專利名稱：用于燒結燒結料的設備和方法
技術領域：
本發明涉及用于燒結燒結料的設備，包括具有作為第一內腔的容納燒結料的內腔的設置在底板上的容納燒結料的托盤，圍繞該托盤的缽狀罩體，其邊緣相對于底板被密封，與被缽狀罩體包圍的作為第二內腔的內腔相連的保護氣體導入口和-導出口以及圍繞缽狀罩體與底板的燒結空間作為第三內腔。此外，本發明涉及用于燒結料的燒結方法，所述燒結料如易氧化材料，特別是金屬的燒結料，特別是以牙科框架的形式，使用這樣一種設備:其包含一個布置在底板上的托盤，將燒結料引入該托盤作為第一內腔的內腔中，包圍所述托盤的缽狀罩體，其邊緣相對于底板被密閉，以及與被罩體包圍的作為第二內腔的內腔相連的保護氣體導入口和-導出口，其中將該被缽狀罩體所包圍的第二內腔用保護氣吹掃。
背景技術：
上述類型的設備和方法可以由DE202010007606 Ul和DE202010002533 Ul獲悉。
為此，在燒結爐中將由石英構成的托盤建于耐火泥砌塊的支架上，在該托盤中燒結銀-鈀合金或鉻-鈷合金的牙科框架。所述耐火泥砌塊和托盤為石英容器所包圍，該容器通過石墨密封裝置相對于布置在耐火泥砌塊上的底板密封。底板和耐火泥砌塊都被穿孔，以使被石英容器包圍的石英托盤位于其中的內腔用保護氣如氬氣吹掃。為了防止框架的氧化，該燒結在保護氣氣氛下進行。在這種情況下，在約1200°C的溫度下會出現不希望的石英的腐蝕，因此將它在事先用氮化硼噴劑涂覆。將待燒結的材料放置在得自剛玉、氧化鋁或氧化鋯的惰性珠上的托盤中。相應的設備表現出如下缺點，在高于1200°C的溫度下的使用是不可能的，因為一方面，石英的使用壽命在相應的溫度下受到嚴重的限制，而另一方面如果與手指油脂直接接觸，則由于石英材料的處理導致爆裂。DE20 2011106734 Ul涉及一種用于金屬或陶瓷的無氧燒結的設備，并包括一個在其上支撐一個頂罩的底板。在該頂罩中，在載物板上支撐了一個可引入燒結料的燒結坩堝。此外具有保護氣的導入口和-導出口。作為該設備的材料提供了石英玻璃或重結晶的碳化硅。WO 94/16642 Al涉及一種煅燒窯，在其中布置了一個燃燒室，其頂部被一個蓋子覆蓋，如果在燃燒室內弓I入保護氣體，則氣體能夠流過所述蓋子。EP 2 101 133 Al的主題是一種用于牙科制品的燒結爐。DE 102008012578 Al涉及一種牙科爐，用該爐施行不同的加熱周期。在此可以實現加熱功率的過沖。DE202011005465 Ul涉及一種用于金屬或陶瓷的無氧燒結的設備。這里，將燒結料嵌入存在于燒結容器中的燒結粒料中，所述燒結粒料例如可以由鋯石小球組成
發明內容
本發明的目的在于，如此擴展上述類型的設備和方法，以至于避免了現有技術的缺點，特別是在1200°c以上的溫度也可以沒有問題地進行燒結。同樣應該確保阻止不希望的燒結料的變色或氧化反應。根據設備，該目的基本上如此得以解決，使托盤被封閉部件所覆蓋，并且使該第一內腔在覆蓋托盤的封閉部件處與第二內腔以氣流相連。本發明尤其涉及用于燒結燒結料的設備，所述設備包括具有作為第一內腔的容納燒結料的內腔的設置在底板上的容納燒結料的托盤，圍繞該托盤的缽狀罩體，其邊緣相對于底板被密封，與被缽狀罩體包圍的作為第二內腔的內腔相連的保護氣體導入口和-導出口以及圍繞缽狀罩體與底板的燒結空間作為第三內腔，其特征在于，所述托盤被封閉部件覆蓋，并且使該第一內腔在覆蓋托盤的封閉部件處與第二內腔以氣流相連。