本發(fā)明涉及清潔方法和成膜裝置。

背景技術(shù)：

1、以往已知有使基座上保持的多片晶圓(基板)公轉(zhuǎn)，同時(shí)從其上方供給多種處理氣體，在基板表面形成期望的膜的成膜裝置。近年來，伴隨著半導(dǎo)體設(shè)備的微細(xì)化、高性能化，期望一種成膜方法，成膜為在薄膜中膜厚的面內(nèi)均一性優(yōu)異的膜。

2、例如，專利文獻(xiàn)1中公開，在處理容器內(nèi)水平方向并列2片的基板的上方各自配置氣體供給部，一邊以2片基板間的軸部為中心使各氣體供給部旋轉(zhuǎn)，一邊向各基板排出氣體，進(jìn)行成膜的成膜裝置。

3、【現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)】

4、【專利文獻(xiàn)】

5、【專利文獻(xiàn)1】特開2018-62703號公報(bào)

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、【發(fā)明要解決的課題】

2、本發(fā)明提供一種技術(shù)，可在成膜中將在基板支撐部等上形成的膜穩(wěn)定地除去。

3、【解決課題的手段】

4、根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方式，提供一種清潔方法，是清潔處理容器的內(nèi)部的清潔方法，具有：(a)工序，從所述處理容器的內(nèi)部將實(shí)施成膜處理的基板搬出，(b)工序，在所述(a)工序后，在所述處理容器的內(nèi)部，清潔支撐所述基板的基板支撐部和/或該基板支撐部的周邊部，所述(b)工序中，在使所述基板支撐部旋轉(zhuǎn)的同時(shí)，以噴嘴機(jī)構(gòu)部的排出口通過所述基板支撐部的中心的方式，使所述基板支撐部或所述噴嘴機(jī)構(gòu)部進(jìn)行相對移動，且從所述噴嘴機(jī)構(gòu)部的排出口向所述基板支撐部和/或該基板支撐部的周邊部排出清潔氣體，由此，部分清潔所述基板支撐部和/或所述基板支撐部的周邊部的成膜區(qū)域。

5、【發(fā)明的效果】

6、根據(jù)一個(gè)方式，可在成膜中將在基板支撐部等上形成的膜穩(wěn)定地除去。

技術(shù)特征：

1.一種清潔方法，是清潔處理容器的內(nèi)部的清潔方法，具有：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清潔方法，設(shè)定如下排出條件，所述基板支撐部和/或該基板支撐部的周邊部上形成的膜的膜厚越厚的位置，在所述(b)工序中，與所述排出口相面對的時(shí)間越長。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的清潔方法，所述(b)工序中，作為使所述基板支撐部或所述噴嘴機(jī)構(gòu)部進(jìn)行相對移動的動作范圍，設(shè)定為以下范圍，所述排出口通過所述基板支撐部的外緣，而未到達(dá)所述基板支撐部的中心。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的清潔方法，所述(b)工序中，伴隨著時(shí)間經(jīng)過慢慢縮小使所述基板支撐部或所述噴嘴機(jī)構(gòu)部進(jìn)行相對移動的動作范圍。

5.根據(jù)權(quán)利要求1到4的任意1項(xiàng)所述的清潔方法，所述(b)工序中依次進(jìn)行：

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的清潔方法，所述(b-2)的工序中，作為使所述基板支撐部或所述噴嘴機(jī)構(gòu)部進(jìn)行相對移動的動作范圍，設(shè)定為以下范圍，所述排出口通過所述基板支撐部的中心，而未達(dá)到所述基板支撐部的外緣。

7.根據(jù)權(quán)利要求1到4的任意1項(xiàng)所述的清潔方法，所述(b)工序中，基于所述排出口所面對的所述基板支撐部的位置，改變使所述基板支撐部或所述噴嘴機(jī)構(gòu)部進(jìn)行相對移動的速度。

8.根據(jù)權(quán)利要求1到4的任意1項(xiàng)所述的清潔方法，所述噴嘴機(jī)構(gòu)部包括，向所述基板排出成膜氣體的第1噴嘴機(jī)構(gòu)和第2噴嘴機(jī)構(gòu)，和向所述基板支撐部排出所述清潔氣體的第3噴嘴機(jī)構(gòu)，

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的清潔方法，所述第1噴嘴機(jī)構(gòu)具有，在所述處理容器的內(nèi)部延伸的第1噴嘴，和設(shè)于所述第1噴嘴的基端、使該第1噴嘴擺動的第1噴嘴動作部，和設(shè)于所述第1噴嘴的前端、將吸附氣體作為所述成膜氣體排出的第1頭部，

10.一種成膜裝置，是在基板上進(jìn)行成膜的成膜裝置，包括，

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明提供一種技術(shù)，在成膜中可將基板支撐部等上形成的膜穩(wěn)定地除去。清潔方法具有，(A)工序，從處理容器的內(nèi)部將實(shí)施成膜處理的基板搬出，(B)工序，在(A)工序后，在處理容器的內(nèi)部清潔支撐基板的基板支撐部和/或該基板支撐部的周邊部。(B)工序中，在使基板支撐部旋轉(zhuǎn)的同時(shí)，以噴嘴機(jī)構(gòu)部的排出口通過基板支撐部的中心的方式，使基板支撐部或噴嘴機(jī)構(gòu)部進(jìn)行相對移動，且從噴嘴機(jī)構(gòu)部的排出口向基板支撐部和/或該基板支撐部的周邊部排出清潔氣體，由此，部分清潔基板支撐部和/或基板支撐部的周邊部的成膜區(qū)域。

技術(shù)研發(fā)人員：加藤壽
受保護(hù)的技術(shù)使用者：東京毅力科創(chuàng)株式會社
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/4/24