本發(fā)明涉及將安裝在載體框架上的組合的框架和陰影掩模的每個實例平坦化以及將安裝在載體框架上的多個組合的框架和陰影掩模相對于彼此平坦化。

背景技術：

在陰影掩模氣相沉積領域，存在使用越來越大面積的陰影掩模的趨勢，所述陰影掩模包括與將從沉積源沉積在基板上的材料的期望圖案對應的一個或多個開口。然而，因形成越來越大的面積大小的陰影掩模而產(chǎn)生的問題是：如何在橫跨陰影掩模的尺寸定位開口時避免連續(xù)誤差。換句話說，因形成越來越大的面積大小的陰影掩模而產(chǎn)生的問題是：變得越來越難以保持用于橫跨陰影掩模的尺寸在基板上沉積材料圖案的開口之間的精確的尺度穩(wěn)定性。

在2015年10月14日提交的名稱為“multi-maskalignmentsystemandmethod”(以下稱為“pct申請”)的pct/us2015/055517中公開了克服這個問題的一種方法，其中多個陰影掩模單獨定向并安裝在載體框架上。pct/us2015/055517通過引用的方式并入本文。

pct申請中公開的方法的挑戰(zhàn)在于確保多個陰影掩模的每個單獨陰影掩模被適當?shù)囟ㄏ蛟谳d體框架上，載體框架可以不具有用于安裝陰影掩模的平坦表面或平面。在沒有具有這種平坦表面或平面的載體框架的情況下，存在這樣的可能性：每個陰影掩模和將發(fā)生沉積事件的基板的接觸表面不平行或不是基本平行，因此在所述表面之間形成一個或多個意外間隙，于是，在經(jīng)由陰影掩模中的孔口進行的沉積事件期間，被氣相沉積的材料可能不期望地進入這些間隙，并且被沉積在限定所述間隙的陰影掩模的表面和基板的表面中的一者或兩者上，這是不期望的狀況。

技術實現(xiàn)要素：

現(xiàn)在將在以下編號的條項中說明和闡述本發(fā)明的各個優(yōu)選的且非限制性的實例或方面：

條項1：一種多掩模對準系統(tǒng)包括：載體，其包括第一側和第二側以及從所述第一側到所述第二側延伸貫通所述載體的多個孔口，其中，每個孔口與包括對準特征的組合的框架和陰影掩模相關聯(lián)，其中，所述陰影掩模經(jīng)由所述框架被支撐在所述載體的所述第一側上，使得所述陰影掩模與所述孔口對準。對準系統(tǒng)位于所述載體的所述第二側上，并且控制器能操作地控制所述對準系統(tǒng)，以單獨地對準每個組合的框架和陰影掩模，使得所述組合的框架和陰影掩模的所述對準特征與關聯(lián)于所述組合的框架和陰影掩模的參考對準特征對準，而不是與所述載體或所述組合的框架和陰影掩模的一部分對準。間隔件位于所述載體上，并且構造成將每個組合的框架和陰影掩模支撐在所述載體的所述第一側的表面的上方。

條項2：根據(jù)條項1所述的系統(tǒng)，其中，所述間隔件可以構造成將每個組合的框架和陰影掩模平坦化。

條項3：根據(jù)條項1或2所述的系統(tǒng)，其中，所述間隔件可以構造成將全部所述組合的框架和陰影掩模相對于彼此平坦化。

條項4：根據(jù)條項1至3中任一項所述的系統(tǒng)，其中，所述間隔件可以包括穿過所述載體中的開口伸出的調(diào)平銷；并且所述調(diào)平銷可固定在所述載體的所述開口中。

條項5：根據(jù)條項1至4中任一項所述的系統(tǒng)，其中，所述調(diào)平銷可以經(jīng)由粘合或壓配合而固定在所述載體的所述開口中。

條項6：根據(jù)條項1至5中任一項所述的系統(tǒng)，還可以包括能操作地獲取可以包括所述對準特征的圖像的至少一個照相機，其中，所述控制器能操作地基于所獲取的圖像控制所述對準系統(tǒng)。

條項7：根據(jù)條項1至6中任一項所述的系統(tǒng)，其中，所述參考對準特征可以包括存儲在存儲器中的參考坐標；并且所述控制器能夠控制所述對準系統(tǒng)，以將所獲取的圖像中的所述對準特征與所述參考坐標對準。

條項8：根據(jù)條項1至7中任一項所述的系統(tǒng)，還可以包括對準基板，所述對準基板包括所述參考對準特征且位于所述至少一個照相機與所述組合的框架和陰影掩模之間，其中，所獲取的圖像還可以包括所述參考對準特征。

條項9：根據(jù)條項1至8中任一項所述的系統(tǒng)，還可以包括：對準基板，其包括所述參考對準特征，定位到所述組合的框架和陰影掩模的與所述載體相反的一側，其中，所述對準特征和所述參考對準特征可以分別包括第一多個孔和第二多個孔。所述控制器可以可操作地控制所述對準系統(tǒng)，以單獨地對準每個組合的框架和陰影掩模，直至預定量的光穿過所述組合的框架和陰影掩模的所述第一多個孔以及與所述組合的框架和陰影掩模相關聯(lián)且與所述組合的框架和陰影掩模的所述第一多個孔對準的所述第二多個孔。

