本申請涉及材料測試，尤其涉及一種測試系統及測試方法、計算機設備及存儲介質。

背景技術：

1、光致聚合物作為光場記錄介質，已經在多個前沿光學技術中得到了應用。例如在體全息光柵的應用中，光致聚合物可以記錄高分辨率的三維干涉圖樣，并被廣泛應用于光學存儲和光學微加工領域。與此同時，隨著顯示技術的不斷發展，光致聚合物在光學顯示中的應用也逐漸成熟，特別是在體全息顯示、光調制和自適應顯示等方向，展現了強大的潛力。光致聚合物能夠通過在不同曝光劑量下進行單體聚合反應，進而產生折射率的差異，這使得其在記錄和存儲光場信息中具有重要的應用價值。然而，由于單體聚合反應通常伴隨著一定程度的材料收縮，這種收縮效應會導致記錄的信息發生失真，進而影響光場記錄的準確性和可靠性。因此，測量和補償光致聚合物的收縮率成為保證光場記錄精度的重要步驟。

2、為了準確評估光致聚合物在不同曝光條件下的收縮效應，通常需要對材料的光學特性進行表征。相關技術中，為了測量光致聚合物的光學特性，通常需要頻繁調整激光器的入射角度以獲取不同角度下的測試數據。這種操作不僅復雜且容易引入誤差，導致測量結果的不一致性和精度降低。

技術實現思路

1、本申請提供了一種測試系統及測試方法、計算機設備及存儲介質，無需改變光源裝置的角度即可實現對待測樣品透射光的測試，提高了測試的效率和精度。

2、為實現上述目的，本申請提供一種測試系統，用于測試待測樣品的材料收縮率，所述測試系統包括：

3、光源裝置，所述光源裝置發射測試光束和具有不同曝光劑量的曝光光束；

4、樣品調整裝置，所述樣品調整裝置包括樣品放置臺、升降機構和旋轉機構，所述樣品放置臺用于放置所述待測樣品，所述升降機構的升降軸和所述旋轉機構的旋轉軸同軸，所述樣品放置臺與所述升降機構或所述旋轉機構連接，所述升降機構用于帶動所述待測樣品升降以調節曝光位置，所述旋轉機構用于帶動所述待測樣品旋轉；

5、探測裝置，所述探測裝置用于探測經過所述待測樣品的透射光；

6、控制裝置，所述控制裝置與所述樣品調整裝置、所述光源裝置和探測裝置通信連接；

7、其中，所述控制裝置用于控制所述升降機構升降，使得所述待測樣品的不同曝光區域對應具有不同曝光劑量的曝光光束；所述控制裝置用于控制所述旋轉機構旋轉以帶動所述待測樣品旋轉，所述探測裝置用于在所述樣品旋轉的過程中測量經過所述待測樣品的不同曝光區域的透射光隨旋轉角度的能量變化信息。

8、此外，為實現上述目的，本申請還提供一種測試方法，用于測試待測樣品的材料收縮率，應用于本申請實施例任一項所述的測試系統，所述測試方法包括：

9、通過所述升降機構控制所述待測樣品升降以使所述待測樣品的第一曝光區域對應第一曝光光束，并控制所述光源裝置以所述第一曝光光束對所述第一曝光區域進行曝光，所述第一曝光光束具有第一曝光劑量；

10、通過所述升降機構控制所述待測樣品升降以使所述待測樣品的第二曝光區域對應第二曝光光束，并控制所述光源裝置以所述第二曝光光束對所述第二曝光區域進行曝光，所述第二曝光光束具有第二曝光劑量；所述第一曝光劑量低于所述第二曝光劑量；

11、控制所述光源裝置發射所述測試光束，并控制所述旋轉機構帶動所述待測樣品旋轉；

12、在所述待測樣品旋轉的過程中，通過所述探測裝置用于測量從所述第一曝光區域的第一透射光的隨所述旋轉角度的變化對應的第一能量變化信息，從所述第二曝光區域的第二透射光的能量隨所述旋轉角度的變化對應的第二能量變化信息；

13、根據所述第一能量變化信息和所述第二能量變化信息確定所述待測樣品的材料收縮率。

14、此外，為實現上述目的，本申請還提供一種計算機設備，所述計算機設備包括存儲器和處理器；其中，所述存儲器與所述處理器連接，用于存儲程序所述處理器用于通過運行所述存儲器中存儲的程序，實現本申請實施例提供的任一項所述的測試方法的步驟。

