本發明涉及半導體，特別是涉及一種特氣供應系統及特氣供應方法。

背景技術：

1、在半導體制造領域中，特氣(特種氣體)是指用于生產過程中的各種高純度或混合氣體。為了安全有效地管理和使用這些特氣，需要一系列的周邊裝置來支持。在現有技術中，特氣柜向鍍膜艙室供應特定的氣體，氣體進入鍍膜艙室后，氣體中的特定成分于晶圓表面上沉積，可形成鍍膜。但是，現有技術中的特氣柜與鍍膜艙室是一對一連接的，當特氣柜出現故障時，其連接的鍍膜艙室需要停止作業進行檢修，檢修完成后才能繼續作業，導致了作業效率較低。因此，存在待改進之處。

技術實現思路

1、鑒于以上所述現有技術的缺點，本發明的目的在于提供一種特氣供應系統及特氣供應方法，用于解決現有技術中存在特氣柜與鍍膜艙室是對應連接的，作業效率較低的問題。

2、為實現上述目的及其他相關目的，本發明提供一種特氣供應系統，包括：

3、至少兩個特氣柜；

4、至少兩個鍍膜艙室，所述鍍膜艙室通過供氣管道連接于所述特氣柜上；

5、供氣閥門，設置于所述供氣管道上；

6、中間管道，連接于相鄰兩個所述鍍膜艙室對應的供氣管道之間，所述中間管道與所述供氣管道連通；

7、中間閥門，設置于所述中間管道上；

8、其中，所述中間管道位于所述特氣柜與所述供氣閥門之間，或者所述中間管道位于所述供氣閥門與所述鍍膜艙室之間。

9、在本發明的一個實施例中，所述特氣供應系統還包括多通管道，所述多通管道連接于所述供氣管道上，所述供氣管道通過所述多通管道與所述中間管道連接。

10、在本發明的一個實施例中，所述特氣供應系統還包括壓力檢測器，所述壓力檢測器設置于所述供氣管道上，一個所述特氣柜設置一個對應的所述壓力檢測器。

11、在本發明的一個實施例中，在所述供氣管道上，所述壓力檢測器位于靠近所述特氣柜的一側。

12、在本發明的一個實施例中，所述特氣供應系統還包括壓力控制器，所述壓力檢測器與所述壓力控制器電連接；

13、所述供氣閥門、所述中間閥門為電磁閥門或者氣動閥門，所述壓力控制器與所述供氣閥門、所述中間閥門電連接。

14、在本發明的一個實施例中，在相鄰兩個所述鍍膜艙室對應的供氣管道、中間管道上，當兩個所述壓力檢測器的示數相同時，兩個所述供氣閥門處于開啟狀態，所述中間閥門處于關閉狀態。

15、在本發明的一個實施例中，在相鄰兩個所述鍍膜艙室對應的供氣管道、中間管道上，當兩個所述壓力檢測器的示數不同時，所述中間閥門處于開啟狀態，一個所述供氣閥門處于開啟狀態，另一個所述供氣閥門處于關閉狀態。

16、在本發明的一個實施例中，所述中間管道的直徑與所述供氣管道的直徑相同。

17、在本發明的一個實施例中，所述特氣供應系統還包括多通管道，一個所述特氣柜與至少一個所述鍍膜艙室對應連接，所述供氣管道通過多通管道連接到至少一個所述鍍膜艙室上。

18、在本發明的一個實施例中，所述多通管道與所述供氣管道的連接處設置有密封圈。

19、本發明還提出一種特氣供應方法，應用如上述任一所述的特氣供應系統，包括：

20、將兩個所述特氣柜對應的供氣管道上的供氣閥門打開，將所述中間管道上的中間閥門關閉，使得兩個特氣柜向對應的所述鍍膜艙室供氣；

21、通過所述壓力檢測器，對兩個所述特氣柜對應的供氣管道進行壓力檢測，并判斷所述壓力檢測器上的檢測壓力與預設的正常壓力之間的大小；

22、當兩個所述壓力檢測器上的檢測壓力等于預設的正常壓力時，保持兩個所述供氣管道上的供氣閥門打開，將所述中間管道上的中間閥門關閉，以對兩個所述鍍膜艙室供氣；

23、當第一個所述壓力檢測器上的檢測壓力等于預設的正常壓力，并且第二個所述壓力檢測器上的檢測壓力小于預設的正常壓力時，將第一個所述供氣管道上的供氣閥門打開，將第二個所述供氣管道上的供氣閥門關閉，將所述中間管道上的中間閥門打開，以對兩個所述鍍膜艙室供氣；

24、當兩個所述壓力檢測器上的檢測壓力小于預設的正常壓力時，生成所述特氣柜的故障信息。

25、如上所述，本發明的特氣供應系統及特氣供應方法，具有以下有益效果：在特氣柜出現故障時，可以使得鍍膜艙室不停機并繼續進行工作，從而提高了特氣柜、鍍膜艙室的作業效率。

技術特征：

1.一種特氣供應系統，其特征在于，包括：

2.根據權利要求1所述的特氣供應系統，其特征在于，在所述供氣管道上，所述壓力檢測器位于靠近所述特氣柜的一側。

3.根據權利要求1所述的特氣供應系統，其特征在于，所述特氣供應系統還包括壓力控制器，所述壓力檢測器與所述壓力控制器電連接；

4.根據權利要求1所述的特氣供應系統，其特征在于，在相鄰兩個所述鍍膜艙室對應的供氣管道、中間管道上，當兩個所述壓力檢測器的示數相同時，兩個所述供氣閥門處于開啟狀態，所述中間閥門處于關閉狀態。

5.根據權利要求1所述的特氣供應系統，其特征在于，在相鄰兩個所述鍍膜艙室對應的供氣管道、中間管道上，當兩個所述壓力檢測器的示數不同時，所述中間閥門處于開啟狀態，一個所述供氣閥門處于開啟狀態，另一個所述供氣閥門處于關閉狀態。

6.根據權利要求1所述的特氣供應系統，其特征在于，所述中間管道的直徑與所述供氣管道的直徑相同。

7.根據權利要求1所述的特氣供應系統，其特征在于，所述特氣供應系統還包括多通管道，所述多通管道連接于所述供氣管道上，所述供氣管道通過所述多通管道與所述中間管道連接。

8.根據權利要求1所述的特氣供應系統，其特征在于，所述特氣供應系統還包括多通管道，一個所述特氣柜與至少一個所述鍍膜艙室對應連接，所述供氣管道通過多通管道連接到至少一個所述鍍膜艙室上。

9.根據權利要求1所述的特氣供應系統，其特征在于，所述多通管道與所述供氣管道的連接處設置有密封圈。

10.一種特氣供應方法，應用如權利要求1至權利要求9任一所述的特氣供應系統，其特征在于，包括：

技術總結
本發明提供一種特氣供應系統，特氣供應系統包括：至少兩個特氣柜；至少兩個鍍膜艙室，鍍膜艙室通過供氣管道連接于特氣柜上；供氣閥門，設置于供氣管道上；中間管道，連接于相鄰兩個鍍膜艙室對應的供氣管道之間，中間管道與供氣管道連通；中間閥門，設置于中間管道上；其中，中間管道位于特氣柜與供氣閥門之間，或者中間管道位于供氣閥門與鍍膜艙室之間；壓力檢測器，設置于供氣管道上，其中，一個特氣柜對應一個壓力檢測器。本發明提高了特氣柜、鍍膜艙室的作業效率。

技術研發人員：陳衛軍,歐陽增圖
受保護的技術使用者：深圳市辰中科技有限公司
技術研發日：
技術公布日：2025/4/24