條項10：根據(jù)條項1至9中任一項所述的系統(tǒng)，其中，所述第一多個孔中的與所述第二多個孔中的相應一個孔對準的每個孔可以沿著光路定位。每個光路可以包括光接收器；并且所述控制器能夠根據(jù)所述光接收器的輸出來判定預定量的光何時穿過所述第一多個孔以及與所述第一多個孔對準的所述第二多個孔。

條項11：根據(jù)條項1至10中任一項所述的系統(tǒng)，其中，每個光路還可以包括光源。

條項12：根據(jù)條項1至11中任一項所述的系統(tǒng)，其中，所述對準系統(tǒng)可以包括對準臺，所述對準臺能操作地使至少一個組合的框架和陰影掩模從與所述載體接觸的位置移動到與所述載體間隔開的位置，反之亦然，并且所述對準臺能操作地沿x、y和θ方向中的兩個或更多個方向調(diào)節(jié)所述組合的框架和陰影掩模，其中x方向和y方向可以平行于所述載體的所述第一側；并且所述θ方向可以是圍繞作為所述載體的所述第一側的法線的z方向旋轉的方向(即，沿著θ方向可以圍繞作為所述載體的所述第一側的法線的z方向旋轉)。

條項13：根據(jù)條項1至12中任一項所述的系統(tǒng)，其中，所述對準臺可以包括延伸穿過所述載體中的孔的多個銷。當所述銷伸出時，所述銷可以將所述組合的框架和陰影掩模定位成與所述載體間隔開。當所述銷縮回時，所述組合的框架和陰影掩模可以與所述間隔件接觸。

條項14：根據(jù)條項1至13中任一項所述的系統(tǒng)，其中，所述控制器可以可操作地控制所述對準系統(tǒng)，以同時對準每個組合的框架和陰影掩模。

條項15：一種多掩模對準方法包括：(a)提供載體，所述載體包括貫通所述載體的多個孔口；(b)對于每個孔口，將包括對準特征的組合的框架和陰影掩模定位在由所述載體支撐的間隔件上，使得所述組合的框架和陰影掩模中的所述陰影掩模與所述孔口粗略對準；(c)在步驟(b)之后，對準系統(tǒng)將每個組合的框架和陰影掩模移動到與所述間隔件間隔開的位置；(d)在步驟(c)之后，所述對準系統(tǒng)單獨地精細或精確對準每個組合的框架和陰影掩模以將所述組合的框架和陰影掩模的對準特征與關聯(lián)于所述組合的框架和陰影掩模的參考對準特征對準，而不是與所述載體或所述組合的框架和陰影掩模的一部分對準；(e)在步驟(d)之后，將每個組合的框架和陰影掩模返回到所述間隔件上的位置；以及(f)在步驟(e)之后，將每個組合的框架和陰影掩模固定到所述載體上，其中，在控制器的控制下自動地執(zhí)行至少步驟(d)。

條項16：根據(jù)條項15所述的方法，其中，步驟(d)還可以包括同時精細或精確地對準每個組合的框架和陰影掩模。

條項17：根據(jù)條項15或16所述的方法，其中，所述間隔件能夠構造成(i)將每個組合的框架和陰影掩模平坦化或者(ii)將全部的所述組合的框架和陰影掩模相對于彼此平坦化。

條項18：根據(jù)條項15-17中任一項所述的方法，其中，所述間隔件可以包括穿過所述載體中的開口伸出的調(diào)平銷，并且所述調(diào)平銷可以固定在所述載體中的所述開口中。

條項19：根據(jù)條項15-18中任一項所述的方法，其中，與所述組合的框架和陰影掩模相關聯(lián)的所述參考對準特征可以包括存儲在存儲器中的預定坐標。照相機可以可操作地獲取所述組合的框架和陰影掩模的所述對準特征的圖像，并且步驟(d)可以包括所述控制器控制所述對準系統(tǒng)以基于所獲取的圖像將所述組合的框架和陰影掩模的所述對準特征與所述預定坐標對準。

條項20：根據(jù)條項15-19中任一項所述的方法，其中，對準基板可以位于照相機與所述組合的框架和陰影掩模之間，并且可以包括與所述組合的框架和陰影掩模相關聯(lián)的參考對準特征。所述照相機可以可操作地獲取所述組合的框架和陰影掩模的所述對準特征的圖像以及與所述組合的框架和陰影掩模相關聯(lián)的所述參考對準特征的圖像，并且步驟(d)可以包括所述控制器控制所述對準系統(tǒng)以基于所獲取的圖像將關聯(lián)于所述組合的框架和陰影掩模的所述對準特征與關聯(lián)于所述組合的框架和陰影掩模的所述參考對準特征對準。

條項21：根據(jù)條項15-20中任一項所述的方法，其中，包括所述參考對準特征的對準基板可以定位到所述組合的框架和陰影掩模的與所述載體相反的一側，其中，所述對準特征和所述參考對準特征可以分別包括第一多個孔和第二多個孔。步驟(d)可以包括：所述控制器控制所述對準系統(tǒng)，以單獨地對準每個組合的框架和陰影掩模，直至預定量的光穿過所述組合的框架和陰影掩模的所述第一多個孔以及與所述組合的框架和陰影掩模相關聯(lián)且與所述組合的框架和陰影掩模的所述第一多個孔對準的所述第二多個孔。

