專利名稱：制備磨料組合物的方法及其產品的制作方法
技術領域：
本發明涉及制備磨料組合物的方法，更具體的說，本發明涉及用在濕環境下在反應器后的工藝過程中實施磨料微粒粉碎來制備含有不溶于水的磨料磨光劑和潤濕劑的水性懸浮液的磨料組合物的方法，及其產品。
背景技術：
常規的潔齒劑組合物通常包括用于除去牙齒表面上各種沉積物包括表膜的磨料物質。表膜具有牢固的粘附性并且通常含有棕色或者黃色的顏料，使牙齒呈現難看的外觀。雖然清潔很重要，但是磨料也不應具有太強的侵蝕性而導致損害牙齒。理想的是，有效的潔齒劑磨料能最大程度地除去表膜，同時對硬牙齒組織的磨損和損害最小。因此，其中潔齒劑的性能和磨料磨光劑成分的關系最密切。通常，加入可流動干粉狀的磨料磨光劑或者通過在配制潔齒劑之前或者配制時制備的可流動干粉狀磨光劑的再分散來形成潔齒劑組合物。
已經使用或者說明了許多用于潔齒劑組合物的不溶于水的磨料磨光劑。這些磨料磨光劑包括天然和合成粒狀磨料。通常已知的合成磨料磨光劑包括無定形沉淀二氧化硅和二氧化硅凝膠、磷酸二鈣及其二水合物形式、焦磷酸鈣以及沉淀碳酸鈣(PCC)。其它用于潔齒劑的磨料磨光劑包括白堊、碳酸鎂、硅酸鋯、偏磷酸鉀、正磷酸鎂、磷酸三鈣等。
尤其是合成的沉淀二氧化硅由于其清潔能力、相對安全性以及和常規潔齒劑成分如潤濕劑、增稠劑、增香劑、防齲劑等的相容性，已經在潔齒劑配方中用作磨料組分。如所知的，往往通過擾動和沉淀在最初形成的初級粒子會相互結合形成許多聚集體(即初級粒子離散的集簇)但又沒有聚集成三維凝膠結構的條件下通過加入無機酸和/或酸性氣體由可溶性強堿堿金屬硅酸鹽形成的無定形二氧化硅來制備合成沉淀二氧化硅。通過過濾、洗滌以及干燥步驟從反應混合物的含水部分分離出的沉淀物，然后機械粉碎干燥產物，以提供合適的粒度。
所述二氧化硅干燥步驟通常使用噴霧干燥、噴嘴干燥(例如塔式或者噴泉式)、閃蒸干燥、轉輪式干燥、烘箱/流化床干燥等來完成，通常需要相當多的用于裝置和操作成本的經費開支。類似的問題也和其它合成磨光劑如硅膠和PCC有關。
此外，用于潔齒劑的常規磨料磨光劑需要粉碎，以降低干燥沉淀二氧化硅產物的粒度至潔齒劑在用戶的嘴中不會感到像有砂一樣，另一方面也不會太小而缺乏足夠的磨光作用。即在常規實踐中，在反應器中通過酸化金屬硅酸鹽形成的二氧化硅粒度中值對于潔齒劑應用等來說太大。為了粉碎干燥的二氧化硅顆粒，已經一次或多次使用磨碎和研磨裝置如錘式或者擺錘式研磨機，并且通過流體能量或者噴氣式研磨機進行細磨。這些額外的干燥磨碎操作增加了成本和加工時間。
U.S.專利No.3,506,757(Salzmann)說明含有在多糖膠懸浮劑的幫助下穩定懸浮在水性液體介質中的粒狀磨料的液體潔齒劑。類似地，PCT公布的申請No.WO 97/46485說明了以懸浮液形式提供的粒度中值通常為12～30微米的二氧化硅，所述懸浮液可以通過使用水膠體，尤其是所謂的多糖如黃原膠、瓜耳膠以及可溶于水的纖維素醚來穩定。U.S.專利No.5,310,543說明了含有微粒硅質磨料清潔劑的液體潔齒劑，所述潔齒劑借助多糖膠并使用基本上不含多元醇型潤濕劑的液體介質而穩定懸浮在液體介質中，以獲得滿意的流變性能。
其中，含有適當磨料粒度的流變穩定液體磨料組合物最好可以無需進行昂貴的干燥和干燥研磨/磨碎后處理來制備。
發明概述通過涉及用在濕環境下在反應器后的工藝過程中實施磨料微粒粉碎來制備含有不溶于水的磨料磨光劑和潤濕劑的水性懸浮液的磨料組合物的方法的本發明可以獲得上述及其它目的、優點和好處。
一般來說，本發明涉及制備磨料組合物的方法，該方法包括如下步驟在攪拌下將含有堿金屬硅酸鹽和酸的反應混合物加入反應容器中形成沉淀二氧化硅；形成沉淀二氧化硅之后，過濾使反應混合物部分脫水，形成濕濾餅或者壓濾餅；濕研磨所述沉淀二氧化硅，使懸浮磨料微粒達到所需的粒度中值，而不需對沉淀二氧化硅進行干燥或干研磨中間步驟；在進行濕研磨步驟之前或者之后使用潤濕劑分散所述濕研磨后的二氧化硅懸浮液。較佳的是，本發明制備的濕研磨磨料組合物具有粒度中值為1～30微米，更好是3～15微米的沉淀二氧化硅微粒。
如本發明實現這些目的的幾個實施方式，可以在真空過濾制得的濕濾餅或者壓濾制得的壓濾餅上直接進行濕研磨步驟，和在壓濾餅上進行中間流化步驟，且在對濾餅進行上述濕研磨步驟之前，無需使用中間干燥或脫水步驟，這些干燥和脫水步驟會使所述濾餅的含水量降低為低于5重量％，更適宜的是不低于20重量％。
在另一實施方式中，本發明涉及制備混有潤濕劑的磨料組合物的方法，該方法包括如下步驟往反應容器中加入含有堿金屬硅酸鹽和酸的反應混合物，并在其中混合形成沉淀二氧化硅；接著當形成沉淀二氧化硅后，通過壓濾使反應混合物部分脫水，形成壓濾餅并洗滌該壓濾餅；然后通過將潤濕劑和沉淀二氧化硅混合在壓濾餅中流化沉淀二氧化硅，形成含有潤濕劑的磨料微粒懸浮液；并將含有潤濕劑的磨料微粒懸浮液進行濕研磨，由此在懸浮磨料微粒中獲得所需粒度中值，而無需干燥和/或干研磨加工。在這一備選實施方式中，所述濕研磨是通過使用潤濕劑在壓濾餅的流化形式上進行的，而不是直接在壓濾餅本身進行的。
而且，在進行濕研磨步驟之前，所述二氧化硅懸浮液不論呈來自壓濾或真空過濾的壓濾餅或者濕濾餅形式，還是呈二氧化硅反應器下游壓濾之后的流化形式，不能脫水至含水量低于5重量％，含水量宜不低于約20重量％，且在從二氧化硅合成到磨料組合物濕研磨之間連續加工的磨料組合物中宜保持這些含水條件。
在本發明上述各種實施方式中使用的濕研磨宜通過單段或者多段過程的濕介質研磨來完成。