按照根據本發明的教導，燒結料的燒結在被由托盤包圍的被稱為第一內腔的內腔中進行，其中該托盤由封閉部件覆蓋。盡管第一內腔是惰性氣體可以流經的，但是將干擾如氧氣到達托盤內部的風險大大降低。尤其提供了，將罩體直接用其邊緣氣密地或形狀鎖合地支撐在底板上。所述罩體的邊緣以及底板在一定程度上被磨平，前者可以無需附加的密封件直接平放在底板上，以獲得一定程度的密封，據此，氧氣沒有或基本上沒有可能滲入被罩體包圍的并被稱為第二內腔的內腔中。通過這些措施確保了，氧氣無法或很大程度無法從外部到達罩體的(第二個)內腔，其也可被稱為鐘罩中，并因此也無法或很大程度無法到達被托盤所包圍的(第一)內腔中。此外應強調的是，至少托盤及其封閉部件如蓋子，但特別是底板、托盤、封閉部件和缽狀或罩形或鐘罩形的罩體由得自碳化硅、氮化硅的材料組成。通過這樣的材料選擇產生如下優點，即該燒結可以在高于1200°C，特別是最高1350°C的溫度下進行，而無材料損壞。特別優選使用碳化硅，因為其顯示出對氧氣的還原效果。根據本發明的一個擴展方案，可以將導入托盤和缽狀罩體之間的間隙中的惰性氣體，其尤其應該是氬氣，但任選也可以是氮氣，從由罩體包圍的第二內腔直接導入包圍底板與罩體的燒結空間，即被稱作第三內腔的燒結爐內腔中。這導致在燒結爐的燒結空間(第三內腔)中進一步的氧氣濃度降低。也使得氧氣滲入罩體的(第二)內腔中變得困難。本發明的一個擴展方案提供了，將托盤支撐在具有開口的環上，所述環就它而言被布置在底板上，其中優選保護氣體導入口和任選的保護氣體導出口在環內穿過底板。或者提出，從托盤或其底壁伸出突起，優選至少三個在圓形上均勻分布的突起，在底板上經由所述突起支撐托盤。通過相關的措施來確保，底板能夠在整個表面上具有均勻的厚度，以此停止由于燒結時出現的溫度變化而形成裂紋的風險。此外，本發明的特征在于，托盤中的燒結料被放置在顆粒材料上，所述顆粒材料由陶瓷，特別是氧化鋯或氧化鋁制成的實心球構成。由二氧化鋯得到的優點在于，其在隔絕氧氣的情況下部分轉化為一氧化鋯。這些通過氧氣缺失而產生的空位導致顏色變暗。令人驚訝的是，這個最初的氧氣釋放沒有不利的影響，并且可以在后期起還原作用并作為指示劑來使用，因為該效果在氧氣滲入的情況下是可逆的。
按照根據本發明的教導將確保，在1200°C及更高，特別是在約1250°C的溫度下，可以進行金屬合金，特別是鈷-鉻合金，如鈷-鉻-鑰合金的燒結，而不會產生氧化和不受控制的變色的危險。在此，將燒結料布置在托盤中，所述托盤具有封閉其的封閉部件，其中確保使容納燒結料的托盤的(第一)內腔被保護氣吹掃，以趕走可能存在的氧氣。所述封閉部件如蓋子般起作用或是一個蓋子。如果優選地，沒有將覆蓋托盤的封閉部件嚴密地布置在托盤上，則也可以實現嚴密的放置，只要例如在封閉部件中提供例如通過激光形成的細小的孔，通過它使保護氣的交換變得可能。另外存在用保護氣吹掃缽狀或鐘罩狀罩體，也就是所謂的鐘罩的可能性，所述吹掃從罩體的(第二)內腔向外進行。尤其是也具有這樣的優點，即該材料適合于在高溫下的燒結，其中由于還原效果尤其可突出碳化硅。或者任選同樣可以使用氮化硅。