條項22：根據(jù)條項15-21中任一項所述的方法，其中，所述第一多個孔中的與所述第二多個孔中的相應一個孔對準的每個孔可以沿著光路定位。每個光路可以包括光接收器。步驟(d)可以包括：所述控制器根據(jù)所述光接收器的輸出來判定預定量的光何時穿過所述組合的框架和陰影掩模的所述第一多個孔以及與所述組合的框架和陰影掩模相關聯(lián)且與所述組合的框架和陰影掩模中的所述第一多個孔對準的所述第二多個孔。

附圖說明

圖1是多陰影掩模對準系統(tǒng)的載體框架的示意性平面圖；

圖2是位于圖1的載體框架上的多個組合的框架和陰影掩模的示意性平面圖，其中，每個陰影掩模定位成與載體框架中的孔口對準；

圖3是包括第一組對準特征的單個組合的框架和陰影掩模的獨立的示意性平面圖；

圖4是沿圖2中的線iv-iv截取的載體框架的示意性側視圖，載體框架包括與載體框架接觸的三個組合的框架和陰影掩模，并且圖4還包括對準系統(tǒng)的示意圖，對準系統(tǒng)包括位于載體框架下方的一個或多個對準臺和定位在三個組合的框架和陰影掩模上方的三個數(shù)字(ccd)照相機；

圖5是圖4所示的多掩模對準系統(tǒng)的視圖，其中，三個組合的框架和陰影掩模經(jīng)由對準系統(tǒng)的對準臺的銷被提升至載體框架的頂表面的上方；

圖6是定位在位于圖2所示的載體框架上的多個組合的框架和陰影掩模之上的對準基板的示意性平面圖；

圖7是圖6的對準基板的獨立的示意性平面圖，該對準基板包括第二組對準特征；

圖8是圖4所示的多掩模對準系統(tǒng)的示意性側視圖，該多掩模對準系統(tǒng)包括位于三個數(shù)字照相機與三個組合的框架和陰影掩模之間的圖7的對準基板；

圖9是圖8所示的多掩模對準系統(tǒng)的視圖，其中，三個組合的框架和陰影掩模經(jīng)由對準系統(tǒng)的對準臺的銷被提升至載體框架的頂表面的上方；

圖10是包括第二組對準特征的另一示例性載體框架的平面圖(不同于在圖7中的對準基板上所示的第二組對準特征)；

圖11是對準基板的平面圖，該對準基板包括多個光接收器和用于將光接收器支撐在對準基板上的可選支撐框架(以虛線示出)；

圖12是圖11的對準基板的平面圖，該對準基板位于設置在圖10所示的載體框架上的多個組合的框架和陰影掩模上方；

圖13是沿著圖12中的線xiii-xiii截取的對準基板的視圖，該對準基板包括光接收器和位于載體框架下方的光源，光接收器位于設置在圖10所示的載體框架的頂表面上的組合的框架和陰影掩模上方；

圖14是圖13所示的多掩模對準系統(tǒng)的視圖，其中，組合的框架和陰影掩模經(jīng)由對準系統(tǒng)的對準臺的銷被提升至載體框架的頂表面上方；

圖15是包括成品組件的陰影掩模氣相沉積室的示意圖，該成品組件包括以本文所披露的方式之一在載體框架上精細或精確地對準的多個組合的框架和陰影掩模；

圖16是圖1的載體框架的示意性平面圖，該載體框架包括圍繞載體框架的每個孔口的調(diào)平銷；

圖17是位于圖16所示的載體框架上的多個組合的框架和陰影掩模的示意性平面圖，其中，每個陰影掩模定位成與載體框架中的孔口對準，并且每個陰影掩模由圍繞載體框架中的對應孔口的調(diào)平銷支撐；

圖18是沿著圖17中的線xviii-xviii截取的載體框架的示意性側視圖(類似于圖4所示的示意性側視圖)，該載體框架包括與穿過載體框架伸出的調(diào)平銷接觸的三個組合的框架和陰影掩模，并且圖18還包括對準系統(tǒng)的示意圖，該對準系統(tǒng)包括位于載體框架下方的一個或多個對準臺和位于三個組合的框架和陰影掩模上方的三個數(shù)字(ccd)照相機；

圖19是圖18所示的多掩模對準系統(tǒng)的示意性側視圖(類似于圖5所示的視圖)，其中，三個組合的框架和陰影掩模經(jīng)由對準系統(tǒng)的對準臺的調(diào)平銷被提升至調(diào)平銷的頂表面上方；以及

圖20示出了穿過載體框架伸出且由載體框架支撐的一對調(diào)平銷(以剖面圖示出)，每個調(diào)平銷的下端或第一端與參考表面接觸，每個調(diào)平銷的上端或第二端與組合的框架和陰影掩模的單個實例接觸，其中，調(diào)平銷的下端以與參考表面的頂部間隔開的關系支撐載體框架的下表面，并且調(diào)平銷的上端以與載體框架的頂表面間隔開的關系支撐組合的框架和陰影掩模的下表面。