使用本發明，可以改良二氧化硅酸化反應的不溶于水的磨料微粒產物，使之具有適于口腔清潔組合物的必需粒度，從而不必進行干燥和研磨干二氧化硅固體。雖然此處不打算結合于任何具體理論，但是至少部分是由于避免了在常規二氧化硅微粒干燥過程中二氧化硅微粒存在的微粒聚集，可以認為本發明制備的磨料組合物的流變性能是優越的，因為還進行濕研磨，所以性能好，這里僅指出其中一部分的原因。對本文來說，二氧化硅微粒的“干燥”是指二氧化硅脫水至其通常干燥流動粉末的含水量降低至低于約10重量％的程度。因此，“干燥后”或者“干燥”磨料微粒已經進行了上述的干燥。相反，本發明方法制備的磨料組合物產品含有保留或者基本保留了反應器二氧化硅的原始結構和化學性質的未干燥的二氧化硅微粒。
而且，由于消除了微粒干燥步驟所需的時間以及設備和操作成本，可以更加經濟地實施本發明的方法。而且，本發明方法制備的磨料組合物流變穩定、抗沉降并抗重新凝聚，即使在運輸和/或儲存時和之后、最終使用之前。本發明方法制備的磨料組合物是便于使用的添加劑，用于制備口腔清潔組合物如潔齒劑、牙膏等，尤其適于用作連續牙膏制備工藝中的原料。
附圖簡要說明

圖1A是本發明生產磨料漿液組合物方法的工藝流程示意圖。
圖1B是本發明另一個生產磨料漿液組合物方法的工藝流程示意圖。
實施發明的最佳方式本發明方法所制得的磨料組合物是穩定性高、可攜帶、可儲存的、方便使用的磨料懸浮液，它們可以方便地按需要和其它成分一起配制成具有高清潔效果同時不會對牙齒組織產生不適當磨損的口腔清潔組合物。以下將更加詳細地說明本發明方法的基本和任選的步驟。
參見圖1A，說明了用于制備本發明二氧化硅懸浮液或漿液的通用工藝示意圖100A。
在工藝示意圖100A的第一步中，進行酸化反應10來沉淀二氧化硅。在裝有適當加熱裝置的反應系統中進行初始酸化反應。一般來說，在步驟10中制得的沉淀二氧化硅可以由淡水或電解質溶液、酸化工藝來制備，其中二氧化硅是通過堿金屬硅酸鹽和無機酸在水溶液中的反應而沉淀析出的。在淡水工藝中，在酸化反應期間不存在如明礬、Na2SO4或NaCl的電解質。
將一部分硅酸鈉溶液加入反應容器或者反應室中，所述反應容器包括用于攪拌容器中物質的攪拌裝置。宜往反應容器中加入約0～30％總化學計量的硅酸鈉溶液，起二氧化硅的初始核的作用。然后將容器中的硅酸鈉水溶液預熱至約60～100℃，更好約80～95℃。在將剩余的硅酸鈉加入反應容器之前，宜先將其預熱至約70～95℃。酸溶液宜預熱至約30～35℃。
雖然舉例說明了硅酸鈉，但是應理解可以使用任何合適的堿金屬硅酸鹽。術語“堿金屬硅酸鹽”包括堿金屬硅酸鹽所有常規的形式，例如，堿金屬硅酸鹽、堿金屬二硅酸鹽等。可溶于水的硅酸鉀和硅酸鈉尤其有利，且優選使用后者。應該考慮到根據其它反應參數，堿金屬硅酸鹽的摩爾比率即二氧化硅對堿金屬氧化物的比率對二氧化硅產物平均孔隙大小有影響。一般來說，本發明可以制得堿金屬硅酸鹽摩爾比率(SiO2∶Na2O)約為1.0～3.5，宜約為2.4～3.4的合格的二氧化硅產物。如本文其它地方所述，在本發明方法各種工藝步驟中加入反應容器中的堿金屬硅酸鹽溶液以堿金屬硅酸鹽溶液的總重計，通常含有8～35重量％、更好是8.0～15.0重量％的堿金屬硅酸鹽。為了將堿金屬硅酸鹽源溶液的堿金屬硅酸鹽濃度降低至上述要求的范圍，可以在將堿金屬硅酸鹽溶液加入反應器之前往堿金屬硅酸鹽源溶液中加入稀釋用水，或者在帶有攪拌混合的反應器10中加入稀釋用水，在原位和堿金屬硅酸鹽源溶液混合，用堿金屬硅酸鹽溶液配制所需的堿金屬硅酸鹽濃度。
所述酸或者酸化劑可以是路易斯酸或者布朗斯臺德酸，且宜為強無機酸如硫酸、鹽酸、硝酸、磷酸等，更好為硫酸，以它們的稀溶液加入(例如，約6～35重量％的濃度，更好是9.0～15.0重量％)。
一旦反應溶液和剩余反應物達到所需的溫度以后，開始同時加入剩余的硅酸鈉溶液和酸。在約30～90分鐘的加入時間內往反應器中計量加入硅酸鈉溶液和酸。反應物加入的速度取決于摩爾比率、加入時間和硅酸鹽濃度和酸的濃度。一般來說，2摩爾鈉和1摩爾硫酸中和。
在這共同加入(co-addition)結束時，大部分的二氧化硅已經沉淀且硅酸鈉的加入停止。繼續加入酸直到反應漿液達到所需的pH。一旦所述漿液的pH達到7.0左右，宜降低酸的流速直到所述漿液pH接近目標pH，這時可停止酸流入并手動調整使之達到目標漿液pH。優選的漿液pH約為4.0～7.0，更好是4.0～5.0，最好是4.6±0.1。此時，二氧化硅已經沉淀形成沉淀二氧化硅和反應液的混合物。一旦達到所需的漿液pH，就開始蒸煮(digestion)且反應溫度升至約85～99℃，宜為91～97℃，并且在高溫下繼續蒸煮約5～60分鐘，宜為10分鐘左右。在蒸煮步驟中加入一定的酸，用于保持恒定的pH。
在用于實施步驟10的反應器中完成蒸煮步驟并進行任何隨后的pH調整之后，排出反應批料。雖然優選上述一般方案來合成本發明調濕的沉淀二氧化硅，但是應理解在本發明實際應用中可以使用其它級別的沉淀二氧化硅，如J.Soc.Cosmet.Chem.，29，497-521(1978年8月)和Pigment handbook第一卷，Properties and Economics，2nd ed.，John Wiley & Sons，1988，第139-159頁中所定義的很小至中等結構的合成二氧化硅。
步驟10之后，在本發明的一個實施方式中，如圖1A中工藝路線“C1”所示，可以將作為反應漿液的固體含量約為2～12重量％的反應器二氧化硅懸浮液轉移到真空過濾步驟15并在之后轉移到濕研磨步驟13，這一點在下文將更加詳細地說明。在另一實施方式中，所得反應物則是通過圖1A中所示工藝路線“C2”進行加工，在步驟11中被壓濾和洗滌。所述壓濾器宜為壓濾機、板框式過濾器或者凹室板式過濾器。過濾所述反應物并用水洗滌，將Na2SO4含量降至5重量％以下，宜低于2重量％(例如，0.5～1.5重量％)。所得壓濾餅通常含有約30～70重量％固體含量。若需要的話，可以調節洗滌后濾餅的pH。