上述提及類型的方法的特征在于，在引入燒結料之后用封閉部件覆蓋托盤，使得保護氣由此或至少通過該封閉部件上的一個開口或通過托盤上的一個開口滲透到托盤，也就是第一內腔的內部，并且將缽狀罩體的(第二)內腔用無法使罩體抬升的保護氣過壓，特別是用高于環境壓力的具有I毫巴< P < 25毫巴，特別是2毫巴< p < 10毫巴的過壓p加載。特別提供作為燒結料用于較大的物體，特別是牙橋框架(zahntechnischesBriickengeriist),特別是具有至少三個橋節(Briickengliedern),優選至少五個橋節的橋式框架(Briickenge riiste),并且將容納在該設備，即燒結室包圍的設備中的燒結料以5開/分鐘彡R1彡100開/分鐘，特別是20開/分鐘彡R1彡80開/分鐘的加熱速率R1,從室溫Tz加熱至T1，其中800°C彡T1 ( 1100°〇，在1\溫度下任選I分鐘彡( 10分鐘的保持時間h之后以5開/分鐘彡R2 < 30開/分鐘的加熱速率R2升高到1200°C ^ T2 ^ 1350°C的溫度T2,使燒結料在溫度T2下保持5分鐘< t2 < 120分鐘，特別是15分鐘< t2 ( 50分鐘的時間t2，其中任選隨后將燒結料，也就是在保持時間t2之后加熱到溫度T3，其中T3XT2，用以熔化燒結料的表面，然后從溫度T2或者T3以冷卻速度R3冷卻到低于400°C的溫度，該冷卻速度優選至少在冷卻開始時為5開/分鐘彡R3彡100開/分鐘。然后冷卻達到室溫Tz。本發明還提供的是，將燒結料在包圍設備的燒結室里從室溫以加熱速率R1加熱到溫度T2如1200°C彡T2 ( 1350°C用以燒結，在溫度T2下保持5分鐘彡t2 ( 220分鐘，特別是15分鐘< t2 ( 60分鐘的時間t2，其中任選隨后將燒結料，也就是在保持時間之后加熱至IJ溫度T3，其中T3>T2，用以熔化燒結料的表面，然后從溫度T2或者T3以冷卻速度R3冷卻到低于400°C的溫度，其中該冷卻速度優選最初為5開/分鐘彡R3彡100開/分鐘。在此特別提供的是，將加熱速率R1設置為5開/分鐘彡R1彡100開/分鐘，特別是20開/分鐘< R1 < 80開/分鐘的值。所述加熱到溫度T1和任選保持在溫度T1下，以便隨后繼續被加熱到溫度T2，優選對較大的物體如橋式框架施行。在燒結較小物體時，如一顆牙的框架(Geriiste)，所述以任選不同的加熱速率首先至IJ溫度T1以及隨后到溫度T2的加熱可以改變如下，即直接加熱到溫度T2。可以不取決于物體大小而施行的表面的短時間熔化是自身創造性的提議，在使用不同于根據本發明的教導的設備用于燒結時也可以獲得應用。此外可提供，在燒結料冷卻到溫度T1之后將帶有托盤的底板，其封閉部件及罩體至少部分地，優選完全地從燒結室移除。所述燒結室可以是被稱為第三內腔的燒結爐的內腔。與前面所給出的溫度和加熱速率無關，作為自身創造性的標志還可以強調的是存在這樣的可能性，即在致密燒結之后施行另外的加熱，以此使燒結料表面熔融，以獲得所需的表面特性。在托盤內部的短時間高溫導致表面的熔化，以至于框架上的表面顯得幾乎如已經牙科技術拋光了 一般。特別是提供了，將保護氣的入口和/或-出口與導入管或導出管相連接，它由氧化鋁制成。在這里可以將管道用特別是基于氧化鋁的高溫粘合劑與底板粘接。在選擇SiC作為底板、罩體、托盤及其封閉部件用的材料時，利用了材料良好的導熱性和幾乎完全的密實性。因此，使組件內的溫度差異最小化。由此降低熱應力。