具體實施方式

現(xiàn)在將參照附圖描述各種非限制性實例，其中相同的附圖標記對應于相同的或功能等同的元件。

本文所述的各種示例性多掩模對準系統(tǒng)使得能夠從多個較小面積的陰影掩模中構造有效較大面積的陰影掩模。通過從較小面積的陰影掩模中構造有效較大面積的陰影掩模，可以在較大區(qū)域上，例如在比每個單獨較小陰影掩模更大的區(qū)域上，保持較小陰影掩模中的孔和孔口的更大幾何精度。由于每個小陰影掩模獨立于其他小陰影掩模，所以還可以適當?shù)卮_定每個小陰影掩模的孔和孔口的尺寸，而不影響其它小陰影掩模的尺寸。

本文所述的各個示例性多掩模對準系統(tǒng)能夠?qū)识鄠€小面積的陰影掩模(一次一個，或一次兩個，或一次多個，或全部同時)，以形成有效較大面積的陰影掩模。對可以用于形成有效較大陰影掩模的小陰影掩模的數(shù)量沒有具體限制。

每個示例性多掩模對準系統(tǒng)的基本操作方法是獨立于每個其它小陰影掩模對每個小陰影掩模執(zhí)行精細或精確的對準。每個小陰影掩模的對準可以參考與對準基板(例如玻璃板)相關聯(lián)的對準特征以及與小陰影掩模相關聯(lián)的對準特征來完成；或通過使用坐標測量機(cmm)方法將與小陰影掩模相關聯(lián)的對準特征與存儲在控制器的存儲器中的預定坐標進行比較來完成。

如果利用cmm方法，則將在載體框架上粗略(或大體)對準定位的小陰影掩模上的對準特征與存儲在控制器的存儲器中的預定坐標進行比較。坐標可以存儲在例如諸如cad文件等圖形文件中，或者存儲在任何合適的和/或期望的文件類型中，該文件類型有助于：控制器經(jīng)由一個或多個數(shù)字(ccd)照相機獲取小陰影掩模的數(shù)字圖像，并將所獲取的小陰影掩模的數(shù)字圖像中的對準特征與存儲在控制器的存儲器中的預定坐標進行比較。在實例中，每個預定坐標可以包括從圖像獲取的相應對準特征的數(shù)字表示，于是控制器將所獲取圖像中的對準特征與對準特征的數(shù)字表示對準。然而，這不應被解釋為是限制性的。

如果使用對準基板方法，則對準基板以間隔開的關系位于小陰影掩模的上方，小陰影掩模定位成在載體框架上粗略(或大體)對準，并且在對準基板的底部與小陰影掩模的頂部之間存在間隙。一個或多個數(shù)字(ccd)照相機定位在對準基板的上方，以獲取陰影掩模上的對準特征的圖像和對準基板的對準特征的圖像。在實例中，陰影掩模上的對準特征和對準基板上的對準特征可以互補。例如，對準基板的對準特征可以包括實心圓盤或?qū)嵭膱A圈的圖案，而小陰影掩模的對準特征可以包括開口孔或環(huán)的圖案，每個開口孔或環(huán)大于對準基板上的相應圓盤或圓圈。因此，可以通過測量每個圓盤或圓圈在孔或環(huán)內(nèi)的位置來量化對準。

如果使用ccm方法，則每個小陰影掩模包括對準特征。然而，可以將小陰影掩模上的對準特征的絕對坐標與存儲在控制器的存儲器的文件中的用于對準特征的預定坐標進行比較，以代替將這些對準特征與對準基板上的標記進行比較。這樣，每個小陰影掩模上的對準特征能夠用來計算小陰影掩模相對于彼此的對準。

在使用對準基板方法或ccm方法進行對準的過程中，支撐每個小陰影掩模的掩模框架由作為(在實例中)位于載體框架下方的對準系統(tǒng)的一部分的對準臺的銷提升。載體框架包括允許銷穿過載體框架且執(zhí)行該操作的孔或孔口或開口。每個小掩模框架(在z方向上)被提升而離開載體框架的表面，使得小掩模框架被提升到足夠高以允許沿x、y和/或θ方向(如圖5、8、9和14等所示，z方向作為載體2的一側的法線方向，θ方向是圍繞z方向旋轉的方向)的運動，但是未被提升至高到足以接觸對準基板(如果存在的話)的底部。當使用對準基板方法時，執(zhí)行每個小陰影掩模的對準特征與對準基板的對應對準特征之間的對準。在ccm方法的情況下，不用考慮與對準基板的接觸，因為不存在對準基板。然而，仍期望僅將掩模框架提升短的距離，以免測量誤差。

每個小陰影掩模和掩模框架組合可以獨立于每個其它小陰影掩模和框架組合被對準。這可以通過包括將多個小陰影掩模和框架對準的對準臺的對準系統(tǒng)或者通過包括每個小陰影掩模和框架有一個對準臺的對準系統(tǒng)來實現(xiàn)。用來對準小陰影掩模的對準臺的數(shù)量不應被解釋為是限制性的。