在進行工藝路線C2中步驟11的過濾和洗滌之后，所述含有約30～70重量％固體的壓濾餅可以用少量的水重新變成漿液或者在步驟12中通過高剪切進行流化。一般來說，施加的剪切力越高，步驟12中流化需要的水量就越低，反之亦然。例如，可以使用Cowles W.24x型或者Motoregler Dispermat CV高剪切混合器，用水來流化所述壓濾餅。值得提醒的是，由于本發明的磨料組合物將會用于口腔清潔組合物，所以尤其存在能用于促進流化沉淀二氧化硅濾餅的某些常規分散助劑如聚丙烯酸類，由于上述原因是不可接受的。流化過程中剪切攪拌的使用彌補了這種分散助劑的不存在。同時，發現在任何情況下并不是必須存在那些類型的有機分散劑即聚丙烯酸類來成功實施本發明步驟13中所用的濕研磨操作。
如圖1A和1B中一般所示的步驟13，然后將通過工藝路線C1從真空過濾步驟15直接獲得的濕濾餅，或者通過至少包括步驟11和步驟12的工藝路線C2從壓濾機獲得的壓濾餅，或者通過至少包括步驟11和步驟14B(如下所述)的工藝路線C3從壓濾機獲得的壓濾餅進行濕研磨步驟，降低所述沉淀二氧化硅微粒的粒度中值至適于口腔清潔組合物用的各值。
由于從步驟10中的反應器排出的磨料懸浮液中的二氧化硅微粒通常其粒度中值(MPS)大于約50至100微米，更加常見的是約65～85微米。這些粒度對如口腔清潔組合物應用來說是不合格的。即，需要更小的磨料微粒，使所述微粒對用戶來說在質地上不含砂粒，但是所述微粒必須足夠大以在牙齒上提供必需的磨光作用。對口腔清潔組合物來說，通常需要約1～30微米之間的二氧化硅粒度，且在本發明中優選約3～15微米的粒度中值。
為了在步驟13中磨碎所述磨料微粒(通常是團聚體)，可將通過工藝路線C1獲得的濕濾餅，或者通過工藝路線C2或C3獲得的流化壓濾餅加入濕介質研磨機中。在進行步驟13中的濕研磨之前無需往濾餅中外加有機分散劑。在步驟13中可以使用單段濕介質研磨或者多段濕介質研磨。例如，在一個實施方式中，所述多段濕介質研磨工段包括兩個或者多個獨立的研磨機，在其中所述濾餅進行連續加工。或者，所述多段濕介質研磨工段可以包括單個研磨機，在其中使用循環裝置將所述濾餅多次加入通過所述單個研磨機中。在多段研磨中各研磨段或者多次形式中通過單個研磨機進行的各次中消耗在進料濾餅中的能量通常保持近似相同，雖然這一步驟并不是必需的。多段濕介質研磨允許更長的停留時間。
在上述多段研磨工段中用作一個或多個研磨機的濕介質研磨機類型可以各為球磨機、立式濕介質研磨機、臥式濕介質研磨機等。在本發明實踐中優選使用的濕介質研磨機類型是由Draiswerke，Inc.，Mahway，NJ.制造的Drais研磨機。所述Drais研磨機是立式介質研磨機。所用的研磨介質宜為陶瓷小珠，例如，大小為1～3毫米的氧化鋯小珠，以約40～80體積％加入研磨機中。
為了達到本發明無需進行干燥和干研磨步驟而降低二氧化硅粒度的目的，在濕研磨過程中加在濕濾餅或流化壓濾餅上的剪切力總量應足以將粒度中值(MPS)降至約1～30微米，宜約為1～25微米，更好是約為3～15微米。濕研磨磨料組合物中的磨料微粒具有低于1.5重量％+325目大小的微粒。
當通過工藝路線C1或C2(圖1A)進行加工時，必須在攪拌下以本文所述的量加入的本文所述類型的潤濕劑(步驟14A)來再次流化研磨物質。對圖1A中的步驟14A(或圖1B中的步驟14B)，以總漿液重量計，以約3～80重量％、宜約為5～60重量％、更好約為20～50重量％且甚至可以低于30重量％(例如，3～＜30重量％)的量加入潤濕劑。所述濕潤劑宜為多元醇，如甘油、山梨糖醇、聚乙二醇、聚丙二醇、氫化淀粉水解產物、木糖醇、乳糖醇和氫化玉米糖漿，它們可以單獨使用或者作為其混合物使用。優選使用甘油和山梨糖醇，它們可以單獨使用或者混合使用。甘油容易以99.5重量％溶液獲得，而山梨糖醇通常可以以70重量％固體的水溶液購得。從功能上說，術語潤濕劑一般理解為是指通過摻有它的組合物幫助并確保水分保留，以防止將組合物暴露在空氣中時所述組合物變干的化合物。宜在高剪切混合器中進行潤濕劑和二氧化硅的混合，如通過將濕濾餅加入含有規定量潤濕劑的混合槽中，然后進行混合。關于這一點，有用的混合器例子為Cowles W.24x型高剪切混合器、Motoregler Dispermat CV高剪切混合器或者從Hockmeyer Equipment Company購得的Hockmeyer Lab 2型分散器。
或者，根據工藝路線C3制得的步驟13的研磨磨料懸浮液產品可以用作圖1B的步驟17B中所示的成品，而無需在將所述磨料組合物加入到口腔清潔組合物之前再進行所述組合物需要的任何加工工藝。即，在顯示為圖1B工藝路線C3的另一本發明替換工藝路線中，包括上述用于圖1A中工藝路線C2的工藝步驟10和11，但是之后是不同的步驟14B(代替步驟12)，在進行步驟13中的濕研磨操作之前(代替之后)，用潤濕劑流化步驟11中洗滌后的壓濾餅。在工藝路線C3中，宜在強烈攪拌下將潤濕劑和所述壓濾餅混合，所述潤濕劑宜為以和上述步驟14A相同的加入量范圍加入的相同多元醇類型潤濕劑(即，以總漿液重量計，約3～80重量％、宜約為5～60重量％、更好約為20～50重量％且甚至可以低于30重量％(例如，3～＜30重量％)的潤濕劑)，然后在步驟13中球磨所述物質，直到漿液+325目殘留含量低于1.5％(以干二氧化硅重量計)，形成含有潤濕劑的磨料微粒懸浮液或者漿液，所述潤濕劑具有抗沉降的類似于“膠凝化”的流變性能。和步驟14A類似，在步驟14B中所述二氧化硅和潤濕劑的混合宜在高剪切混合器中進行，如通過將壓濾餅加入含有規定量潤濕劑的混合槽中，然后進行混合。用于進行這種高剪切攪拌的有用混合器例子為CowlesW.24x型高剪切混合器或者步驟14A中所述的其它混合器。使用潤濕劑進行的流化提供在液體介質(載體)中基本上均勻、徹底的分散和二氧化硅微粒分布。