因此，即使在例如直徑為100毫米的大型部件的情況中，快速的溫度變化也是可行的。此外碳化硅表現出還原效果，并且能夠將氣氛中的殘余氧用所含有的碳轉化成一氧化碳。這種效果是不會消失。同時，沒有發現可測量的材料的壁厚的減少。燒結料在非密實封閉的燒結托盤中的存儲改善了燒結結果。改善的原因可能是建成了配備有對氧具有還原性的壁的內腔。它減弱了氧氣造成的干擾。相應的干擾不能再直接到達燒結料。這提高了消除并因此減輕干擾的可能性。經控制的惰性氣體的供給和排放確保了，罩體中的內壓不能如此增加，使得罩體被抬起。以這種方式實現了排除氧氣。替代一個或多個在底板上的保護氣排氣口，也可以在罩體上存在例如至少一個通過激光形成的孔，以能夠有控制地排出保護氣。與常規技術不同，沒有將空心球用于在托盤中放置燒結料。空心球會儲存氧氣并且因此在高溫下使燒結料的緊鄰空間中毒。根據本發明，采用無法存儲氧氣的實心球。在此，氧化鋯作為球的材料展示出令人驚訝的合適，雖然其最初在氧氣貧乏的氣氛中傾向于釋放氧。在例如通過一個溫度循環而獲得的氧氣釋放之后，相應的得自氧化鋯的實心球顯示出對氧的還原效果。為了在底板上按序定位罩體和托盤，現有技術通常提供多個梯級(Stufen)。本發明放棄了它們并使用了一塊平板，可以以簡單的方式將其與罩體接觸面的區域拋光，從而實現一定程度的密封，使得氧氣的滲透由此沒有或基本上沒有可能。由于不存在梯級，在底板上也沒有厚度的差異，以至于因此減少了熱應力。本發明其它的細節、優點和特征不僅由單獨的和/或組合的其中獲悉特征的權利要求中獲悉，而且由以下對優選的實施例的


獲悉。

圖中:
圖1顯示了用于燒結燒結料的設備的第一種實施方式，
圖2顯示了相應設備的第二種實施方式和 圖3為時間-溫度圖。
具體實施例方式在圖1和圖2中，其中原則上對于相同的部件使用相同的附圖標記，分別純粹原則性地表示了設備10、100的實施方式，所述設備用于燒結金屬燒結料，特別是牙齒框架。如由圖1原則性給出的，設備10 -對應于設備100 -位于由墻體的片段15、17原則性表示的燒結爐的內腔或燒結室12中。在也被稱作第三內腔的燒結室12中，調節所需的溫度，以將存在于設備10、100中的燒結料燒結到需要的程度。設備10由底板14，一個被稱作鐘罩的缽狀或罩蓋式的罩體16，一個具有U形橫截面的托盤18以及被稱作封閉部件的蓋子20組成，借助于該封閉部件原則上并未將托盤18完全緊密地密封。此外，將托盤18通過一個環22支撐在底板14上。所述環22具有凹部24、26、28，由此形成被罩體16包圍的內腔30 -被稱作第二內腔-與被環22包圍的內腔32之間的連接。將在圖1中沒有顯示的燒結料布置在被托盤18包圍的并由蓋子20封閉的被稱為第一內腔的內腔34中。按照根據本發明的教導，底板14、罩體16、托盤18、蓋子20以及環22優選由SiC制成，雖然作為替代材料也可以考慮SiN。將底板14和罩體16的周邊邊緣36在一定程度上磨平，以確保罩體16在底板14上產生形狀鎖合。以此防止氧氣滲入的理由。根據本發明，蓋子20不應該將托盤18的(第一)內腔34完全封閉，使得在由托盤18與罩體16之間延伸的(第二)內腔30與被托盤18所包圍的第一內腔34之間空氣動力學地形成連接。如果蓋子20封閉地位于托盤18上，則蓋子20具有至少一個開口，以便能夠對托盤18的內腔34進行吹掃。在托盤18上的開口是等效的。