在包括大陰影掩模的每個小陰影掩模和框架的精細或精確對準完成后，小陰影掩模和框架被下降回到載體框架。如果存在對準基板，則可以去除對準基板。最后，精細或精確對準的掩模框架可以通過任何適合的或期望的方式(例如，不限于粘合劑或焊接)與載體框架結合。

現(xiàn)在將參考圖1-5來說明第一示例性多掩模對準系統(tǒng)。

第一示例性多掩模對準系統(tǒng)包括載體(或載體框架)2(圖1)，載體2具有多個貫通載體2的孔口4。與每個孔口4相關聯(lián)的是支撐陰影掩模8的框架6(圖2和圖3)，陰影掩模8包括一個或多個孔口(未示出)，該一個或多個孔口以與期望穿過其而被氣相沉積的期望的材料圖案對應的圖案貫通陰影掩模8。

在實例中，載體2將六個組合的框架和陰影掩模6/8(框架和陰影掩模組合)支撐在載體2的第一(頂)側，并且每個框架6將其相應的陰影掩模8支撐成與載體2的孔口4對準(圖2)。在實例中，每個陰影掩模8可以具有相同的孔口圖案或者不同的孔口圖案。在另一實例中，兩個或更多個(但是并非全部)陰影掩模8可具有相同的孔口圖案，而其余陰影掩模可具有不同的孔口圖案。具有與其它陰影掩模8相同或不同的孔口圖案的每個陰影掩模8不應被解釋為是限制性的。

最初，每個組合的框架和陰影掩模6/8以與載體2的相應孔口4粗略、近似或大體對準的方式定位在載體2上。

如圖4和圖5所示，第一示例性多陰影掩模對準系統(tǒng)包括對準系統(tǒng)10，該對準系統(tǒng)10定位在載體2的與多個組合的框架和陰影掩模6/8相反的第二(底)側。對準系統(tǒng)10可以包括一個或多個對準臺12，對準臺12被認為對于以下文所述的方式精細定位每個組合的框架和陰影掩模6/8而言是適合的和/或期望的。在實例中，每個孔口4可以包括專用對準臺12，專用對準臺12用于在陰影掩模8與相應孔口4對準定位的情況下對組合的框架和陰影掩模6/8進行精細的定位。然而，這不應解釋為是限制性的，因為可設想的是，每個對準臺12可構造且操作成精細或精確地對準任意數(shù)量的組合的框架和陰影掩模6/8。在實例中，單個對準臺12可以構造且操作成以下文所述的方式精細或精確地對準兩個或更多個組合的框架和陰影掩模6/8。

為了說明的目的，假設在每個組合的框架和陰影掩模6/8與對應的對準臺12之間存在一一對應關系。然而，這不應被解釋為是限制性的。

每個對準臺12包括延伸穿過載體2中的孔16的多個細長銷14。在實例中，三個孔16(在圖1中被最佳地示出)圍繞每個孔口4。然而，這不應被解釋為是限制性的。延伸穿過圍繞每個孔口4的孔16的銷14接觸框架6(其支撐與所述孔口4對準的陰影掩模8)的面對載體2的一側。

一個或多個數(shù)字(ccd)照相機18定位到多個組合的框架和陰影掩模6/8的與載體2相反的一側。在實例中，每個數(shù)字照相機18定位成觀察單個組合的框架和陰影掩模6/8。然而，這不應被解釋為是限制性的，因為可設想的是每個數(shù)字照相機18可以定位且操作成觀看兩個或更多個或全部組合的框架和陰影掩模6/8。為了說明的目的，假設在每個組合的框架和陰影掩模6/8與數(shù)字照相機18之間存在一一對應關系。然而，這不應被解釋為是限制性的。

多陰影掩模對準系統(tǒng)還包括編程控制器20，該控制器20與每個數(shù)字照相機18和對準系統(tǒng)10的每個對準臺聯(lián)接。控制器20和數(shù)字照相機18的組合限定了本文所描述的包括數(shù)字照相機18的每個示例性多掩模對準系統(tǒng)的控制系統(tǒng)。控制器20可操作地控制對準系統(tǒng)10，更具體地，控制每個對準臺12，以基于被確定用于組合的框架和陰影掩模6/8的第一組對準特征22(在圖2中被最佳地示出)的位置來精細或精確地對準每個組合的框架和陰影掩模6/8。在實例中，框架6包括第一組對準特征22。

在期望執(zhí)行組合的框架和陰影掩模6/8的精細或精確對準的適當時候，控制器20使對準臺12將銷14從圖4所示的縮回位置伸出到圖5所示的伸出位置，于是組合的框架和陰影掩模6/8沿z方向從載體2的第一側升起，從而限定間隙24。定位到組合的框架和陰影掩模6/8的與載體2相反的一側的數(shù)字照相機18獲取包括第一組對準特征22的數(shù)字圖像并將該數(shù)字圖像轉送到控制器20，控制器20可操作地處理數(shù)字圖像，并且基于處理后的數(shù)字圖像來控制對準臺12，以精細或精確地調(diào)節(jié)組合的框架和陰影掩模6/8的位置。