圖1B中所用的濕研磨步驟13在和本文所述用于圖1A工藝示意圖的步驟13相同的一般條件下進行。
來自工藝流程路線C3的磨料懸浮液通常含有約10～60重量％的磨料微粒，約3～80重量％的潤濕劑和約5～50重量％的水(宜為5～30重量％的水)。來自工藝流程路線C1和C2步驟14A的漿液一般組成相同。
在圖1A或圖1B中供選擇的步驟16中，若需要的話，可以加入來自單獨工藝的干沉淀二氧化硅，來提高漿液中的固體含量。在任何時候，可以用管道輸送、裝車輸送或者儲存圖1A所示步驟14A或16(若使用的話)、或者圖1B所示步驟13或16(若使用的話)中任一步驟獲得的成品磨料懸浮液或者漿液，直到需要用于隨后的應用，如制備潔齒劑或其它口腔清潔組合物。關于這一點，磨料顆粒的水性懸浮液一般將與額外的水、所需額外潤濕劑、粘合劑、提供氟離子的化合物、增香劑、著色劑、增白劑、防腐劑、防牙菌斑(anti-plaque)化合物、發泡劑和抗微生物劑中的至少一種混合。
本發明制得的磨料懸浮液17B或17A在25℃下使用帶T-F紡錘體的BrookfieldRVDV II粘度計在Helipath臺上以5.0轉/分鐘的轉速測得的粘度通常約為100～700,000厘泊，在約25℃下儲存3個星期后固體沉降率低于30重量％。所得磨料懸浮液也具有優良的粘度增加性能。即，本發明的磨料組合物具有有利的粘度增加性能，因為其性能足夠高以降低對常用于潔齒制劑和其它相關最終用途的增稠劑或者粘合劑的要求，但不要高得由于在加入時反而導致粘度增大過快而對有用的二氧化硅負載含量有不利的影響。
不論是將本發明待濕研磨的沉淀二氧化硅作為濕濾餅直接加入還是使用剪切力或者相對少量的與壓濾餅混合的多元醇潤濕劑或者水預流化壓濾餅，已經用實驗方法觀察了任何這些路線通過在濕研磨操作之前或者之后加入潤濕劑來生產保留高流變穩定性和抗沉降性的磨料漿液或者懸浮液。而且在濕研磨操作之后，所述濕研磨產物漿液也不會出現二氧化硅明顯重新團聚成更大的粒度。因此，在這一工藝階段即在路線C1或C2的經步驟14A加入潤濕劑之后或者路線C3的經步驟13濕研磨之后形成的磨料組合物很穩定且微粒大小合適，使之可攜帶、可儲存，而且可以按需要用作更多復合制劑如潔齒劑和其它液體口腔清潔組合物的即用多組分添加劑。
所得磨料組合物的高抗沉降性也可以避免在最終使用前加入臨時穩定劑如無機懸浮劑(例如，粘土、熱解法二氧化硅)或者有機粘合劑(例如，多糖)。在本發明磨料組合物17中不宜存在多糖粘合劑，或者至多為極小量，即若有的話，在磨料組合物中存在低于0.20重量％的多糖，且更好是低于0.05重量％的多糖。所述多糖粘合劑包括水溶性纖維素醚、瓜耳膠和黃原膠等，這些粘合劑材料不需要進行流變穩定并在本發明磨料組合物中提供足夠的粘度增加性能。當本發明的磨料組合物最終和其它必需的原料如增稠劑、液體介質、氟化物、抑制牙結石化合物等混合形成潔齒劑或其它口腔清潔組合物時，已觀察到所述粘合劑可以和本發明磨料組合物和其它潔齒成分如增稠劑和液體介質混合，同時不會對流變性或者二氧化硅沉降性能產生不利影響。
任選地可以在作為工藝路線C1或C2一部分的步驟14A中在攪拌下將防腐劑如抗微生物劑(即，抗菌劑和/或防霉劑)加入研磨后濕濾餅中，或者在作為工藝路線C3一部分的步驟14B中在攪拌下將其加入用潤濕劑流化的沉淀二氧化硅壓濾餅中。關于這一點，所述防腐劑可以選自例如苯甲酸鈉、焦磷酸四鈉、對羥基苯甲酸丙酯和對羥基苯甲酸甲酯(對羥苯甲酸甲酯)。防腐劑足以防止微生物生長的有效量以成品牙膏重量計低于約0.5重量％。以這些量使用的防腐劑不會影響磨料組合物的有利流變性能。
本發明重要的方面是步驟17A(圖1A)或者步驟17B(圖1B)形成的研磨磨料微粒的水性懸浮液可以持續保持在至少5重量％的總液體含量，宜至少為20重量％，直到將所述磨料微粒的水性懸浮液加入到潔齒劑組合物或其它口腔清潔組合物中且無需干燥二氧化硅或者進行干研磨的另外步驟。從二氧化硅合成到將其加入到口腔清潔組合物無需干燥或者干研磨沉淀二氧化硅。雖然此處不打算結合任何具體理論，但是認為干燥和干研磨工藝會以不可預料甚至不利的方式影響二氧化硅微粒的表面和化學性質。本發明避免了這些干燥和干研磨的影響。
上述磨料組合物中形成的二氧化硅宜稱為合成水合無定形二氧化硅，已知為二氧化硅或者SiO2。如J.Soc.Cosmet.Chem.，29，497-521(1978年8月)和Pigment handbook第一卷，Properties and Economics，2nd ed.，John Wiley&Sons，1988，第139-159頁中所定義的，這些沉淀二氧化硅可以認為是很小至中間結構的合成二氧化硅。
除了上述步驟10在反應器中沉淀粗的合成無定形二氧化硅的方法以外，粗二氧化硅的制備并不局限于此，它通常也可以以例如在先美國專利Nos.3,893,840、3,988,162、4,067,746、4,340,583和5,225,177中所述的方法來完成，只要增加至少在本發明方法的步驟13中所用的后加工處理，適當改進這些方法即可，上述專利參考結合于此。如本領域技術人員可以理解的，影響所得沉淀二氧化硅特性的反應參數包括各種反應物加入的速度和時間、各種反應物的濃度水平、反應pH、反應溫度和/或加入任何電解質的速度。
本發明磨料組合物中所得到的沉淀二氧化硅通常具有以下的性質10％Brass Einlehner硬度值為0.5-30，亞麻油吸收量約為40～200毫升/100克，RDA(放射性牙質磨耗)值約為30～200且PCR(表膜清潔率)值為50～200。