為了防止氧化及變色，將保護氣體例如氬氣或氮氣經由實施例中的存在于底板14上的開口 38導入第二內腔30。該保護氣到達被托盤18所包圍的第一內腔34，因為如上所述，蓋子20沒有封閉托盤18。替代地或補充地，保護氣經由在蓋子20上和/或在托盤18的壁上的至少一個開口到達。然后，導入第二內腔30中的氣體經由優選同樣存在于底板14上的開口流出。然而也存在這樣的可能性，在罩體16的周邊壁中，例如借助于激光形成至少一個開口，經由該開口使氣體流出。在這種情況下，優選如此將流出的氣體導入燒結室12 -也就是第三內腔中，以至于罩體16至少在周邊邊緣30的范圍內被保護氣吹掃。由于蓋子20沒有密封地放在托盤18上，保護氣可以流入被托盤18包圍的放有燒結料的第一內腔34中。然而同時降低氧的滲透(干擾)。對于所述至少一個開口這同樣適用。相對于環境，(第二)內腔30應具有升高的壓力，其中過壓可優選在I毫巴和25毫巴之間，特別是在2毫巴和10毫巴之間。圖2的實施例與圖1的實施例區別如下，即托盤18并非支撐在環22上，而是通過從托盤18的底壁40伸出的突起42、44來支撐的。這里特別提供了三個突起，它們被均勻分布布置在圓周上。在其它方面與圖1的實施方式一致，因此參閱相關說明。通過托盤18在環22上或經由突起42、44的支撐產生如下優點，即底板14具有均勻的厚度，因此避免了厚度差異并由此降低了內部應力。為了使在燒結時存在于第一內腔34中的燒結料46不接觸托盤18的內表面，在底壁40的內側48，即底表面上引入球狀顆粒材料50，它由實心球，即不由空心球組成。作為材料可以考慮優選氧化鋁或氧化鋯。實心球具有的優點是，不能保存氧氣。這也適用于氧化鋯球，盡管它在氧氣貧乏的氣氛中傾向于開始釋放氧氣。但是在釋放氧氣后其顯示出還原效果。作為尤其由碳化硅構成的組件的優選尺寸可給出:
底板14:直徑90毫米至110毫米，厚度2至4毫米；
罩體16:外徑95毫米至105毫米，壁厚3毫米至5毫米，高度50毫米至55毫米；
環22:4毫米到8毫米，外徑60毫米至70毫米，壁厚3毫米至5毫米；
燒結托盤18:高度30毫米至35毫米，外徑80毫米至90毫米，壁厚3毫米至5毫米；蓋子20:與托盤18相同的外徑，在邊緣區域中的厚度2毫米至5毫米，中間區域的厚度4毫米到8毫米。如從繪出的圖示可知，托盤18的外表面與罩體16的內表面之間的距離可選擇相對小。這具有的優點是，由此將額外阻止氧氣滲入托盤18的(第一)內腔34中，當保護氣排氣開口位于并穿過罩體16的邊緣區域時尤其如此。圖3展示了為燒結燒結料46的加熱曲線和冷卻曲線。根據圖3的曲線適用于燒結較大的物體。作為例子，可提及具有4節(Gliedern)的牙橋框架。純原則性地得出，首先將燒結爐并由此燒結室12也因此燒結料46從室溫Tz加熱至溫度T1，其中在鈷-鉻合金作為材料用于燒結料46時T1在800°C到1100°C之間。該加熱速率應優選介于20開/分鐘到80開/分鐘之間。在溫度T1，將燒結料46保持在I分鐘到10分鐘之間的時間A。隨后以5開/分鐘到30開/分鐘之間的加熱速率進行從溫度T1到1200°C到1350°C之間的溫度T2的加熱。在溫度T2下，將燒結料46保持5分鐘到120分鐘之間的時間t2并隨后冷卻到低于400°C的溫度，其中應選擇至少一個在5開/分鐘到100開/分鐘的冷卻速率。