本發(fā)明涉及cmp研磨，尤其涉及一種便于維護(hù)的cmp研磨設(shè)備。

背景技術(shù)：

1、化學(xué)機(jī)械拋光(cmp)是晶圓制造的關(guān)鍵步驟，其作用在于減少晶圓表面的不平整問題，現(xiàn)有的cmp研磨設(shè)備，一般沒有一專門供維修人員進(jìn)入設(shè)備內(nèi)部的通道，導(dǎo)致設(shè)備日程維護(hù)困難，此外，cmp設(shè)備對(duì)設(shè)備整體的體積要求較高，若開辟額外空間增設(shè)維修通道，將擴(kuò)大設(shè)備的整體體積，增加廠房的占用空間，不利于生產(chǎn)線的整體布局。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、本發(fā)明的目的是針對(duì)背景技術(shù)存在的技術(shù)問題，提出一種便于維護(hù)的cmp研磨設(shè)備，包括清洗區(qū)以及設(shè)在清洗區(qū)一側(cè)的研磨區(qū)，研磨區(qū)與清洗區(qū)之間設(shè)置有第一維修通道，第一維修通道至少包括一與外界連通的出入口，研磨設(shè)備還包括第一機(jī)械手，第一機(jī)械手設(shè)置在第一維修通道且可于第一維修通道的延展方向移動(dòng)。

2、進(jìn)一步地，研磨區(qū)包括至少兩條研磨線，相鄰研磨線之間形成第二維修通道，第二維修通道與第一維修通道連通。

3、進(jìn)一步地，研磨區(qū)包括裝載臺(tái)，裝載臺(tái)設(shè)置在第二維修通道且可于第二維修通道的延展方向移動(dòng)。

4、進(jìn)一步地，研磨線包括至少兩研磨單元，研磨單元包括研磨墊以及研磨組件，研磨組件包括支撐座以及與支撐座連接的研磨部，支撐座設(shè)置在研磨墊一側(cè)，研磨部設(shè)置在研磨墊上方，研磨部可相對(duì)支撐座橫向移動(dòng)，以使研磨部朝研磨墊的周側(cè)方向移動(dòng)。

5、進(jìn)一步地，支撐座包括向外延伸設(shè)置的支撐部，研磨部包括連接部以及設(shè)置在連接部下方的研磨頭，連接部與支撐部連接；

6、支撐部上開設(shè)有滑動(dòng)槽，滑動(dòng)槽內(nèi)設(shè)置有滑動(dòng)齒條，連接部于一側(cè)凸起設(shè)置有滑動(dòng)輪，滑動(dòng)輪設(shè)置在滑動(dòng)槽內(nèi)，并與滑動(dòng)齒條連接。

7、進(jìn)一步地，研磨單元還包括用于承載研磨墊的研磨臺(tái)以及設(shè)置在研磨臺(tái)周邊的供液器、研磨墊修整器、修整器清洗器以及研磨墊清洗器。

8、進(jìn)一步地，清洗區(qū)包括至少兩條清洗線，相鄰清洗線之間形成第三維修通道，第三維修通道與第一維修通道連通。

9、進(jìn)一步地，清洗區(qū)還包括第二機(jī)械手，清洗線包括若干清洗模塊，第二機(jī)械手設(shè)置在第三維修通道且可于第三維修通道的延展方向移動(dòng)，第二機(jī)械手用于晶圓于各清洗模塊之間的傳輸。

10、進(jìn)一步地，清洗區(qū)還包括傳輸模組，傳輸模組設(shè)置在相鄰清洗線之間，以將第三維修通道劃分為上維修通道以及下維修通道，上維修通道以及下維修通道內(nèi)均設(shè)置有第二機(jī)械手。

11、進(jìn)一步地，還包括前置區(qū)以及第三機(jī)械手，前置區(qū)設(shè)置在清洗區(qū)遠(yuǎn)離研磨區(qū)的一側(cè)，前置區(qū)與清洗區(qū)之間形成第四維修通道，第四維修通道與第三維修通道連通，第三機(jī)械手設(shè)置在第四維修通道，且可于第四維修通道的延展方向移動(dòng)。

12、本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有如下有益技術(shù)效果：本發(fā)明通過在間隔設(shè)置的研磨區(qū)與清洗區(qū)之間形成第一維修通道，并將第一機(jī)械手可移動(dòng)地設(shè)置在第一維修通道內(nèi)，第一維修通道的一側(cè)可形成出入口并與外界連通，當(dāng)cmp研磨設(shè)備需要維修或維護(hù)時(shí)，可將第一機(jī)械手移動(dòng)至第一維修通道遠(yuǎn)離出入口的一側(cè)，維修人員即可由外部經(jīng)出入口進(jìn)入第一維修通道，實(shí)現(xiàn)對(duì)研磨區(qū)以及清洗區(qū)的維護(hù)，便于對(duì)cmp研磨設(shè)備內(nèi)部的組件維護(hù)調(diào)試，維修便捷，進(jìn)一步地，本發(fā)明將第一維修通道設(shè)置在cmp研磨設(shè)備內(nèi)部，且同時(shí)作為第一機(jī)械手的設(shè)置區(qū)域以及移動(dòng)區(qū)域，即本發(fā)明的第一維修通道并未占用cmp研磨設(shè)備的額外空間?；谏鲜鲈O(shè)置，本發(fā)明通過合理布局，在保證cmp研磨設(shè)備整體體積基本不變的情況下，增設(shè)了一條供維修人員維修設(shè)備的第一維修通道，解決了現(xiàn)有設(shè)備維修難、體積大的技術(shù)問題。