15、此外，為實現上述目的，本申請還提供一種計算機可讀存儲介質，所述計算機可讀存儲介質存儲有計算機程序，所述計算機程序被處理器執行時使所述處理器實現本申請實施例提供的任一項所述的測試方法的步驟。

16、本申請實施例公開的測試系統及測試方法、計算機設備及存儲介質，實現了以下有益效果：通過固定光源裝置的光源入射角度，結合樣品調整裝置中旋轉機構的旋轉控制和升降機構的升降控制，使得無需調整光源裝置的光源入射角度即可實現對待測樣品的不同曝光區域的透射光的測量，減少了光源裝置的調節時間和操作復雜性，極大提升了測試效率。此外，樣品調整裝置采用升降機構和旋轉機構的同軸設計，確保待測樣品在旋轉和升降過程中位置變化的精確性，通過控制旋轉機構旋轉以帶動待測樣品旋轉，能夠滿足測試過程中待測樣品入射光角度的變化需求，與相關技術中改變光源裝置的入射光角度相比，該方法能夠避免相關技術中因入射光角度改變而產生的測量偏差，保證了測試數據的高精度，為后續收縮率的精確計算提供了穩定的數據支持。

技術特征：

1.一種測試系統，其特征在于，用于測試待測樣品的材料收縮率，所述測試系統包括：

2.根據權利要求1所述的測試系統，其特征在于，所述光源裝置包括：

3.根據權利要求2所述的測試系統，其特征在于，不同的所述曝光劑量包括曝光時間和/或曝光能量不同；通過控制所述第一快門和第二快門的曝光時間，或，通過控制所述激光器發射的曝光光束的曝光能量，得到不同的曝光劑量。

4.根據權利要求1所述的測試系統，其特征在于，所述測試系統還包括：隔斷件，所述隔斷件用于隔斷所述待測樣品不同的曝光區域。

5.一種測試方法，其特征在于，用于測試待測樣品的材料收縮率，應用于權利要求1-4任一項所述的測試系統，所述測試方法包括：

6.根據權利要求5所述的測試方法，其特征在于，所述根據所述第一能量變化信息和所述第二能量變化信息確定所述待測樣品的材料收縮率，包括：

7.根據權利要求6所述的方法，其特征在于，所述根據所述第一能量變化信息確定所述第一透射光束對應的第一角帶寬峰值；以及，根據所述第二能量變化信息確定所述第二透射光束對應的第二角帶寬峰值，包括：

8.根據權利要求6所述的測試方法，其特征在于，所述根據所述第一角帶寬峰值和所述第二角帶寬峰值確定所述待測樣品的材料收縮率，包括：

9.一種計算機設備，其特征在于，包括：存儲器和處理器；其中，所述存儲器與所述處理器連接，用于存儲程序所述處理器用于通過運行所述存儲器中存儲的程序，實現如權利要求5-8任一項中所述的測試方法的步驟。

10.一種計算機可讀存儲介質，其特征在于，所述計算機可讀存儲介質存儲有計算機程序，所述計算機程序被處理器執行時使所述處理器實現如權利要求5-8任一項中所述的測試方法的步驟。

技術總結
本發明提供一種測試系統及測試方法，計算機設備及存儲介質，測試系統包括：光源裝置，發射測試光束和具有不同曝光劑量的曝光光束；樣品調整裝置包括樣品放置臺、升降機構和旋轉機構，樣品放置臺與升降機構或旋轉機構連接升降機構用于帶動待測樣品升降以調節曝光位置；探測裝置用于探測經過所述待測樣品的透射光；控制裝置用于控制升降機構升降，使得待測樣品的不同曝光區域對應具有不同曝光劑量的曝光光束；用于控制旋轉機構旋轉以帶動待測樣品旋轉，探測裝置用于在樣品旋轉的過程中測量經過待測樣品的不同曝光區域的透射光隨旋轉角度的能量變化信息。本申請無需改變光源裝置的角度即可實現對待測樣品透射光的測試，提高了測試的效率和精度。

技術研發人員：馬國慶,郭斌,蘭富洋,關健,王兆民
受保護的技術使用者：珠海莫界科技有限公司
技術研發日：
技術公布日：2025/4/28