然后冷卻到室溫，其中優選從燒結室12取出設備10、100。為此可將設備10、100降低，如通過雙箭頭52表示的。任選可將燒結料在冷卻到T1之后在溫度T1下保持I分鐘到10分鐘的時間。之后冷卻至室溫Tz。從圖3中的原理圖獲知，可以將燒結料在達到燒結溫度T2后短時間加熱到更高的溫度T3 (虛線區域)，以實現表面的熔化。該短期的有針對性的熔融可在保持時間t2期間，優選在保持時間&之后進行。由圖3得出后者。在燒結較小物體時，如一顆牙的框架，用任選彼此不同的加熱速率加熱到溫度1\、保持在此溫度下以及隨后進一步加熱到溫度T2是沒有必要的。而是可以直接從室溫加熱溫度T2。以此無關地同樣存在這樣的可能性，在保持在溫度T2之后進行短期的升溫到溫度T3,以實現燒結料表面的熔化。
權利要求
1.用于燒結燒結料的設備(10、100)，包括 -布置在底板(14)上容納燒結料的托盤(18)，其具有作為第一內腔的容納燒結料的內腔(34)， -包圍托盤的缽狀罩體(16),其邊緣(36)對于底板是密封的， -與作為第二內腔的由缽狀罩體包圍的內腔(30)相連的保護氣導入和-導出口(38)，以及 -作為第三內腔的包圍帶有底板的缽狀罩體的燒結室(12) 其特征在于，所述托盤(18)被封閉部件(20)所覆蓋，并且該第一內腔(34)在托盤所覆蓋的封閉部件處與第二內腔以氣流方式相連。
2.根據權利要求1的設備， 其特征在于， 所述燒結料(46)是得自易氧化的材料、金屬燒結料、牙科框架的燒結料。
3.根據權利要求1的設備， 其特征在于， 所述罩體(16)直接被其邊緣(36)形狀鎖合地支撐在底板(14)上。
4.根據權利要求1的設備， 其特征在于， 托盤(18)被支撐在具有凹部(24，26，28)的環(22)上，所述環自身被布置在底板(14)上。
5.根據權利要求1的設備， 其特征在于， 保護氣體導入口(38)和任選的保護氣體導出口在環內穿過底板(14)。
6.根據權利要求1的設備， 其特征在于， 由托盤(18)或其底壁(40)伸出突起(42，44)，優先至少三個在圓形上均勻分布的突起，在底板(14)上經由所述突起支撐該托盤。
7.根據權利要求1的設備， 其特征在于， 在托盤(18)中，將燒結料(46)布置在以實心球形式的顆粒材料(50)上，所述實心球得自陶瓷，特別是得自氧化鋯或Al2 O30
8.根據權利要求1的設備， 其特征在于， 底板(14 )、托盤(18 )、封閉部件(20 )以及缽狀的罩體(16 )由選自SiC、SiN的一種材料構成。
9.根據權利要求1的設備， 其特征在于， 將被罩體(16)包圍的第二內腔(30)用無法使罩體抬升的保護氣過壓，特別是用高于環境壓力的具有I毫巴Sp < 25毫巴，特別是2毫巴Sp < 10毫巴的過壓p加載。
10.使用設備(10，100) 燒結燒結料(46)的方法，所述設備包括安置在底板(14)上的托盤(18)，在其作為第一內腔的內腔(34)中引入燒結料，一個包圍該托盤的缽狀罩體(16)，其邊緣(36)對于底板是密封的，以及與作為第二內腔的由缽狀罩體包圍的內腔(30)相連的保護氣導入和-導出口(38)，其中用保護氣吹掃由缽狀罩體包圍的第二內腔， 其特征在于， 在托盤中導入燒結料(46)之后將托盤(18)用一個封閉部件(20)覆蓋，經該封閉部件或經由在該封閉部件上的至少一個開口或經由在托盤上的至少一個開口將保護氣引入托盤的內腔(34)中，并且用無法使罩體抬升的保護氣過壓加載被缽狀罩體包圍的第二內腔(10)。
