本實用新型涉及真空鍍膜設備技術領域，尤其涉及一種遮擋裝置及真空濺射機。

背景技術：

目前，磁控濺射鍍膜技術因具有加工簡單、安裝方便、鍍膜膜層致密、結合強度高、可長時間大批量生產等優點而被廣泛應用。傳統工藝中，磁控濺射裝置通常包括設置在真空腔室內的基板、靶材、靶材背板等。目前磁控濺射鍍膜的過程通常是：真空狀態下，在靶材和基板之間施加電場，電子在電場的作用下高速運動并與腔室內通入氬氣的氬原子發生碰撞電離出大量的氬離子，氬離子在電場的作用下轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，然后，濺射出的靶材原子在基板表面均勻沉積形成金屬薄膜。在此過程中，磁控濺射裝置能夠引導氬離子轟擊靶材的方向，從而控制靶材原子朝著對應沉積金屬薄膜的位置方向運動。但是，濺射出的靶材原子的運動方向并不是準確無誤的，靶材原子除了會到達基板表面沉積形成金屬薄膜之外，還有一部分靶材原子會濺射到基板之外，從而在基板外產生大量的濺射物(例如金屬薄膜)污染腔室，并給后期的維護帶來諸多不便。

為了避免上述問題，現有的磁控濺射裝置中通過設置遮擋裝置來防止基板之外濺射形成的金屬薄膜而造成腔室污染。在基板邊緣設置遮擋裝置，靶材正對基板上需要形成金屬薄膜的區域，以便靶材原子可以順利沉積到基板上，而原來向基板外濺射的靶材原子則會被遮擋裝置阻攔，在遮擋裝置上形成一層金屬薄膜。隨著濺射時間的增長，遮擋裝置因機構老化及靶材原子長時間轟擊等原因，遮擋裝置的位置及與基板之間的距離會發生微小偏移，進而影響所鍍膜邊的質量。因此，現有技術中通常需要磁控濺射裝置開腔對遮擋裝置進行定期維護及調節，然而，開腔，即需要通氣升壓、抽真空等操作，其操作過程復雜、耗時長，并且開腔的操作不利用設備的維護。

技術實現要素：

本實用新型的目的在于，提供一種遮擋裝置及真空濺射機，解決現有技術中遮擋裝置位置調節復雜的問題。

為解決上述技術問題，本實用新型提供一種遮擋裝置，用于在真空鍍膜過程中遮擋一基板的邊緣，包括：

框體，所述框體的中間呈鏤空結構；以及

用于在真空環境下控制所述框體相對于所述基板移動的至少一個第一驅動單元。

可選的，所述框體呈長方體或正方體，具有四條邊以及四條邊依次相交形成的四個邊角。

可選的，所述遮擋裝置包括八個所述第一驅動單元，每個所述邊角對應的兩條邊各連接一個所述第一驅動單元。

可選的，所述第一驅動單元包括一螺絲和一馬達，所述螺絲連接至所述邊角，所述馬達帶動所述螺絲旋動，并帶動所述遮擋裝置移動。

可選的，還包括連接于所述四條邊的其中一條邊的中心的第二驅動單元。

可選的，所述四條邊的中心均連接一所述第二驅動單元。

可選的，所述框體與所述基板平行設置，所述框體的鏤空結構投影在所述基板的中心。

可選的，所述框體的中間具有長方形鏤空結構或正方形鏤空結構。

相應的，本發明還提供一種真空濺射機，包括：

腔體；

用于放置基板的載臺，所述載臺位于所述腔體中；以及

上述的遮擋裝置，所述遮擋裝置位于所述載臺的上方。

可選的，所述第一驅動單元控制所述遮擋裝置在垂直方向和水平方向上相對于所述載臺移動。

本實用新型所提供的遮擋裝置及真空濺射機中，遮擋裝置包括一框體以及至少一第一驅動單元，所述框體的中間呈鏤空結構，第一驅動單元用于在真空條件下控制所述框體的移動。此外，遮擋裝置還包括連接于所述框體的第二驅動單元，進一步的控制所述框體的移動。本實用新型中，在不用開腔的情況下，通過第一驅動單元和第二驅動單元即可調節遮擋裝置的位置以及與基板之間的距離，從而實現對遮擋裝置的位置進行校準，并且操作簡單。

附圖說明

圖1為本實用新型一實施例中的遮擋裝置的俯視圖；

圖2為本實用新型一實施例中的遮擋裝置的剖面結構示意圖。

具體實施方式

下面將結合示意圖對本實用新型的遮擋裝置及真空濺射機進行更詳細的描述，其中表示了本實用新型的優選實施例，應該理解本領域技術人員可以修改在此描述的本實用新型，而仍然實現本實用新型的有利效果。因此，下列描述應當被理解為對于本領域技術人員的廣泛知道，而并不作為對本實用新型的限制。

在下列段落中參照附圖以舉例方式更具體地描述本實用新型。根據下面說明和權利要求書，本實用新型的優點和特征將更清楚。需說明的是，附圖均采用非常簡化的形式且均使用非精準的比例，僅用以方便、明晰地輔助說明本實用新型實施例的目的。