雖然本文已經說明了由本發明制造的磨料組合物形成的作為磨料拋光劑組分的二氧化硅，但是應理解本發明的原理也適用于其它可在反應器中合成的不溶于水的磨料顆粒的懸浮液或者漿液，無需任何插入的干燥或干研磨步驟。其它這種不溶于水的顆粒包括例如硅膠、磷酸二鈣及其衍生物形式、焦磷酸鈣和沉淀碳酸鈣(PCC)。
在任何時候，可用管道輸送、裝車輸送或者儲存圖1A和圖1B所示步驟17A和17B獲得的成品磨料懸浮液或者漿液，直到需要用于隨后的應用，如制備潔齒劑或其它口腔清潔組合物。關于這一點，磨料顆粒的水性懸浮液一般將與額外的水、所需額外潤濕劑、粘合劑、提供氟離子的化合物、增香劑、著色劑、增白劑、防腐劑、防牙菌斑(anti-plaque)化合物、發泡劑和抗微生物劑中的至少一種混合。
本文和/或例如再頒的29,634、美國專利Nos.5,676,932、6,074,629和5,658,553以及本文引用的專利說明了使用這些任選潔齒劑成分的實例，以上均參考結合于此。若使用的話，這些任選成分可以以潔齒劑配方中常見的含量使用。
上述二氧化硅懸浮液產物(附圖中步驟17A和17B的產物)的沉淀二氧化硅組分當加入潔齒劑組合物中時，其含量約為10～50重量％，當所述潔齒劑為牙膏時，更好約為10～35重量％。加入本發明磨料組合物的全部潔齒劑或者口腔清潔制劑一般含有以下可能的成分以及它們的相對量(所有量均以重量％表示)潔齒劑配方成分用量液體介質潤濕劑(總共) 5-70去離子水 5-70粘合劑0.5-2.0防齲劑0.1-2.0螯合劑0.4-10二氧化硅增稠劑3-15陰離子表面活性劑 0.5-2.5磨料 10-50脫臭劑＜1.0著色劑＜1.0增香劑＜5.0防腐劑＜0.5有用的二氧化硅增稠劑包括如無定形沉淀二氧化硅如Zeodent165二氧化硅。其它優選的二氧化硅增稠劑是Zeodent163和Zeofree153二氧化硅，這些均可以從J.M.Huber Corporation，Havre de Grace Maryland，U.S.A.購得。
實施例以下實施例用于說明本發明，但是本發明并不受這些實施例的限制。在以下實施例中，除另有說明外，所述份數均指重量份。
實施例1按如下所述在反應器中制備一系列沉淀二氧化硅批料，之后進行以下所述的特定過濾(在所有情況下)、流化(在某些情況下)以及濕研磨(在所有情況下)，且無需進行任何干燥或干研磨，來觀察所施加的后處理步驟的影響。
按如下所述制備8個沉淀二氧化硅單獨批料往400加侖裝有蒸汽加熱用夾套的不銹鋼反應器中加入61.4升(L)硅酸鈉(13.3％Na2O，SiO2∶Na2O的摩爾比為2.65；比重為1.123)。將置于反應器內部的A200Lightin攪拌器設定為80rpm。將反應介質預熱至85℃，并在反應過程中保持這一溫度。然后，同時往反應系統中加入酸流和硅酸鹽流，并持續一給定時間。以12.25升/分鐘的速度將預熱至85℃、具有上述相同濃度/組成的稀硅酸鈉加入反應器中，與此同時，以5.46升/分鐘的速度(酸起始速度較慢為1升/分鐘)將稀硫酸(11.4重量％，SG＝1.079，39℃)加入反應器中。共同加入48分鐘后停止加入硅酸鹽流。以5.46升/分鐘的速度繼續加入酸流，直到批料pH降至4.6。這時，停止加入酸流。然后，所述批料在93℃下蒸煮10分鐘，需要時，在整個蒸煮過程中，可將pH往4.6回調。蒸煮之后，將pH手動調至4.6±0.1pH，并排出所述批料。將所述批料旋轉真空過濾并洗滌至硅酸鈉低于約2％。
這一階段所有8個濕濾餅二氧化硅批料的粒度中值為71微米，+325目殘留物重量％約為62重量％，且濕濾餅固體含量為34±1重量％。
編號標為1、2和3的濕濾餅批料如下所述直接進行三種各不相同的濕研磨方案。
往具有5.6升研磨室、型號為PM5的立式Drais研磨機中加入3.45升大小為1.2～2.0毫米、比重為3.7的氧化鋯介質小珠。用泵加入編號1的二氧化硅濕濾餅批料1，使之以1.1升/分鐘的流速經過球磨機，此時所述球磨機的轉速設定為1590rpm。在相同的研磨條件下用泵加入編號1的二氧化硅濕濾餅批料2，使之以0.6升/分鐘的流速經過球磨機。用泵加入編號1的二氧化硅濕濾餅批料3，使之以2.5升/分鐘的流速經過球磨機三次。用泵加入編號1的二氧化硅濕濾餅批料4，使之以1.0升/分鐘的流速經過球磨機兩次。結果，各批料1-4漿液中濕研磨二氧化硅微粒的粒度中值和+325目殘留物％總結在下表1中。
對編號2的單獨批料5和6，將真空過濾器獲得的濕濾餅用泵加入壓濾機中，在板框式過濾器上在90psi下進行脫水。所得壓濾餅固體含量約為50重量％。然后通過混合100磅。50％的固體濾餅和100磅。山梨糖醇(70％)分別流化這些批料，形成二氧化硅∶水∶山梨糖醇組成為1∶1∶2的漿液。使用CowlesW.24x型高剪切分散器來達到壓濾餅和山梨糖醇潤濕劑的混合。
然后，所述這三個流化二氧化硅壓濾餅分別進行濕研磨，其中所述研磨條件除所述漿液各含有25重量％二氧化硅外和上述用于編號1的條件相同。對批料5和6來說，流經研磨機的漿液進料流速為2.5升/分鐘。批料5的流化漿液循環/經過所述研磨機累計兩次，而批料6的流化漿液只經過研磨機一次。在下表1中總結了編號2中批料5和6各漿液中濕研磨二氧化硅微粒的粒度中值和+325目殘留物％的結果。
對編號3的單獨批料7和8，將真空過濾器獲得的濕濾餅用泵加入壓濾機中，在板框式過濾器上在90psi下進行脫水。所得壓濾餅固體含量約為50重量％。然后通過混合2141.3克50％的固體壓濾餅和699.7克山梨糖醇(70％)分別流化這些批料，形成二氧化硅∶水∶山梨糖醇為1.5∶1.5∶1的組合物。使用Hockmeyer Lab 2型混合器來達到壓濾餅和山梨糖醇潤濕劑的混合。
