技術總結
本實用新型涉及一種帶有氧氣濃度自動控制的厭氧培養箱，包括厭氧培養箱本體和氧氣濃度控制裝置，所述氧氣濃度控制裝置包括上位機、PLC主控制器、氧氣傳感器、氧氣排充裝置和氧氣模擬量模塊，所述上位機、所述PLC主控制器、所述氧氣模擬量模塊依次連接，所述PLC主控制器連接所述氧氣排充裝置，所述氧氣傳感器連接所述氧氣模擬量模塊，所述氧氣模擬量模塊包括模糊控制器，所述氧氣排充裝置包括真空泵和氧氣發生器。本實用新型的有益效果在于：氧氣濃度可以全自動控制(有正壓和負壓的保護)，氧氣濃度的控制范圍：0?25％，控制精度小于±0.1％。

技術研發人員：丁達豐;郝立偉
受保護的技術使用者：上海龍躍儀器設備有限公司
文檔號碼：201620541031
技術研發日：2016.06.06
技術公布日：2016.12.28