本實用新型的核心思想在于，提供一種遮擋裝置及真空濺射機，遮擋裝置用于真空濺射機對基板進行鍍膜時遮擋基板的邊緣，阻擋靶材原子進入腔體。遮擋裝置包括一框體以及至少一第一驅動單元，第一驅動單元用于控制所述框體的移動。此外，遮擋裝置還包括連接于所述框體的第二驅動單元，進一步的控制所述框體的移動。本實用新型中，在不用開腔的情況下，通過第一驅動單元和第二驅動單元即可調節遮擋裝置的位置以及與基板之間的距離，從而實現對遮擋裝置的位置進行校準，并且操作簡單。

下文結合附圖1至圖2對本實用新型的遮擋裝置及真空濺射機進行詳細說明。

參考圖1和圖2中所示，本實用新型提供一種遮擋裝置1，圖1為遮擋裝置1的俯視圖，圖2為圖1沿AA’的剖面示意圖，遮擋裝置1位于基板20的上方，并與基板20之間具有一定的距離H。遮擋裝置1用于鍍膜時遮擋基板20的邊緣，從而在基板20中形成膜層30，防止鍍膜過程中靶材原子溢出到基板之外，污染腔體。

其中，遮擋裝置1包括框體10以及至少一第一驅動單元11，所述框體10與所述基板20平行，并且，所述框體10的鏤空結構的投影位于所述基板的中心。本實施例中，所述框體10的中間呈矩形鏤空結構或正方形鏤空結構。當然，本領域技術人員可以理解的是，框體10的中間還可以為圓形鏤空結構、六邊形鏤空結構等形狀，此為根據基板20的實際形狀或鍍膜的要求進行的選擇，本實用新型對此不予限制。

參考圖1所示，本實施例中，所述框體10呈長方體或正方體，從而所述框體10平行于基板20的一側面具有四條邊，且所述框體10的四條邊依次相交形成四個邊角。所述第一驅動單元11連接于所述框體10的其中一個邊角，通過調節邊角的移動來控制所述框體10的移動。更進一步的，所述遮擋裝置包括八個所述第一驅動單元11，所述框體10的四個邊角相對應的兩條邊分別連接一所述第一驅動單元11。每個邊角連接的兩個第一驅動單元11分別用于調節垂直或水平方向上的位置，從而調節遮擋裝置水平方向上相對于基板20的位置，以及垂直方向上相對于基板20的距離。當然，本領域技術人員可以理解的是，所述框體還可以為圓形，所述第一驅動單元連接于所述框體的任意位置即可，只要能夠在不開腔的情況下對框體的位置進行調節，亦在本實用新型保護的思想范圍之內，本實用新型中對此不做限制，

具體的，所述第一驅動單元11包括依次連接的一螺絲、控制螺絲旋動的馬達以及控制馬達的開關(圖中未示出)，螺絲直接與遮擋裝置的邊角連接，調節螺絲的松緊狀態可以帶動遮擋裝置的移動。第一驅動單元11調節過程中，在腔體外控制馬達開關，開啟馬達，所述第一驅動單元11通過所述馬達的轉動帶動調節螺絲的旋動，從而帶動所述遮擋裝置10的移動，因此，本實用新型中，可以在不開腔的情況下調節遮擋裝置相對于基板的位置以及與基板之間的距離，并且利用馬達可以控制遮擋裝置移動的距離。當然，本領域技術人員還可以理解的是，所述第一驅動單元11與所述框體10之間還可以通過機械連接，通過機械控制的方式帶動遮擋裝置的移動。

繼續參考圖1所示，所述遮擋裝置1還包括連接于所述框體10的一條邊的中心的第二驅動單元12。第二驅動單元12可以從該條邊的中心位置控制框體10的移動，從而調節遮擋裝置相對于基板的位置。在本實施例中，所述框體10的每條邊的中心連接一所述第二驅動單元12，從而通過八個第一驅動單元11和四個第二驅動單元12同時調節遮擋裝置的位置，操作更方便。本領域技術人員可以理解的是，第二驅動單元12控制遮擋裝置的移動的方法與第一驅動單元11控制遮擋裝置移動的方法相同，例如，第二驅動單元12包括依次連接的一螺絲、控制螺絲旋動的馬達以及控制馬達的開關，螺絲連接框體10的一條邊的中心，通過馬達控制螺絲的旋動，從而帶動遮擋裝置的移動，同樣的可以在不開腔時，調節遮擋裝置的位置。當然，第二驅動單元還可以與第一驅動單元采用不同的控制方法，通過其他方式控制遮擋裝置的移動，本實用新型對此不予限制。

相應的，本實用新型還提供一種真空濺射機，包括：腔體；位于腔體中的載臺，所述載臺用于放置基板；上述的遮擋裝置，所述遮擋裝置位于所述載臺的上方。本實用新型中，遮擋裝置包括框體，框體的邊角分別連接一第一驅動單元，框體的每條邊的中心分別連接一第二驅動單元，通過所述第一驅動單元和第二驅動單元在垂直和水平方向上控制所述遮擋裝置相對于所述載臺移動。

綜上所述，本實用新型的遮擋裝置及真空濺射機中，遮擋裝置包括一框體以及至少一第一驅動單元，所述第一驅動單元連接于所述框體的一邊角，第一驅動單元用于控制所述框體的移動。本實用新型中，在不用開腔的情況下，即可實現對遮擋裝置的位置進行校準，操作簡單。

顯然，本領域的技術人員可以對本實用新型進行各種改動和變型而不脫離本實用新型的精神和范圍。這樣，倘若本實用新型的這些修改和變型屬于本實用新型權利要求及其等同技術的范圍之內，則本實用新型也意圖包含這些改動和變型在內。