技術總結
本發(fā)明公開一種玻璃基片真空鍍膜上下片的方法，包括以下步驟：在基片架底部設置旋轉底座，使基片架能夠在旋轉底座上水平自由旋轉；對基片架的正面進行正面玻璃基片的上片操作，然后將基片架在旋轉底座上旋轉180°，再對基片架的反面進行反面玻璃基片的上片操作；雙面磁控濺射鍍膜機進行正反面鍍膜；鍍完膜的基片架回轉運送到上下片區(qū)，對基片架正面的玻璃基片進行下片操作，然后將基片架在旋轉底座上旋轉180°，再對基片架反面的玻璃基片進行下片操作；重復步驟b～d，實現在真空鍍膜工藝中對玻璃基片的上下片；安排一名操作工即可對基片架反面進行上下片，無需再繞行到基片架反面，節(jié)省了人力的同時，能夠保證上下片的速度，降低勞動強度。

技術研發(fā)人員：鮑兆臣;張少波;樊黎虎
受保護的技術使用者：凱盛科技股份有限公司
文檔號碼：201710150355
技術研發(fā)日：2017.03.14
技術公布日：2017.06.13