本實用新型涉及一種鍍膜設備，特別涉及一種納米離化表面金屬復合膜層智能化設備，屬于鍍膜設備領域。

背景技術：

鍍膜主要是為了減少反射。為了提高鏡頭的透光率和影像的質量，在現代鏡頭制造工藝上都要對鏡頭進行鍍膜。鏡頭的鍍膜是根據光學的干涉原理，在鏡頭表面鍍上一層厚度為四分之一波長的物質(通常為氟化物)，使鏡頭對這一波長的色光的反射降至最低。顯然，一層膜只對一種色光起作用，而多層鍍膜則可對多種色光起作用。多層鍍膜通常采用不同的材料重復地在透鏡表面鍍上不同厚度的膜層。多層鍍膜可大大提高鏡頭的透光率，例如，未經鍍膜的透鏡每個表面的反射率為5％，單層鍍膜后降至2％，而多層鍍膜可降至0.2％，這樣，可大大減少鏡頭各透鏡間的漫反射，從而提高影像的反差和明銳度。但是現有的鍍膜設備，在對金屬表面、塑料制品、陶瓷、玻璃、制品噴涂表面進行鍍膜時，不夠環保、高效，生產成本高。因此我們需要一種納米離化表面金屬復合膜層智能化設備。

技術實現要素：

本實用新型要解決的技術問題是克服現有的鍍膜設備，在對金屬表面、塑料制品、陶瓷、玻璃、制品噴涂表面進行鍍膜時，不夠環保、高效，生產成本高的缺陷，提供一種納米離化表面金屬復合膜層智能化設備，從而解決上述問題。

為了解決上述技術問題，本實用新型提供了如下的技術方案：

本實用新型一種納米離化表面金屬復合膜層智能化設備，包括鍍膜真空腔體、電控柜、過渡真空腔體和料架臺，所述料架臺上設置有所述鍍膜真空腔體和所述過渡真空腔體，所述鍍膜真空腔體和所述過渡真空腔體內均設置有精抽泵、增壓泵、機械泵、維持泵、數顯復合真空計、進水管、出水管、進氣管和出氣管，所述鍍膜真空腔體和所述過渡真空腔體外表面均設置有伺服電機、觀察窗和加強筋，所述過渡真空腔體外表面上設置有離子源電源、混氣儀和水分離器，所述過渡真空腔體和所述鍍膜真空腔體的內底部設置有驅動輪組和加熱管道，所述驅動輪組上設置有工件架，所述工件架上設置有若干掛桿軸，所述加熱管道內設置有熱電偶，所述過渡真空腔體內設置有離子源清洗器，所述離子源清洗器上設置有質量流量控制器和高真空截止閥，所述鍍膜真空腔體上設置有若干電弧電源和磁控濺射中頻電源，所述鍍膜真空腔體的兩側均設置有靶座門，所述靶座門上設置有若干圓柱旋轉磁控濺射靶和電弧離子靶，所述電控柜內設置有控制面板和PID控制器，所述控制面板內設置有過載保護器和PLC控制器，所述控制面板上設置有觸摸顯示屏和操作鍵盤，所述電控柜的頂端設置有警報器，所述PID控制器上設置有溫度控制器和固態繼電器。

作為本實用新型的一種優選技術方案，所述過渡真空腔體通過大型真空插板閥與所述鍍膜真空腔體真空連接，用于鍍膜真空腔體和過渡真空腔體真空連接。

作為本實用新型的一種優選技術方案，所述伺服電機上設置有變頻器，用于對伺服電機的無級調速。

作為本實用新型的一種優選技術方案，所述精抽泵上設置有精抽閥和水冷冷阱，用于控制精抽泵的工作狀態。

作為本實用新型的一種優選技術方案，所述出氣管的出氣口處設置有電動節流閥，可實現任何角度定向開關。

作為本實用新型的一種優選技術方案，所述過渡真空腔體的一端設置有自動平移真空門，自動平移真空門可自動開關，所述鍍膜真空腔體的一端設置有常閉門，常閉門用作設備檢修和后期設備增加腔體用。

與現有技術相比，本實用新型的有益效果是：該種納米離化表面復合膜層智能化設備，通過設置的電動節流閥，可自由角度調節的工藝節流閥，可隨工藝需求設定任意的工作角度進行調節室體真空度，傳動輸入采用蝸輪蝸桿電機驅動，傳動精度高，誤差小。通過設置的離子源清洗器，在工件真空鍍膜前用高能量電離子進行轟擊清洗，提高基材與膜層的附著力。通過設置的驅動輪組和工件架，保證工件鍍膜均勻，工件從過渡腔體進出，鍍膜腔體連續鍍膜工作。采用PLC控制，抽真空、鍍膜可實現手動、半自動、全自動控制。

