本發明屬于顯示技術領域，涉及一種濕法刻蝕槽。

背景技術：

濕法刻蝕工藝主要是指采用液態化學藥品對待刻蝕物進行去除的刻蝕技術，具體而言，濕法刻蝕是使用適當的刻蝕液，與刻蝕物進行化學反應，改變刻蝕物的結構，使無光刻膠覆蓋的部分脫離基片表面，把有光刻膠覆蓋的區域保存下來，這樣便在基片表面得到了所需要的圖形。

在顯示屏的制作過程，通常是在濕法刻蝕槽內利用酸性液體對基板上的特定膜層進行刻蝕，刻蝕過程中，酸性液體揮發而形成的酸霧逐漸附著在濕法刻蝕槽的蓋板上，附著在蓋板上的酸性小液滴將逐漸凝結成大的酸性液滴，當大的酸性液滴掉落到基板上時，將導致對膜層的刻蝕不均勻，影響產品良率。

技術實現要素：

本發明的目的在于，解決現有技術中酸霧在蓋板上凝結導致對基板的刻蝕不均勻，影響產品良率的問題。

為解決上述技術問題，本發明提供了一種濕法刻蝕槽，包括槽體、蓋板和噴氣裝置，所述蓋板蓋合在所述槽體上；所述濕法刻蝕槽上開設有排氣口，所述排氣口用于連接一外部抽氣裝置；所述噴氣裝置設置在所述蓋板朝向所述槽體上，用于沿朝向所述排氣口的方向噴射壓縮氣體，將蓋板附近的酸霧吹向所述排氣口附近，使酸霧從所述排氣口排出。

進一步的，所述排氣口設置在所述蓋板的中間部位，在所述蓋板靠近所述槽體的內側壁處設置所述噴氣裝置。

進一步的，所述噴氣裝置的數量為一個或多個。

進一步的，所述噴氣裝置的數量至少為四個，在所述蓋板靠近所述槽體的四個內側壁處分別設置至少一個所述噴氣裝置。

進一步的，所述排氣口的數量至少為兩個，分別設置在所述蓋板靠近所述槽體相對的兩個內側壁處或設置在所述槽體相對的兩個內側壁上，所述噴氣裝置設置在所述蓋板的中間部位。

可選的，所述噴氣裝置能夠同時朝所述兩個排氣口的方向噴射壓縮氣體。

優選的，所述噴氣裝置的數量與所述排氣口的數量相同或者不相同，當所述噴氣裝置的數量與所述排氣口的數量相同時，每個所述噴氣裝置分別朝對應的一個排氣口的方向噴射壓縮氣體。

進一步的，所述蓋板的中間部位設有一分界板，所述噴氣裝置設置于所述分界板上。

進一步的，所述噴氣裝置包括噴氣嘴和氣源，所述噴氣嘴設置在所述蓋板上，所述氣源設置在所述濕法刻蝕槽外部，所述噴氣嘴通過一氣源管道與所述氣源連通，所述氣源管道與所述濕法刻蝕槽密封連接。

進一步的，所述壓縮氣體為壓縮空氣或壓縮氧氣，所述壓縮氣體的溫度為30-60℃。

與現有技術相比，本發明提供的一種濕法刻蝕槽，通過設置噴氣裝置，將酸霧吹至排氣口處，使得酸霧能迅速排出刻蝕槽，可以有效的減少酸霧在蓋板上的凝結。同時，將噴氣裝置噴射的壓縮氣體的溫度設置成與酸霧溫度接近，防止了酸霧因為遇冷液化的原因形成液滴，進一步減小了酸霧在蓋板上的凝結成液滴的可能，有效解決了現有技術中酸霧在蓋板上凝結導致對基板的刻蝕不均勻，影響產品良率的問題。

附圖說明

圖1是本發明一實施例提供的一種濕法刻蝕槽的結構示意圖；

圖2是本發明另一實施例提供的一種濕法刻蝕槽的結構示意圖；

圖3是本發明又一實施例提供的一種濕法刻蝕槽的結構示意圖；

其中，1-槽體；2-蓋板；3-噴氣裝置；4-排氣口；5-分界板。

具體實施方式

以下結合附圖和具體實施例對本發明提出的一種濕法刻蝕槽作進一步詳細說明。根據下面說明和權利要求書，本發明的優點和特征將更清楚。需說明的是，附圖均采用非常簡化的形式且均使用非精準的比例，僅用以方便、明晰地輔助說明本發明實施例的目的。附圖中相同或相似的附圖標記代表相同或相似的部件。

圖1是本發明一實施例提供的一種濕法刻蝕槽的結構示意圖。請參考圖1，一種濕法刻蝕槽，包括槽體1、蓋板2和噴氣裝置3，所述蓋板2蓋合在所述槽體1上；所述濕法刻蝕槽上開設有排氣口4，所述排氣口4用于連接一外部抽氣裝置(圖中未標出)；所述噴氣裝置3設置在所述蓋板2上，用于沿朝向所述排氣口4的方向噴射壓縮氣體。通過設置噴氣裝置3，當所述濕法刻蝕槽內的酸霧揮發至蓋板2處時，噴氣裝置3可以噴射壓縮氣體，從而將酸霧帶動吹向至所述排氣口4，再通過外部抽氣裝置及時將酸霧抽出刻蝕槽，有效的防止酸霧在所述蓋板1上凝結。

