頻對靶裝置，多個鍍膜室內的射頻對靶裝置組成一個等離子體增強化學氣相沉積系統，任意相鄰兩個鍍膜室之間設有隔氣室，放卷室、收卷室、各鍍膜室和各隔氣室分別外接高真空排氣系統。其方法是先對各真空室進行抽真空，直至真空度達到預定值；然后放卷室放出柔性基材并送入各鍍膜室，采用PECVD法在柔性基材表面沉積石墨烯薄膜；最后送入收卷室進行收卷。本實用新型鍍膜均勻，制得的柔性基材表面膜層純度較高。

技術研發人員：朱建明;李金清
受保護的技術使用者：肇慶市科潤真空設備有限公司
文檔號碼：201620685725
技術研發日：2016.06.30
技術公布日：2017.01.04