附圖說明

附圖用來提供對本實用新型的進一步理解，并且構成說明書的一部分，與本實用新型的實施例一起用于解釋本實用新型，并不構成對本實用新型的限制。在附圖中：

圖1為本實用新型的結構示意圖；

圖2為本實用新型所述過渡真空腔體的表面結構示意圖；

圖3為本實用新型所述鍍膜真空腔體的結構示意圖；

圖4為本實用新型所述過渡真空腔體的的整體結構示意圖；

圖5為本實用新型所述靶座門的結構示意圖；

圖6為本實用新型所述電控柜的結構示意圖；

圖7為本實用新型所述PID控制器的結構示意圖；

圖8為本實用新型所述精抽泵的結構示意圖；

圖中：1、過渡真空腔體；2、大型真空插板閥；3、鍍膜真空腔體；4、靶座門；5、料架臺；6、自動平移真空門；7、觀察窗；8、加強筋；9、電弧離子靶；10、圓柱旋轉磁控濺射靶；11、警報器；12、PLC控制器；13、過載保護器；14、控制面板；15、觸摸顯示屏；16、操作鍵盤；17、加熱管道；18、熱電偶；19、PID控制器；20、溫度控制器；21、固態繼電器；22、數顯復合真空計；23、精抽泵；24、增壓泵；25、機械泵；26、磁控濺射中頻電源；27、電弧電源；28、維持泵；29、工件架；30、掛桿軸；31、離子源電源；32、變頻器；33、驅動輪組；34、水分離器；35、混氣儀；36、伺服電機；37、進水管；38、出水管；39、進氣管；40、出氣管；41、離子源清洗器；42、質量流量控制器；43、高真空截止閥；44、精抽閥；45、水冷冷阱；46、電動節流閥；47、電控柜；48、常閉門。

具體實施方式

下面將結合本實用新型實施例中的附圖，對本實用新型實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本實用新型一部分實施例，而不是全部的實施例，基于本實用新型中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本實用新型保護的范圍。

請參閱圖1-8，本實用新型公開一種技術方案：一種納米離化表面金屬復合膜層智能化設備，包括鍍膜真空腔體3、電控柜47、過渡真空腔體1和料架臺5，料架臺5上設置有鍍膜真空腔體3和過渡真空腔體1，鍍膜真空腔體3和過渡真空腔體1內均設置有精抽泵23、增壓泵24、機械泵25、維持泵28、數顯復合真空計22、進水管37、出水管38、進氣管39和出氣管40，鍍膜真空腔體3和過渡真空腔體1外表面均設置有伺服電機36、觀察窗7和加強筋8，過渡真空腔體1外表面上設置有離子源電源31、混氣儀35和水分離器34，過渡真空腔體1和鍍膜真空腔體3的內底部設置有驅動輪組33和加熱管道17，驅動輪組33上設置有工件架29，工件架29上設置有若干掛桿軸30，加熱管道17內設置有熱電偶18，過渡真空腔體1內設置有離子源清洗器41，離子源清洗器41上設置有質量流量控制器42和高真空截止閥43，鍍膜真空腔體3上設置有若干電弧電源27和磁控濺射中頻電源26，鍍膜真空腔體3的兩側均設置有靶座門4，靶座門4上設置有若干圓柱旋轉磁控濺射靶10和電弧離子靶9，電控柜47內設置有控制面板14和PID控制器19，控制面板14內設置有過載保護器13和PLC控制器12，控制面板14上設置有觸摸顯示屏15和操作鍵盤16，電控柜47的頂端設置有警報器11，PID控制器19上設置有溫度控制器20和固態繼電器21。過渡真空腔體1通過大型真空插板閥2與鍍膜真空腔體3真空連接，用于鍍膜真空腔體和過渡真空腔體1真空連接。伺服電機36上設置有變頻器32，用于對伺服電機36的無級調速。精抽泵23上設置有精抽閥44和水冷冷阱45，用于控制精抽泵23的工作狀態。出氣管40的出氣口處設置有電動節流閥46，可實現任何角度定向開關。過渡真空腔體1的一端設置有自動平移真空門6，自動平移真空門6可自動開關，鍍膜真空腔體3的一端設置有常閉門48，常閉門48用作設備檢修和后期設備增加腔體用。

使用時，通過控制面板14內的PLC控制器12可對伺服電機36、磁控濺射中頻電源26、電弧電源27和離子源電源31進行控制，通過設置的驅動輪組33和工件架29，用于懸掛工件，通過設置的離子源清洗器41，在工件真空鍍膜前用高能量電離子進行轟擊清洗，提高基材與膜層的附著力，通過設置的電弧離子靶9和圓柱旋轉磁控濺射靶10進行鍍膜處理，電弧離子靶9使用時需將圓柱磁控靶10拆卸下來，在鍍膜過程中，工件在鍍膜腔體內作直線行走和自轉運動，保證工件鍍膜均勻，鍍膜腔體抽氣口配可自由角度調節的電動節流閥46，可隨工藝需求設定任意的工作角度進行調節室體真空度，傳動輸入采用蝸輪蝸桿電機驅動，傳動精度高，誤差小，通過設置的PID控制器19，可實現對加熱管道17的溫度控制，通過設置的精抽泵23、增壓泵24、機械泵25和維持泵28，可用以制造真空環境。

該種納米離化表面復合膜層智能化設備，通過設置的電動節流閥，可自由角度調節的工藝節流閥，可隨工藝需求設定任意的工作角度進行調節室體真空度，傳動輸入采用蝸輪蝸桿電機驅動，傳動精度高，誤差小。通過設置的離子源清洗器，在工件真空鍍膜前用高能量電離子進行轟擊清洗，提高基材與膜層的附著力。通過設置的驅動輪組和工件架，保證工件鍍膜均勻，工件從過渡腔體進出，鍍膜腔體連續鍍膜工作。采用PLC控制，抽真空、鍍膜可實現手動、半自動、全自動控制。

最后應說明的是：以上所述僅為本實用新型的優選實施例而已，并不用于限制本實用新型，盡管參照前述實施例對本實用新型進行了詳細的說明，對于本領域的技術人員來說，其依然可以對前述各實施例所記載的技術方案進行修改，或者對其中部分技術特征進行等同替換,凡在本實用新型的精神和原則之內，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本實用新型的保護范圍之內。