技術(shù)特征：

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明涉及本發(fā)明提供一種原子層沉積反應(yīng)腔體設(shè)計裝置以及針對超高深寬比通孔材料表面均勻鍍膜工藝，其中，原子層沉積反應(yīng)腔體設(shè)計裝置包括：進氣系統(tǒng)、排氣系統(tǒng)、上反應(yīng)腔、下反應(yīng)腔、基板；其中，基板位于上反應(yīng)腔內(nèi)，進氣系統(tǒng)用于提供所需反應(yīng)前驅(qū)體和凈化氣體，反應(yīng)前驅(qū)體和凈化氣體進入所述上反應(yīng)腔，排氣系統(tǒng)用于清除多余反應(yīng)前驅(qū)體和凈化氣體，經(jīng)所述下反應(yīng)腔排除。本發(fā)明可以解決超高深寬比通孔材料內(nèi)部表面無法均勻沉積鍍膜問題。

技術(shù)研發(fā)人員：程傳偉;張海峰
受保護的技術(shù)使用者：同濟大學(xué)
技術(shù)研發(fā)日：2017.04.19
技術(shù)公布日：2017.08.08