本發明涉及一種臥式連續圓管式表面真空磁控鍍膜結構，屬于玻璃真空鍍膜技術、新材料和新工藝技術領域。
背景技術：
近年來圓管表面真空磁控鍍膜大體采取單體機，機內一次裝載數十只，在“行星”機構傳動下圓管做公轉與自轉，立式圓柱靶在中心位置，開機一次只能生產數十只，無法連續生產，效率低，且膜系單一。
技術實現要素：
針對上述問題，本發明要解決的技術問題是提供一種臥式連續圓管式表面真空磁控鍍膜結構。
本發明的一種臥式連續圓管式表面真空磁控鍍膜結構，它包含腔體、機架、旋轉圓管、傳動軸、第二螺旋齒輪、齒輪、第一齒條、導槽、導向輪、減速機、直齒輪、第二齒條、箱體，腔體上設置有機架，機架上并排安裝有數個水平行進的旋轉圓管，旋轉圓管是由圓管、三爪卡盤、滑動軸承座、固定軸承座、滑槽、絲桿、絲母座、手輪和第一螺旋齒輪組成，圓管的兩端分別安裝有三爪卡盤，其一端連接有滑動軸承座，另一端連接有固定軸承座，滑動軸承座設置在滑槽上，滑動軸承座通過絲桿與絲母座連接，絲母座與手輪連接，固定軸承座的一端連接有第一螺旋齒輪，機架的前端設置有傳動軸，傳動軸上均勻設置有數個第二螺旋齒輪，且數個第二螺旋齒輪與數個旋轉圓管一端的第一螺旋齒輪相嚙合，傳動軸的兩端分別設置有齒輪，且齒輪與第一齒條相嚙合，第一齒條設置在腔體的兩端，腔體的兩端還分別設置有導槽，機架的兩側分別安裝有數個導向輪，且數個導向輪滑設在導槽上，腔體的一側設置有減速機，減速機的軸上安裝有直齒輪，直齒輪與第二齒條相嚙合，第二齒條設置在機架的一側，腔體的后方安裝有箱體。
作為優選，所述的機架的一側安裝有數個限位輪，限位輪主要用于控制機架水平行進中不易跑偏。
本發明的有益效果：它結構設計合理，安裝簡單，使用方便，通過將圓管安裝在特制機架上，在生產線上圓管隨機架水平行進，同時繞自身軸線旋轉，形成圓管式表面真空磁控鍍膜連續生產，生產效率大輻度提高，滿足了圓管表面鍍膜均勻性要求。
附圖說明：
為了易于說明，本發明由下述的具體實施及附圖作以詳細描述。
圖1為本發明的結構示意圖；
圖2為本發明中機架的結構示意圖；
圖3為圖2的側視圖；
圖4為本發明中機架的立體結構示意圖；
圖5為本發明中旋轉圓管的結構示意圖；
圖6為本發明中三爪卡盤的結構示意圖；
圖7為圖1中a部放大圖；
圖8為圖1中b部放大圖；
圖9為圖1中c部放大圖。
1-腔體；2-機架；2-1-限位輪；3-旋轉圓管；3-1-圓管；3-2-三爪卡盤；3-3-滑動軸承座；3-4-固定軸承座；3-5-滑槽；3-6-絲桿；3-7-絲母座；3-8-手輪；3-9-第一螺旋齒輪；4-傳動軸；5-第二螺旋齒輪；6-齒輪；7-第一齒條；8-導槽；9-導向輪；10-減速機；11-直齒輪；12-第二齒條；13-箱體。
具體實施方式：
如圖1-圖9所示，本具體實施方式采用以下技術方案：它包含腔體1、機架2、旋轉圓管3、傳動軸4、第二螺旋齒輪5、齒輪6、第一齒條7、導槽8、導向輪9、減速機10、直齒輪11、第二齒條12、箱體13，腔體1上設置有機架2，機架2上并排安裝有數個水平行進的旋轉圓管3，旋轉圓管3是由圓管3-1、三爪卡盤3-2、滑動軸承座3-3、固定軸承座3-4、滑槽3-5、絲桿3-6、絲母座3-7、手輪3-8和第一螺旋齒輪3-9組成，圓管3-1的兩端分別安裝有三爪卡盤3-2，其一端連接有滑動軸承座3-3，另一端連接有固定軸承座3-4，滑動軸承座3-3設置在滑槽3-5上，滑動軸承座3-3通過絲桿3-6與絲母座3-7連接，絲母座3-7與手輪3-8連接，固定軸承座3-4的一端連接有第一螺旋齒輪3-9，機架2的前端設置有傳動軸4，傳動軸4上均勻設置有數個第二螺旋齒輪5，且數個第二螺旋齒輪5與數個旋轉圓管3一端的第一螺旋齒輪3-9相嚙合，傳動軸4的兩端分別設置有齒輪6，且齒輪6與第一齒條7相嚙合，第一齒條7設置在腔體1的兩端，腔體1的兩端還分別設置有導槽8，機架2的兩側分別安裝有數個導向輪9，且數個導向輪9滑設在導槽8上，腔體1的一側設置有減速機10，減速機10的軸上安裝有直齒輪11，直齒輪11與第二齒條12相嚙合，第二齒條12設置在機架2的一側，腔體1的后方安裝有箱體13。
其中，所述的機架2的一側安裝有數個限位輪2-1，限位輪2-1主要用于控制機架2水平行進中不易跑偏。
本具體實施方式在使用時，轉動手輪3-8，通過絲母座3-7、絲桿3-6可使滑動軸承座3-3連同固定在上面的三爪卡盤3-2沿滑槽做軸向移動，利用均布在卡盤上活動爪的徑向運動將圓管內徑撐緊，在生產線上，旋轉圓管3隨機架2水平行進的同時在機架2上旋轉，通過減速機10軸上的直齒輪11轉動，驅動機架2上第二齒條12連同機架2水平行進，機架2水平行進中齒輪6通過與第一齒條7相對運動而轉動，通過傳動軸4、第二螺旋齒輪5、第一螺旋齒輪3-9帶動旋轉圓管3轉動。
本具體實施方式中的齒輪6的齒數為z1=17（避免根切最少齒數），模數為m1=3，齒輪轉動一周機架2行進距離位s=πmz，第二螺旋齒輪位5z2=11，第一螺旋齒輪3-9為z3=23，旋轉圓管3旋轉一周機架2行進距離位h=πmz.11/23=76.6mm，選用的旋轉陰極有效濺射區域寬約150-200mm，重疊系數在2以上。
本具體實施方式為了進一步消除因圓管自身旋轉形成螺旋狀膜層帶的不均勻，還采用了孿生靶，孿生靶距為h/2（38.3）的奇數倍。選用191.57，這樣，兩靶在磁控濺射中在圓管表面形成螺旋狀膜層帶相差180°相互疊加進一步提高了圓管表面鍍膜均勻性。
本具體實施方式結構設計合理，安裝簡單，使用方便，通過將圓管安裝在特制機架上，在生產線上圓管隨機架水平行進，同時繞自身軸線旋轉，形成圓管式表面真空磁控鍍膜連續生產，生產效率大輻度提高，滿足了圓管表面鍍膜均勻性要求。
以上顯示和描述了本發明的基本原理和主要特征和本發明的優點。本行業的技術人員應該了解，本發明不受上述實施例的限制，上述實施例和說明書中描述的只是說明本發明的原理，在不脫離本發明精神和范圍的前提下，本發明還會有各種變化和改進，這些變化和改進都落入要求保護的本發明范圍內。本發明要求保護范圍由所附的權利要求書及其等效物界定。