更具體地，控制器20可操作地處理包括第一組對準特征22的數(shù)字圖像，并且基于處理后的數(shù)字圖像來控制對準臺12，以調(diào)節(jié)組合的框架和陰影掩模6/8在x、y和/或θ方向上的位置，使得第一組對準特征被精細或精確地與控制器20的存儲器21中所存儲的預定坐標組對準(一致)。該預定坐標組可以以任何適合的或期望的格式(包括例如圖形或cad文件)存儲在存儲器21中。然而，這不應被解釋為是限制性的，因為可設想的是可以使用對控制器20用來與第一組對準特征22對準的預定坐標組進行存儲的任何適合的和/或期望的方式。

在實例中，控制器20被編程以從組合的框架和陰影掩模6/8的數(shù)字照相機18所獲取的圖像中識別第一組對準特征22及其位置。在識別第一組對準特征22及其位置時，控制器使對準臺12將第一組對準特征22與存儲在控制器20的存儲器21中的文件中的預定坐標精細或精確對準。對準特征22可以是點、線、輪廓、圓圈、環(huán)和/或任何其它適合的和/或期望的特征。第一組對準特征22的對準可以基于第一組對準特征22的亮度或者基于圖像特征。在實例中，控制器能夠?qū)⑺@取的圖像中的第一組對準特征22與存儲在控制器20的存儲器21中的數(shù)字參考圖像或源圖像中所存儲的預定坐標組處的預定對準特征組進行比較。在第一組對準特征22與存儲在存儲器21中的參考圖像或源圖像的預定對準特征組之間不對準的情況下，控制器20能夠使對準臺12根據(jù)需要沿x、y和/或θ方向移動，從而將參考圖像或源圖像中的預定對準特征組與通過數(shù)字照相機18所獲取的組合的框架和陰影掩模6/8的圖像中的第一組對準特征22對準。第一組對準特征22與存儲在控制器20的存儲器21中的預定坐標組進行比較的特定方式不應解釋為是限制性的，因為可設想的是該比較可以以現(xiàn)在所知或以后開發(fā)的任何適合的和/或期望的方式來執(zhí)行。

更具體地，為了在間隙24形成之后進行第一組對準特征22與存儲在存儲器21中的預定坐標組的精細或精確對準，控制器20使對準臺12根據(jù)需要沿x、y和/或θ方向(順時針或逆時針)繞z方向移動組合的框架和陰影掩模6/8。在控制器20已經(jīng)確定第一組對準特征22與存儲在存儲器21中的預定坐標組精細或精確對準后，控制器使對準臺12下降銷14，從而使組合的框架和陰影掩模6/8從圖5所示的位置返回到圖4所示的位置，使得框架6與載體2的第一側接觸。此后，每個組合的框架和陰影掩模6/8可以以任何適合和/或期望的方式固定到載體2上(例如用粘合劑或焊接方式將框架6固定到載體2上)，以形成成品組件25，該成品組件包括載體2，多個組合的框架和陰影掩模6/8固定到載體2上，并且每個陰影掩模8與固定到載體2上的每個其它組合的框架和陰影掩模6/8精細或精確地對準。在實例中，第一組對準特征和預定對準特征組可以是互補的。然而，這不應被解釋為是限制性的。

參考圖6-9以及繼續(xù)參考圖1-5，第二示例性多掩模對準系統(tǒng)在很多方面類似于圖1-5的第一示例性多掩模對準系統(tǒng)，對準基板26(圖7)位于數(shù)字照相機18與多個組合的框架和陰影掩模6/8(圖8和圖9)之間。在實例中，對準基板26是透明的且由具有精細尺寸穩(wěn)定性的諸如玻璃等材料制成。對準基板26包括第二組對準特征28(在圖7中最佳地示出)，第二組對準特征28的圖案對應于以粗略對準的方式定位在載體2上的多個組合的框架和陰影掩模6/8的第一組對準特征22的圖案(例如在圖6中示出)。

在該實例中，每個數(shù)字照相機18可操作地獲取包括第一組對準特征22和第二組對準特征28的數(shù)字圖像并將該數(shù)字圖像轉送到控制器20，控制器20可操作地處理數(shù)字圖像，并且基于所處理的數(shù)字圖像來使對準系統(tǒng)10調(diào)節(jié)每個組合的框架和陰影掩模6/8的位置以將第一組對準特征22與第二組對準特征28精細或精確對準。

為了說明的目的，假設對準系統(tǒng)10的單個對準臺12和單個數(shù)字照相機18用于單個組合的框架和陰影掩模6/8的精細或精確對準。然而，這不應被解釋為是限制性的。

在適合的時候，控制器20使對準臺12將銷從圖8所示的縮回位置伸出到圖9所示的伸出位置，從而在載體2的第一側與組合的框架和陰影掩模6/8的面對載體2的一側之間限定間隙24。

定位到組合的框架和陰影掩模6/8的與載體2相反的一側的數(shù)字照相機18獲取包含第一組對準特征22和第二組對準特征28的數(shù)字圖像并將該數(shù)字圖像轉送到控制器20。控制器20可操作地處理數(shù)字圖像，并且基于所處理的數(shù)字圖像使對準臺12根據(jù)需要沿x、y和/或θ方向移動，從而精細或精確地對準第一組對準特征22與第二組對準特征28。