然后，所述這兩個流化二氧化硅壓濾餅分別進行濕研磨。將1.2升大小為0.6～1.0毫米、比重為3.7的氧化鋯介質小珠加入具有1.5升研磨室、型號為HML-1.5的第一球磨機。所述球磨機的速度設定為1000英尺/分鐘。將編號3批料7的流化壓濾餅用泵加入，使之以0.26升/分鐘的流速經過球磨機。將編號3批料8的流化壓濾餅用泵加入，使之以0.63升/分鐘的流速經過球磨機。
在下表1中總結了編號3中批料7和8各漿液中濕研磨二氧化硅微粒的粒度中值和+325目殘留物％的結果。
對于批料9，往400加侖裝有蒸汽加熱用夾套的不銹鋼反應器中加入24.8升(L)硅酸鈉(13.3％Na2O，SiO2∶Na2O的摩爾比為2.65；比重為1.123)和1.78千克Na2SO4。將置于反應器內部的A200 Lightin攪拌器設定為60rpm。將反應介質預熱至93℃，在反應過程中保持這一溫度。然后，同時往反應系統中加入酸流和硅酸鹽流，并持續一給定時間。以13.00升/分鐘的速度將預熱至88℃、具有上述相同濃度/組成的稀硅酸鈉加入反應容器中，與此同時，以4.74升/分鐘的速度(酸起始速度較慢為1升/分鐘)將稀硫酸(11.4重量％，SG＝1.079，39℃)加入反應器中。共同加入47分鐘后停止加入硅酸鹽流。以4.74升/分鐘的速度繼續加入酸流，直到批料pH降至7.0。當批料pH為7.0時，將酸流降低至1.5升/分鐘，繼續加入酸直到pH接近4.6，當所述酸流接近4.6時，手動調整到4.6±0.1pH。然后，所述批料在98℃下蒸煮10分鐘，需要時，在整個蒸煮過程中可將pH往4.6回調。蒸煮之后，將pH手動調至4.6±0.1pH，排出并攪拌1/2的批料，然后用泵加到壓濾機中，在板框式過濾器上過濾。在40psi下對所述批料進行脫水，洗滌除去大部分(至＜2.0％)的反應副產物(硫酸鈉)。所得壓濾餅的固體含量為52.35重量％，粒度中值為69.5微米，+325殘留物重量％為56.73重量％。
然后通過混合3031.2克52.35重量％固體壓濾餅和968.8克甘油(99.5％)流化所述批料，形成二氧化硅∶水∶甘油組成為1.65∶1.5∶1的漿液。使用Hockmeyer Lab 2型混合器來達到壓濾餅和山梨糖醇潤濕劑的混合。
然后，所述流化漿液進行濕研磨。將1.2升大小為0.6～1.0毫米、比重為3.7的氧化鋯介質小珠加入具有1.5升研磨室、型號為HML-1.5的第一球磨機。所述球磨機的速度設定為2000英尺/分鐘，將編號4批料9的流化二氧化硅漿液用泵加入，使之以0.3升/分鐘的流速經過球磨機。
為進行比較，將上述制備的批料9的另外1/2批料在約480℃的進口溫度下噴霧干燥至含濕量為7.0重量％。
在下表1中，和編號1的批料1～4、編號2的批料5～6以及編號3的批料7～8一起，總結了編號4中批料9漿液中濕研磨二氧化硅微粒的粒度中值和+325目殘留物％的結果。
表1

以下測量本文所述的二氧化硅性能。
用于本發明潔齒劑組合物的沉淀二氧化硅具有使用Microtrac II裝置(Leeds and Northrup制造)所測得的粒度中值。
使用開孔為44微米或者0.0017英寸的美國標準篩No.325(不銹鋼絲布)，通過稱量10.0克樣品精確至0.1克，并將其加入1夸脫Hamilton No.30型混合器的杯子中，加入將近170毫升的蒸餾水或者去離子水，并攪拌該漿液至少7分鐘來測量325目殘留物(+325)。將此混合物轉移到325目的過濾網上，洗滌所述杯子并將洗滌液加入過濾網上。將噴水調至20psi并直接噴向過濾網2分鐘。(噴頭應置于濾網上方約4～6英寸處。)清洗過濾網一側的殘留物并通過使用蒸餾水或去離子水清洗將殘留物轉移到蒸發皿。當靜置所述殘留物2～3分鐘之后，輕輕倒出干凈的水。將殘留物干燥(對流烘箱@150℃中約15分鐘)，冷卻并用分析天平稱重。
實施例2使用本發明批料3的二氧化硅濕濾餅、批料5和9的流化壓濾餅制備牙膏制劑。為了進行比較，使用噴霧干燥并研磨的批料3濕濾餅和批料9壓濾餅制備對比牙膏制劑，分別標為“3C”和“9C”。在對比樣品中所用的噴霧干燥包括使用進口溫度為480℃的霧化干燥裝置將濕濾餅干燥至7.0±1％的水。然后所述對比二氧化硅噴霧干燥的樣品用錘粉碎至8-14微米。在下表2A中給出了這些產品的性能。
表2A

制備牙膏制劑來證明本發明磨料漿液組合物便于一經要求即可使用的能力，按下表2B中所述的量使用甘油或者山梨糖醇如上所述流化一部分二氧化硅濕濾餅3、流化壓濾餅5和9，之后使用這些流化二氧化硅濕濾餅如下表2C所述配制潔齒劑。為了進行比較，分開將上述干燥和研磨二氧化硅部分加入到牙膏制劑中。這些潔齒劑制劑的性能列于下表2D中。
為了制備潔齒劑，進行如下步驟。將和通過磨料-潤濕劑懸浮液加入的潤濕劑量混合來獲得潔齒劑所需的潤濕劑總量的附加的潤濕劑(甘油、山梨糖醇)、羧甲基纖維素鈉鹽、聚乙二醇混合在一起，形成第一種混合物。將其量不包括在磨料-潤濕劑懸浮液中的去離子水、氟化鈉、焦磷酸四鈉和糖精鈉鹽也混合在一起，直到這些成分溶解形成第二種混合物。將這兩種混合物攪拌混合。之后，任選地加入著色劑并用Lightnin混合器攪拌該混合物，制得“預混物”。
將所述“預混物”置于Ross混合器(130LDM型)中，加入磨料-潤濕劑懸浮液、二氧化硅增稠劑和任意所需的TiO2并且不在真空下進行混合。然后降低30英寸的真空度，并攪拌所得混合物約15分鐘。最后，加入十二烷基硫酸鈉和增香劑并以較低的攪拌速度混合所述混合物約5分鐘。
將所得潔齒劑組合物密封在牙膏管中，保持在合適的條件下供以后試驗用。所述組合物的PH值約為7。
表2B漿液組分組成

表2C

CMC-7MXF是羧甲基纖維素，購自Aqualon，division of HerculesCorporation，Wilmington，DE.