11.根據權利要求10的方法， 其特征在于， 將第二內腔(30)用具有I毫巴Sp < 25毫巴的過壓P加載。
12.根據權利要求10的方法， 其特征在于， 作為燒結料(46)使用選自易氧化的材料、金屬燒結料、牙科框架的燒結料。
13.根據權利要求10的方法， 其特征在于， 作為燒結料用于較大的物體，特別是牙橋框架，特別是具有至少三個橋節，優選至少五個橋節的橋式框架，并且將包圍該設備燒結室(12)中的燒結料以5開/分鐘彡R1 ( 100開/分鐘，特別是20開/分 鐘彡R1 ( 80開/分鐘的加熱速率R1，從室溫加熱至T1，其中SOO0C^ T1 ( 1100°〇，在T1溫度下任選I分鐘彡( 10分鐘的保持時間之后以5開/分鐘彡R2彡30開/分鐘的加熱速率R2升高到1200°C ^ T2 ^ 1350°C的溫度T2,使燒結料在溫度T2下保持5分鐘彡t2彡120分鐘，特別是15分鐘彡t2 ( 50分鐘的時間t2，其中任選隨后將燒結料加熱到溫度T3，其中T3XT2，用以熔化燒結料的表面，然后從溫度T2或者T3以冷卻速度&冷卻到低于400°C的溫度,R3優選在冷卻的最初為5開/分鐘彡R3S 100開/分鐘。
14.根據權利要求10的方法， 其特征在于， 將燒結料(46)在包圍設備的燒結室(12)里從室溫以加熱速率R2加熱到溫度T2用以燒結，其中1200°C彡T2 ( 1350°C，在溫度T2下保持5分鐘彡t2 ( 220分鐘，特別是15分鐘< t2 ( 60分鐘的時間t2，其中任選隨后將燒結料加熱到溫度T3，其中T3XT2，用以熔化燒結料的表面，然后從溫度T2或者T3以冷卻速度R3冷卻到低于400°C的溫度，其中該冷卻速度優選最初為5開/分鐘< R3 < 100開/分鐘。
15.根據權利要求14的方法， 其特征在于， 將所述加熱速率R2設置為5開/分鐘< R2 < 100開/分鐘，特別是20開/分鐘彡R2彡80開/分鐘的值。
16.根據權利要求13或14的方法， 其特征在于， 為將燒結料冷卻到室溫T2或在燒結料冷卻過程中將帶有托盤的底板、其封閉部件及罩體從燒結室(40)至少部分地，優選完全地移除。
17.根據權利要求10的方法， 其特征在于， 作為燒結料(46)使用由鈷- 鉻合金，優選由鈷-鉻-鑰合金構成的那些。
全文摘要
本發明涉及用于燒結燒結料的設備(10)和方法，所述燒結料如易氧化的材料，特別是金屬燒結料(46)，特別是牙科框架，所述設備包括布置在底板(14)上容納燒結料的托盤(18)，包圍托盤的缽狀罩體(16)，其邊緣(36)對于底板是密封的，以及與由缽狀罩體包圍的內腔(30)相連的保護氣導入和-導出口(38)。由此，甚至可以在高于1200℃的溫度下沒有問題地進行燒結，它提出了，將托盤(18)用封閉部件(20)覆蓋，其中在該覆蓋的封閉部件處使托盤的內腔(34)與所述罩體的內腔以氣流方式連接。
文檔編號F27B21/08GK103162537SQ20121052202
公開日2013年6月19日 申請日期2012年12月7日 優先權日2011年12月9日
發明者J.哈亨貝格, R.施泰因克, P.波普, I.維澤爾 申請人:德固薩有限責任公司