本實施例中，僅設置一個排氣口4，所述排氣口4設置在所述蓋板2的中間部位。將排氣口4設置在所述蓋板2的中間部位，可以使所述蓋板2附近的酸霧到所述排氣口4的最大距離較短，使離所述排氣口4較遠的所述蓋板2邊緣部分的酸霧也更易排出，但應理解，所述排氣口4也可以設置在所述蓋板2的其它部位，只要實現排除酸霧的目的即可。所述排氣口4可以是圓形排氣口或者方形排氣口，也可以是其它形狀的排氣口。本實施例中，所述噴氣裝置3設置在所述蓋板2靠近所述槽體1的內側壁處，例如，距離所述槽體1的內側壁5～20cm處，用以將酸霧吹向所述蓋板2中間部位的排氣口4處。

所述噴氣裝置3的數量可以是一個或者是多個。優選的，所述噴氣裝置3的數量為多個，多個噴氣裝置3朝向所述排氣口4的方向噴氣，這樣提高了酸霧向所述排氣口4移動的效率，同時使覆蓋面更大，酸霧更加不容易再所述蓋板2處凝結。更優選的，所述噴氣裝置3的數量至少為四個，在所述蓋板2靠近所述槽體1的四個內側壁處分別設置至少一個所述噴氣裝置3。本實施例中，如圖1所示，在所述蓋板2靠近所述槽體1相對的兩個內側壁處分別設置一個所述噴氣裝置3。

圖2是本發明另一實施例提供的一種濕法刻蝕槽的結構示意圖。請參考圖2，在本發明另一實施例中，所述排氣口4的數量至少為兩個，分別設置在所述槽體1相對的兩個側壁上，所述噴氣裝置3則設置在所述蓋板2的中間部位。作為優選的，所述噴氣裝置3能夠同時朝所述兩個排氣口4的方向噴射壓縮氣體。具體的，所述噴氣裝置3設置在中間部位向兩邊噴氣，將酸霧帶至所述排氣口4處。圖2中排氣口設置在槽體的側壁上，應當認識到，本發明對于排氣口的位置、數量和形狀不作限制，比如，也可以在所述蓋板2上設置多個排氣口，這些排氣口可以均勻或者非均勻地分布在蓋板2上。

其中，所述噴氣裝置3的數量可以與所述排氣口4的數量相同或者不相同，當所述噴氣裝置3的數量與所述排氣口4的數量相同時，每個所述噴氣裝置3分別朝對應的一個排氣口4的方向噴射壓縮氣體。

圖3是本發明又一實施例提供的一種濕法刻蝕槽的結構示意圖。請參考圖3，在又一實施例中，所述蓋板2的中間部位設有一分界板5，所述噴氣裝置3設置于所述分界板5上。所述分界板5的形狀可以是矩形或者三角形等，其面積不做限定，只要可容置噴氣裝置3即可?？梢詢H設置一個分界板5，并在該分界板5的相對兩個表面上各設置一個噴氣裝置3，也可以設置多個分界板5，并在每個分界板5上各設置一個或多個噴氣裝置3。在本方案中，設置分界板5的主要作用是，當需要在同一位置安裝兩個以上的噴氣裝置時，分界板5可以起到隔離作用，即將兩個噴氣裝置安裝在所述分界板5的相對兩個表面上，這樣兩個噴氣裝置之間不會相互干擾，提高酸霧的排出效率。

其中，所述噴氣裝置3包括噴氣嘴和氣源(圖中未標出)，所述噴氣嘴設置在所述蓋板2上，所述氣源設置在所述濕法刻蝕槽外部，所述噴氣嘴通過一氣源管道與所述氣源連通，所述氣源管道與所述濕法刻蝕槽密封連接。所述壓縮氣體例如為壓縮空氣或壓縮氧氣，所述壓縮氣體的溫度例如為30-60℃。將壓縮氣體的溫度設置成與酸霧溫度相接近，可以有效的防止酸霧因為遇冷液化的原因形成液滴，進一步減小酸霧在所述蓋板2上的凝結。

所述槽體1可以是方形槽體且具有一開口，所述蓋板2蓋合在所述槽體1上從而封閉該開口形成了一容置刻蝕液(例如是酸液、堿液或者去離子水)的腔體，從而用于對基板(例如是制作顯示屏的玻璃基板)上的各種膜層(例如是金屬膜層、介質層等)進行濕法刻蝕或濕法清洗。當然，所述槽體1也可以是其它形狀，只要蓋板2能夠蓋合其上并能夠容置刻蝕液即可。

綜上所述，本發明提供了一種濕法刻蝕槽，通過設置噴氣裝置，將酸霧吹至排氣口處，使得酸霧能迅速排出刻蝕槽，可以有效的減少酸霧在蓋板上的凝結。同時，將噴氣裝置噴射的壓縮氣體的溫度設置成與酸霧溫度接近，防止了酸霧因為遇冷液化的原因形成液滴，進一步減小了酸霧在蓋板上的凝結成液滴的可能，有效解決了現有技術中酸霧在蓋板上凝結導致對基板的刻蝕不均勻，影響產品良率的問題。

需要說明的是，本說明書中各個實施例采用遞進的方式描述，每個實施例重點說明的都是與其他實施例的不同之處，各個實施例之間相同相似部分互相參見即可。

上述描述僅是對本發明較佳實施例的描述，并非對本發明范圍的任何限定，本發明領域的普通技術人員根據上述揭示內容做的任何變更、修飾，均屬于權利要求書的保護范圍。