表2D

用本發明二氧化硅漿液組合物制得的牙膏具有良好的粘度和美學性能。
除另有說明外，如下所述測量本文所述的二氧化硅、二氧化硅漿液和牙膏的性能。
本申請中所述用于測量沉淀二氧化硅硬度的Brass Einlehner(BE)磨損性試驗包括Einlehner AT-1000磨耗試驗機，通常如下所述進行使用(1)稱量長網黃銅絲過濾網的重量，并置于10％水性二氧化硅懸浮液中一固定時間；(2)然后以每100,000轉從長網黃銅絲過濾網上損失的黃銅的毫克數來確定磨損量。以毫克損失為單位所測得的結果可稱為10％brass Einlehner(BE)磨損值。
使用rubout方法測量吸油值。這方法是根據通過使用刮刀在光滑表面揉搓直到形成類似于油灰狀的稠膏體，將亞麻油和二氧化硅混合的原理。通過測量獲得鋪開時會卷起的膏狀混合物所需的油的量，可以計算二氧化硅的吸油值，該值表示為飽和二氧化硅的吸收能力，每單位重量的二氧化硅所需油的體積。所述吸油值的計算如下吸油＝所吸收的油的毫升數/二氧化硅的重量(克)×100＝油的毫升數/100克二氧化硅用Brunaur等，J.Am.Chem.Soc.，60，309(1938)所述BET氮氣吸收方法測定本文所述沉淀二氧化硅的表面積。
為了測量白度，將細粉末材料壓成光滑表面的小片，并使用TechnidyneBrightmeter S-5/BC進行評價。這種儀器具有雙光束光學系統，在該系統中以45°的角度照射所述樣品，并在0°角觀察反射光。它依照TAPPI試驗方法T452和T646，以及ASTM標準D985。以足夠的壓力將粉末狀材料壓成約1厘米厚的小片，提供光滑且平的小片，同時不存在疏松的顆粒或光澤。
使用Micromeritics AutoporeII 9220裝置通過水銀孔隙率測定法測量所述總孔隙容積(Hg)。取接觸角(θ)為130°、表面張力γ為484達因/厘米，通過Washburn方程式來計算空隙直徑。這種儀器測量各種材料的空隙容積和孔徑分布。在壓力作用下，迫使水銀進入所述空隙，并計算各壓力設定值下每克樣品被侵入的水銀體積。本文所示的總孔隙容積表示在真空到60,000psi的壓力下侵入的水銀的累加體積。將各壓力設定值下的體積增量(厘米3/克)對壓力設定增量相應的孔隙半徑或者直徑作圖。侵入的體積對孔隙半徑或者直徑的曲線中的峰對應孔徑分布的模式，并確定樣品中最普遍孔徑。具體地說，調節樣品的大小至在具有5毫升小球和約1.1毫升桿體積的粉末穿透計中獲得30～50％的桿體積。將樣品排空至50微米汞柱壓力并維持5分鐘。在約150個的數據收集點的各點處從1.5～60,000psi以10秒平衡時間將水銀充入空隙中。
通過二氧化硅表面上CTAB(十六烷基三甲基溴化銨)的吸收，過量部分用離心方法分離并通過使用表面活性劑電極，用十二烷基硫酸鈉進行滴定來測定二氧化硅的CTAB的外表面積。所述二氧化硅的外表面由吸收的CTAB量(分析吸收前和吸收后的CTAB)來確定。具體地說，將約0.5克二氧化硅置于250毫升裝有100.00毫升CTAB溶液(5.5克/升)的燒杯中，并在電攪拌盤上攪拌1小時，然后以10,000rpm的轉速離心30分鐘。往100毫升燒杯中的5毫升透明上層清液中加入1毫升10％Triton X-100。用0.1N HCl將其pH調至3.0～3.5，并用0.0100M的十二烷基硫酸鈉滴定所述樣品，使用表面活性劑電極(BrinkmanSUR1501-DL)來確定滴定終點。
水分是所測樣品在105℃下2小時的重量損失。本發明提到的反應混合物(5重量％漿液)的pH值可以由常規pH敏感電極來監控。
牙膏的粘度測量如下使用裝有Helipath臺并帶有紡綞體(Spindle)的Brookfield RVT型粘度計，轉速設定為5轉/分鐘，在25℃下當紡錘體下落通過牙膏試樣時在三個不同的高度處測量牙膏的粘度，并取結果的平均值。Brookfield粘度以厘泊(cP)表示。
使用Gardner XL-835比色計來測量牙膏的顏色(L，aL，bL)。具體地說，在平表面上放置兩塊38×75×1毫米的顯微鏡載玻片。在所述一塊載玻片上放置有機玻璃墊板(38×75×3毫米厚，帶有24×47毫米切掉的敞開部分)。將牙膏擠到有機玻璃墊板的敞開區中，并以足夠的壓力(用手)將第二塊顯微鏡載玻片壓在墊板的上部，除去過多的空氣和牙膏。將所述載玻片置于比色計背孔上，在不同樣品墊板位置處獲得三個讀出值并進行平均。所述樣品不應具有可見的氣泡。
應該理解，為解釋本發明的性質，在不背離以下權利要求書所述的本發明的原理和范圍的條件下，本領域技術人員可以對本文所述和例舉的部件細節、材料和配置進行各種改變。
權利要求
