1.一種鍍膜玻璃的生產(chǎn)方法，其特征在于：它包括以下步驟：
1)前期準(zhǔn)備工作：用HA－04、P－90或B－13在內(nèi)的有機(jī)溶劑對(duì)光學(xué)零件表面進(jìn)行濕潤(rùn)、滲透，有機(jī)溶劑的pH一般為8.5～12濃度為15％，在40～60℃超聲波清洗；漂洗:通過(guò)純水對(duì)光學(xué)零件表面的沖洗及超聲作用，使洗滌后殘留在光學(xué)零件表面的洗滌劑溶解、稀釋和去除；脫水:經(jīng)漂洗后的光學(xué)零件表面含有大量水分，進(jìn)入有機(jī)溶劑的脫水劑中進(jìn)行脫水，和水能充分混溶；甩干：甩干機(jī)可以將清洗后的產(chǎn)品進(jìn)行快速甩干，采用PLC電路和變頻器程序控制，通過(guò)空氣過(guò)濾裝置將凈化的空氣送入設(shè)備內(nèi)部以提高干燥的效率，防止二次污染；
2)在玻璃基片表面沉積一層或多層功能膜系層；層功能膜系層為可鋼化低輻射膜系層，低輻射膜系層的最外層為電介質(zhì)層，電介質(zhì)層最外層為SnO、SiO、AlZnO，SiO，電介質(zhì)層最外層的厚度較佳為10～40nm；該鍍膜膜系結(jié)構(gòu)包括：第一氧化鋁層、形成在該第一氧化鋁層上的第一鈦酸鑭層、形成在該第一鈦酸鑭層上的鎳鉻膜層、形成在該鎳鉻膜層上的第二鈦酸鑭層、形成在該第二鈦酸鑭層上的鎳鉻膜層、形成在該鎳鉻膜層上的第三鈦酸鑭層、形成在該第三鈦酸鑭層上的第二氧化鋁層、形成在該第二氧化鋁層上的第四鈦酸鑭層及形成在該第四鈦酸鑭層上的氟化鎂層；該第一氧化鋁層的膜厚為20～50nm；該第一鈦酸鑭層的膜厚為10～30nm；該鎳鉻膜層的膜厚為100～140nm；該第二鈦酸鑭層的膜厚為10～30nm；該第三氧化鋁層的膜厚為20～50nm；該第三鈦酸鑭層的膜厚為40～70nm；該第四氧化鋁層的膜厚為20～50nm；該第四鈦酸鑭層的膜厚為20～50nm；該氟化鎂層的膜厚為100～140nm。
2.權(quán)利要求1所述的一種鍍膜玻璃的生產(chǎn)方法，其特征在于，在一層或多層功能膜系層表面沉積一層鋯混合摻雜膜層，鋯混合摻雜膜層的材料為SiN x和ZrSiOx N y的混合物，該混合物中SiN x所占重量比為58％～63％，鋯混合摻雜膜層的最佳厚度為15～20nm。
3.權(quán)利要求1所述的一種鍍膜玻璃的生產(chǎn)方法，其特征在于，膜系層的沉積方式為磁控濺射沉積，磁控濺射沉積是在真空級(jí)數(shù)為0.1Pa級(jí)的工作氣氛下，N/O比例不超過(guò)8的條件下進(jìn)行的。
4.權(quán)利要求3所述的一種鍍膜玻璃的生產(chǎn)方法，其特征在于，氬2 2氣流量為500sccm、氧氣流量為100sccm、氮?dú)饬髁繛?00sccm。