在該實例中，每個框架6包括四個對準特征22(圖6)，并且對準基板26包括構造成與所述框架6的四個對準特征22對準的四個對準特征28(圖6)。用于對準各個組合的框架和陰影掩模6/8的第一組對準特征22和第二組對準特征28的數(shù)量不應被解釋為是限制性的。

在實例中，框架6上的對準特征可以與對準基板26的相應的對準特征28互補。例如，每個對準特征22可以是環(huán)(如圖6所示)或?qū)嵭膱A圈中的一者，而每個對準特征28可以是實心圓圈(也如圖6所示)或環(huán)中的另一者。可設想互補或不互補的對準特征22和28的不同的樣式或形狀。

在控制器20已經(jīng)確定第一組對準特征22和第二組對準特征28對準后，控制器使對準臺12下降銷14，從而使組合的框架和陰影掩模6/8從圖9所示的位置返回到圖8所示的位置，并且框架6與載體2的第一側接觸。此后，每個組合的框架和陰影掩模6/8以任何適合的和/或期望的方式(例如通過粘合劑或焊接)固定到載體2上，以形成成品組件25。

參考圖10-14以及繼續(xù)參考所有之前的圖。在第三示例性多掩模對準系統(tǒng)中，對準基板26包括光接收器34(代替第二示例性多掩模對準系統(tǒng)的對準基板26上的第二組對準特征28)，并且載體2設置有第二組對準特征30。應認識到，對準基板26的對準特征28(在第二示例性多掩模對準系統(tǒng)中)和載體2的對準特征30(在該第三示例性多掩模對準系統(tǒng)中)各自獨立地與組合的框架和陰影掩模6/8的第一組對準特征22一起使用。可選的支撐框架38(以虛線示出)可以包含在載體2上，以支撐光接收器34，從而避免載體2由于所增加的光接收器34的重量而松垂。

在實例中，第一組對準特征22和第二組對準特征30中的任一者或兩者可以是孔。如果需要，第一組對準特征22和/或第二組對準特征30的孔可以填充有透光材料。

光源32(圖13和圖14)可以位于載體2的與組合的框架和陰影掩模6/8相反的第二(底)側。在實例中，每個布置在對準基板26上的光接收器34(例如，光電二極管)構造成與從光源32(例如，led)之一輸出的光對準，從而限定光源-光接收器對32/34。每個光源-光接收器對32/34在它們之間限定光路36。在實例中，第一組對準特征22的一個對準特征22和第二組對準特征30的一個對準特征30沿著相應的光路36定位。

在該實例中，控制器20可操作地處理光接收器34的輸出，并且基于處理后的光接收器34的輸出而使對準臺12調(diào)節(jié)組合的框架和陰影掩模6/8的位置，以將第一組對準特征的一個對準特征22和第二組對準特征中的一個對準特征30精細或精確地對準在每個光路36中。在該實例中，控制器20和光接收器34限定控制系統(tǒng)。

為了該說明的目的，假設對準系統(tǒng)10的單個對準臺12和限定了光路36的多個光源-光接收器對32/34被用于單個組合的框架和陰影掩模6/8的精細或精確對準。在特定的實例中，限定了四個光路36的四個光源-光接收器對32/34被用于單個組合的框架和陰影掩模6/8的精細或精確對準。然而，這不應被解釋為是限制性的。

在適合的時候，控制器20使對準臺12將銷14從圖13所示的縮回位置伸出到圖14所示的伸出位置，從而形成間隙24。然后，在光源32打開的情況下，控制器使對準臺12根據(jù)需要沿x、y和/或θ方向移動組合的框架和陰影掩模6/8，以將第一組對準特征22與相應的第二組對準特征30精細或精確地對準(其中，如圖所示，第一組對準特征的一個對準特征22和第二組對準特征的一個對準特征30沿著每個光路36定位)，直至用于對準所述組合的框架和陰影掩模6/8的光接收器34接收到預定量的光。

在控制器20已經(jīng)經(jīng)由光接收器34的輸出確定組合的框架和陰影掩模6/8的精細或精確對準完成后，控制器20使對準臺12將組合的框架和陰影掩模6/8從圖14所示的位置返回到圖13所示的位置，并且框架6與載體2的第一側接觸。此后，每個組合的框架和陰影掩模6/8以任何適合的或期望的方式固定到載體2上(例如用粘合劑或焊接方式將框架6固定到載體2上)，以形成成品組件25。

參考圖15，在以前述實例中所述的任意方式準備好成品組件25后，成品組件25可以在沉積真空容器40內(nèi)被放置到沉積源42與由基板支撐件46支撐的基板44之間。沉積真空容器40還可以包括對準系統(tǒng)48，該對準系統(tǒng)能夠用于將成品組件25與基板44對準，并且因此將成品組件25的陰影掩模8與基板44對準。真空泵50能夠用于將沉積真空容器40抽真空到適當壓力，以用于在沉積真空容器40中執(zhí)行氣相沉積事件。

沉積源42裝載有期望的材料，該材料將經(jīng)由在沉積事件期間與基板44的一部分保持密切接觸的每個陰影掩模8中的一個或多個開口而沉積到基板44上。每個陰影掩模8的一個或多個開口對應于待從沉積源42沉積到基板44上的材料的期望圖案。