技術(shù)特征：

1.一種便于維護(hù)的cmp研磨設(shè)備，包括清洗區(qū)(1)以及設(shè)在所述清洗區(qū)(1)一側(cè)的研磨區(qū)(2)，其特征在于，所述研磨區(qū)(2)與所述清洗區(qū)(1)之間設(shè)置有第一維修通道(41)，所述第一維修通道(41)至少包括一與外界連通的出入口(411)，所述研磨設(shè)備還包括第一機(jī)械手(51)，所述第一機(jī)械手(51)設(shè)置在所述第一維修通道(41)且可于所述第一維修通道(41)的延展方向移動(dòng)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種便于維護(hù)的cmp研磨設(shè)備，其特征在于，所述研磨區(qū)(2)包括至少兩條研磨線(21)，相鄰所述研磨線(21)之間形成第二維修通道(42)，所述第二維修通道(42)與所述第一維修通道(41)連通。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種便于維護(hù)的cmp研磨設(shè)備，其特征在于，所述研磨區(qū)(2)包括裝載臺(tái)(22)，所述裝載臺(tái)(22)設(shè)置在所述第二維修通道(42)且可于所述第二維修通道(42)的延展方向移動(dòng)。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種便于維護(hù)的cmp研磨設(shè)備，其特征在于，所述研磨線(21)包括至少兩研磨單元(211)，所述研磨單元(211)包括研磨墊(201)以及研磨組件(202)，所述研磨組件(202)包括支撐座(2021)以及與所述支撐座(2021)連接的研磨部(2022)，所述支撐座(2021)設(shè)置在所述研磨墊(201)一側(cè)，所述研磨部(2022)設(shè)置在所述研磨墊(201)上方，所述研磨部(2022)可相對(duì)所述支撐座(2021)橫向移動(dòng)，以使所述研磨部(2022)朝所述研磨墊(201)的周側(cè)方向移動(dòng)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種便于維護(hù)的cmp研磨設(shè)備，其特征在于，所述支撐座(2021)包括向外延伸設(shè)置的支撐部(20211)，所述研磨部(2022)包括連接部(20221)以及設(shè)置在所述連接部(20221)下方的研磨頭(20222)，所述連接部(20221)與所述支撐部(20211)連接；

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種便于維護(hù)的cmp研磨設(shè)備，其特征在于，所述研磨單元(211)還包括用于承載所述研磨墊(201)的研磨臺(tái)(203)以及設(shè)置在所述研磨臺(tái)(203)周邊的供液器(204)、研磨墊修整器(205)、修整器清洗器(206)以及研磨墊清洗器(207)。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種便于維護(hù)的cmp研磨設(shè)備，其特征在于，所述清洗區(qū)(1)包括至少兩條清洗線(11)，相鄰所述清洗線(11)之間形成第三維修通道(43)，所述第三維修通道(43)與所述第一維修通道(41)連通。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種便于維護(hù)的cmp研磨設(shè)備，其特征在于，所述清洗區(qū)(1)還包括第二機(jī)械手(52)，所述第二機(jī)械手(52)設(shè)置在所述第三維修通道(43)且可于所述第三維修通道(43)的延展方向移動(dòng)。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種便于維護(hù)的cmp研磨設(shè)備，其特征在于，所述清洗區(qū)(1)還包括傳輸模組(12)，所述傳輸模組(12)設(shè)置在相鄰所述清洗線(11)之間，以將第三維修通道(43)劃分為上維修通道以及下維修通道，所述上維修通道以及所述下維修通道內(nèi)均設(shè)置有第二機(jī)械手(52)。

10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種便于維護(hù)的cmp研磨設(shè)備，其特征在于，還包括前置區(qū)(3)以及第三機(jī)械手(53)，所述前置區(qū)(3)設(shè)置在所述清洗區(qū)(1)遠(yuǎn)離所述研磨區(qū)(2)的一側(cè)，所述前置區(qū)(3)與所述清洗區(qū)(1)之間形成第四維修通道(44)，所述第四維修通道(44)與所述第三維修通道(43)連通，所述第三機(jī)械手(53)設(shè)置在所述第四維修通道(44)，且可于所述第四維修通道(44)的延展方向移動(dòng)。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開一種便于維護(hù)的CMP研磨設(shè)備，包括清洗區(qū)以及設(shè)在清洗區(qū)一側(cè)的研磨區(qū)，研磨區(qū)與清洗區(qū)之間設(shè)置有第一維修通道，第一維修通道包括與外界連通的出入口，第一維修通道內(nèi)設(shè)置有可于其延展方向移動(dòng)的第一機(jī)械手。通過上述設(shè)置，維修人員即可由外部經(jīng)出入口進(jìn)入第一維修通道，實(shí)現(xiàn)對(duì)研磨區(qū)以及清洗區(qū)的維護(hù)，便于對(duì)CMP研磨設(shè)備內(nèi)部的組件維護(hù)調(diào)試，此外，本發(fā)明將第一維修通道設(shè)置在CMP研磨設(shè)備內(nèi)部，且同時(shí)作為第一機(jī)械手的設(shè)置區(qū)域以及移動(dòng)區(qū)域，即本發(fā)明的第一維修通道并未占用CMP研磨設(shè)備的額外空間，在保證CMP研磨設(shè)備整體體積基本不變的情況下，增設(shè)了一條供維修人員維修設(shè)備的第一維修通道，解決了現(xiàn)有設(shè)備維修難、體積大的技術(shù)問題。

技術(shù)研發(fā)人員：許立峰,鄔興國(guó),許輝,樊克鵬,秦建軍
受保護(hù)的技術(shù)使用者：深圳市諾峰光電設(shè)備有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2025/4/24