技術特征：

技術總結
本發明公開了一種采用化學拋光液和陶瓷拋光盤的氮化鋁基片拋光方法，其特征包括：(1)制備陶瓷拋光盤，(2)配置堿性拋光液，(3)將氮化鋁晶片用石蠟粘結在氧化鋁基板上，放置于所制備的拋光盤上進行拋光加工。本方法的拋光原理為使用鐵氰化鉀作為強氧化劑，使氮化鋁的表面被氧化形成氧化膜，再利用陶瓷拋光盤對其表面進行磨削，去除表面氧化層，從而達到拋光的作用。本方法中的陶瓷拋光盤耐腐蝕，硬度高，韌性強，磨削效率高，拋光速率快。采用堿性拋光液，能有效避免加工設備腐蝕，使得加工性能穩定，同時保證得到的氮化鋁表面光潔度高，損傷低。

技術研發人員：周兆忠;柯宇;馮凱萍;倪成員;郁煒;尹濤;許慶華
受保護的技術使用者：衢州學院
技術研發日：2017.03.17
技術公布日：2017.07.18