沉積真空容器40內(nèi)的成品組件25的圖示和論述是為了僅示出使用成品組件25以經(jīng)由其陰影掩模8來執(zhí)行氣相沉積事件的一個實例的目的。然而，這不應被解釋為是限制性的。

參考圖16-20，以及繼續(xù)參考全部之前的圖，在實例中，作為載體2將與其第一(頂)側直接接觸的每個組合的框架和陰影掩模6/8支撐成與載體2的孔口4對準的選擇，如圖4和圖8所示，載體2可以包括圍繞每個孔口4的多個調(diào)平銷或間隔件52。

當對準臺12的銷14處于圖18所示的縮回位置時，圍繞每個孔口4的一組調(diào)平銷25能夠?qū)目蚣?(更具體地，陰影掩模8)支撐為處于與載體2的第一(頂)側間隔開的關系，從而在框架6與載體2之間形成間隙54(圖18)。

在期望執(zhí)行組合的框架和陰影掩模6/8的精細且精確的對準的適當時候，控制器20使對準臺12將銷14從圖18所示的縮回位置伸出到圖19所示的伸出位置，于是組合的框架和陰影掩模6/8沿z方向從銷52的頂側升起，從而將間隙的尺寸從圖18中的附圖標記54所示的尺寸增大到圖19中的附圖標記54’所示的尺寸。在組合的框架和陰影掩模6/8已經(jīng)以上述方式被精細且精確地對準之后，控制器20使對準臺12下降銷14，從而將組合的框架和陰影掩模6/8從圖19所示的位置返回到圖18所示的位置，并且框架6的底部與調(diào)平銷52的頂端接觸，從而在組合的框架和陰影掩模6/8與載體框架2的頂表面之間形成間隙54。

雖然結合圖1-5的第一示例性多掩模對準系統(tǒng)在此描述了在調(diào)平銷52穿過載體框架伸出的情況下載體框架的使用，但是應當理解，包括穿過載體2伸出的調(diào)平銷52的載體2還可以用于圖6-9所示的第二示例性多掩模對準系統(tǒng)和/或圖10-14所示的第三示例性多掩模對準系統(tǒng)。因此，本文結合如圖1-5所示的第一示例性多掩模對準系統(tǒng)對包括穿過載體2伸出的調(diào)平銷52的載體2的使用的說明不應被解釋為是限制性的。

參考圖20，示出了載體2的獨立的剖面圖，載體2包括穿過載體2中的開口56伸出的一對調(diào)平銷52。在實例中，穿過載體2的開口56伸出的調(diào)平銷52精確地形成為具有相同長度±預定公差。在實例中，該±預定公差可以<±0.5mm；或者可以<±0.05mm；或者可以<±0.01mm，于是在任意一對對準銷52之間的最大長度差是該公差。

穿過載體框架2伸出的調(diào)平銷52有助于將每個組合的框架和陰影掩模6/8平坦化且有助于將由載體2支撐的全部組合的框架和陰影掩模6/8相對于彼此平坦化。

現(xiàn)在將參考圖20來描述調(diào)平銷52穿過載體2的開口56伸出且固定在載體2的開口56中的過程。

最初，載體2的底側經(jīng)由一組墊片60定位成處于與參考平坦表面58間隔開的關系，類似于調(diào)平銷52，墊片60被精確地形成而使得在每個墊片60的頂表面與底表面之間的距離在±預定公差內(nèi)。在該實例中，該±公差可以<±0.5mm；或者可以<±0.05mm；或者可以<±0.01mm。

在適合的時候，調(diào)平銷52伸出或插入載體2的每個開口56(該開口56預形成在載體2中)中，直到調(diào)平銷52的第一底端或下端接觸參考表面58的頂側。接著，所述調(diào)平銷52以任何適合的和/或期望的方式(例如不限于膠粘、釬焊、激光焊接或它們的某種組合)與載體2結合。另外或者作為選擇，可設想的是每個調(diào)平銷52的尺寸和每個開口56的尺寸可以構造成使得所述調(diào)平銷52壓配合到所述開口56中。每個調(diào)平銷52固定在開口56內(nèi)的特定方式不應被解釋為是限制性的。

此后，包括固定在載體框架2的開口56中的調(diào)平銷52的載體框架2能夠如上所述那樣輔助將每個組合的框架和陰影掩模6/8平坦化，其中，每個框架6的底表面以圖20所示的方式由調(diào)平銷52的第二頂端支撐。類似地，包括穿過載體2的開口56伸出的調(diào)平銷52的載體2能夠用于將任意數(shù)量的組合的框架和陰影掩模6/8相對于彼此平坦化。因此，總之，除了有助于將每個組合的框架和陰影掩模6/8平坦化之外，包括圍繞每個孔口4的一組調(diào)平銷52的載體框架也能夠輔助將由載體2的調(diào)平銷52支撐的多個組合的框架和陰影掩模6/8相對于彼此平坦化。

已經(jīng)參考各個實例描述了實施例。在閱讀和理解了前述實例后，修改和改動對于本領域技術人員將是顯而易見的。因此，前述實例不應解釋為限制本發(fā)明。