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一種選擇性降低苯酚釋放量的復合分子印跡材料的制作方法

文檔序號:11096484閱讀:來源:國知局

技術特征:

1.一種選擇性降低苯酚釋放量的復合分子印跡材料的制備方法,其特征在于,該方法以γ-MPS修飾的分子篩為載體,以苯酚為模板分子,以4-Vpy為功能單體,以AIBN為引發劑,以EGDMA為交聯劑,具體包括如下步驟:

(1)準備物料:分別準備苯酚、活化硅膠、γ-MPS、4-Vpy、AIBN和EGDMA適量備用;

(2)制備空白分子篩,具體為:稱取的10g活化硅膠和10~20 mL的γ-MPS加入到盛有200 mL乙醇-水混合溶液的500ml圓底燒瓶中,混合均勻;

在50℃~70℃水浴中反應12~36小時;

過濾,常溫下真空干燥不少于24 小時,得到分子篩載體;

(3)制備表面分子印跡材料,具體為:

稱取步驟(2)中所制備的分子篩載體0.1 g、稱取1mmol的苯酚、2~6mmol 的4-Vpy,共同置于50 mL氯仿中,分散均勻后置暗處不少于2小時;

加入20~40mg引發劑AIBN和5~15mmol交聯劑EGDMA,分散均勻,密封條件下50℃~70℃水浴反應12~36小時;

反應完成后,常溫下真空干燥不少于24h,即得苯酚-分子篩表面分子印跡聚合物。

2.如權利要求1所述選擇性降低苯酚釋放量的復合分子印跡材料的制備方法,其特征在于,

步驟(2)中,γ-MPS的用量為10mL,水浴反應溫度為60℃,反應時間為24h,乙醇-水混合溶液中,乙醇與水的體積比為1:1。

3.如權利要求1所述選擇性降低苯酚釋放量的復合分子印跡材料的制備方法,其特征在于,

步驟(3)中,4-Vpy的用量為2 mmol,引發劑AIBN的用量為30mg,交聯劑EGDMA的用量為10 mmol,水浴反應溫度為60℃,反應時間為24h。

4.利用權利要求1~3任一項所述選擇性降低苯酚釋放量的復合分子印跡材料的制備方法所制備的復合分子印跡材料。

5.權利要求4所述復合分子印跡材料在煙支中的應用,其特征在于,用于制備二元復合濾嘴用以降低苯酚釋放量。

6.如權利要求5所述復合分子印跡材料在煙支中的應用,其特征在于,復合分子印跡材料的添加量為10~30mg/支。

7.如權利要求6所述復合分子印跡材料在煙支中的應用,其特征在于,復合分子印跡材料的添加量為20mg/支。

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