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一種碳化硅單晶生長熱場結構中的石墨板涂層的制備方法與流程

文檔序號:12395489閱讀:來源:國知局

技術特征:

1.一種碳化硅單晶生長熱場結構中的石墨板涂層的制備方法,其中,所述石墨板位于顆粒狀原料的上方,用于過濾碳化硅蒸汽中的碳顆粒,其特征在于,所述涂層的制備方法包括如下步驟:

1)制備TaCl5正丁醇溶液;

2)將多孔石墨板浸入上述溶液內,使多孔石墨板空隙表面完全被飽和溶液浸潤;

3)將浸潤后的多孔石墨板烘干;

4)將步驟3)制備好的多孔石墨板放入真空爐內,進行升溫煅燒,從而使浸潤到多孔石墨表面的TaCl5與多孔石墨發生反應,生成TaC層;

5)重復步驟1)-4)的過程,多孔石墨表面形成致密的TaC涂層;

6)將步驟5)制備好的多孔石墨板放入真空爐內,煅燒5-10小時,從而使原有的Ta在石墨體系內全部轉化為TaC晶粒,并且和原有的TaC晶粒在高溫下逐步長大,并進一步致密化。

2.如權利要求1所述的方法,其特征在于,所述步驟4)中,升溫到1000℃煅燒2小時。

3.如權利要求1所述的方法,其特征在于,重復步驟1)-4)的過程3-5次。

4.如權利要求1所述的方法,其特征在于,所述步驟6)中,采用石墨坩堝及保溫材料,在500-10000Pa的壓力、2000℃溫度下煅燒5-10小時。

5.如權利要求1所述的方法,其特征在于,TaCl5正丁醇溶液濃度達到飽和濃度70%-95%。

6.如權利要求1所述的方法,其特征在于,還包括步驟7):將具有致密TaC涂層的多孔石墨板覆蓋在碳化硅顆粒狀原料表面,將原料與籽晶隔離后進行晶體生長。

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