1.制備磨料漿液組合物的方法，該方法包括如下步驟往反應容器中加入含有反應物的反應混合物，用于形成不溶于水的磨料微粒；濕研磨所述磨料微粒；并在所述濕研磨之前或之后，通過在攪拌下將潤濕劑和磨料微?；旌蟻砹骰チ衔⒘＃纬赡チ蠞{液組合物。
2.權利要求1所述的方法，其特征在于所述磨料微粒是選自沉淀二氧化硅、硅膠、磷酸二鈣、焦磷酸鈣和沉淀碳酸鈣(PCC)中的磨光劑。
3.權利要求1所述的方法，其特征在于所述磨料微粒含有粒度中值約為1～30微米的許多沉淀二氧化硅微粒。
4.權利要求1所述的方法，其特征在于該方法還包括在所述濕研磨步驟之前，真空過濾所述反應混合物形成磨料微粒濕濾餅的附加步驟，并且所述流化步驟是在濕研磨所述濕濾餅之后進行的。
5.制備磨料漿液組合物的方法，該方法包括如下步驟往反應容器中加入含有堿金屬硅酸鹽和酸的反應混合物，并將其混合形成沉淀二氧化硅微粒；當形成沉淀二氧化硅微粒后，通過過濾將反應混合物部分脫水，形成濾餅；通過在有效攪拌下混合水和沉淀二氧化硅微粒，流化壓濾餅中的沉淀二氧化硅微粒，形成沉淀二氧化硅微粒水性懸浮液；濕研磨沉淀二氧化硅微粒水性懸浮液；通過在有效攪拌下混合潤濕劑和所述沉淀二氧化硅微粒，再次流化沉淀二氧化硅微粒，形成沉淀二氧化硅微粒懸浮液。
6.權利要求5所述的方法，其特征在于所述濕研磨步驟是在無需對沉淀二氧化硅進行任何會使其含水量降低到低于20重量％的預先干燥的條件下進行的。
7.權利要求5所述的方法，其特征在于所述濕研磨步驟包括濕介質研磨。
8.權利要求5所述的方法，其特征在于所述磨料漿液組合物含有粒度中值約為1～30微米的許多沉淀二氧化硅微粒。
9.權利要求5所述的方法，其特征在于所述磨料漿液組合物含有粒度中值約為3～15微米的許多沉淀二氧化硅微粒。
10.權利要求5所述的方法，其特征在于該方法還包括將磨料組合物與另外的水、粘合劑、提供氟離子的化合物、增香劑、著色劑、增白劑、防腐劑、抑制牙結石化合物、發泡劑和抗微生物劑中的至少一種混合的步驟。
11.制備磨料漿液組合物的方法，該方法包括如下步驟往反應容器中加入含有堿金屬硅酸鹽和酸的反應混合物，并將其混合形成沉淀二氧化硅微粒；當形成沉淀二氧化硅微粒后，通過過濾將反應混合物部分脫水，形成濾餅；通過在有效攪拌下混合潤濕劑和沉淀二氧化硅，流化壓濾餅中的沉淀二氧化硅，形成含有潤濕劑的沉淀微粒懸浮液；濕研磨所述含有潤濕劑的沉淀微粒懸浮液，形成磨料漿液組合物。
12.權利要求11所述的方法，其特征在于所述潤濕劑以約20～50重量％的量存在于磨料漿液組合物中。
13.權利要求11所述的方法，其特征在于所述潤濕劑為多元醇。
14.權利要求11所述的方法，其特征在于所述潤濕劑選自單獨使用或者作為混合物使用的甘油、山梨糖醇、聚乙二醇、聚丙二醇、氫化淀粉水解產物、木糖醇、乳糖醇和氫化玉米糖漿。
15.權利要求11所述的方法，其特征在于該方法還包括在所述濕研磨步驟之前或者之后，在攪拌下往沉淀二氧化硅微粒懸浮液中加入防腐劑。
16.權利要求15所述的方法，其特征在于所述防腐劑選自苯甲酸鈉、焦磷酸四鈉、對羥基苯甲酸丙酯和對羥基-苯甲酸甲酯(對羥苯甲酸甲酯)。
17.權利要求11所述的方法，其特征在于該方法還包括在所述分離步驟之后直到將所述沉淀二氧化硅微粒的懸浮液加入到潔齒劑組合物中的另一步驟，繼續保持沉淀二氧化硅微粒液體懸浮液中的總含液量至少為20重量％。
18.權利要求11所述的方法，其特征在于該方法還包括將沉淀微粒懸浮液與另外的水、粘合劑、提供氟離子的化合物、增香劑、著色劑、增白劑、防腐劑、抑制牙結石化合物、發泡劑和抗微生物劑中的至少一種混合的步驟。
19.權利要求11所述的方法，其特征在于所述濕研磨包括在加入潤濕劑之后以及在將沉淀二氧化硅微粒懸浮液加入到潔齒劑組合物中之前進行的沉淀二氧化硅微粒懸浮液的濕介質研磨。
20.權利要求11所述的方法，其特征在于所述過濾通過壓濾來進行。
21.由權利要求1所述方法制備的磨料組合物產品。
22.由權利要求5所述方法制備的磨料組合物產品。
23.由權利要求11所述方法制備的磨料組合物產品。
全文摘要
制備磨料組合物的方法及其產品，所述組合物包含結合使用濕研磨而懸浮在水性介質中的不溶于水的磨料磨光劑。該方法所制得的磨料組合物含有無需干燥或者干研磨所提供的大小合適的磨料微粒，同時也提供流變穩定、抗沉降并抗重新凝聚的磨料組合物，即使在運輸和/或儲存時和之后、最終使用如加入到潔齒劑制劑或者其它口腔清潔組合物中之前。
文檔編號C09C1/68GK1466618SQ01816200
公開日2004年1月7日 申請日期2001年7月25日 優先權日2000年8月18日
發明者Y·H·黃, P·D·邁克基爾, M·J·馬丁, M·R·阿培廉, Y H 黃, 邁克基爾, 阿培廉, 馬丁 申請人:J·M·休伯有限公司, J M 休伯有限公司