技術特征：

技術總結
本發明提供了一種苯硼酸修飾的中空分子印跡聚合物及采用該聚合物制成的萃取柱，該聚合物的合成方法為以3?氨基苯硼酸為修飾劑，對甲基丙烯酸單體進行化學修飾，以尿苷為模板，修飾的甲基丙烯酸作為功能單體，加入基質、交聯劑和引發劑制備分子印跡材料，對制得的分子印跡材料進行洗脫模板，并采用氫氟酸腐蝕掉基質，制得中空分子印跡聚合物。本發明提供的硼親和中空分子印跡固相主要是由于分子印跡對模板分子及結構類似物的選擇性吸附、并且中空分子印跡的大部分結合位點分布在載體基質材料表面及中空腔內，提高了吸附效率，此外，硼酸基團對含有順式二醇結構的核苷類物質能實現可逆的吸附和解離，因此對核苷類物質具有明顯的富集效果。

技術研發人員：田苗苗;胡月;黃瑋;佟育奎;夏琴飛
受保護的技術使用者：哈爾濱師范大學
技術研發日：2016.12.21
技術公布日：2017.09.22