1.一種玻璃基片真空鍍膜上下片的方法，其特征在于，包括以下步驟：
a、在基片架底部設(shè)置旋轉(zhuǎn)底座，使基片架能夠在旋轉(zhuǎn)底座上水平自由旋轉(zhuǎn)；
b、對(duì)基片架的正面進(jìn)行正面玻璃基片的上片操作，然后將基片架在旋轉(zhuǎn)底座上旋轉(zhuǎn)180°，再對(duì)基片架的反面進(jìn)行反面玻璃基片的上片操作；
c、將上片后的基片架送入雙面磁控濺射鍍膜機(jī)進(jìn)行正反面鍍膜；
d、鍍完膜的基片架由雙面磁控濺射鍍膜機(jī)出口回轉(zhuǎn)運(yùn)送到上下片區(qū)，對(duì)基片架正面的玻璃基片進(jìn)行下片操作，然后將基片架在旋轉(zhuǎn)底座上旋轉(zhuǎn)180°，再對(duì)基片架反面的玻璃基片進(jìn)行下片操作；
e、重復(fù)步驟b～d，實(shí)現(xiàn)在真空鍍膜工藝中對(duì)玻璃基片的上下片。