專利名稱：高功率窄線寬的1.94μmTm:YLF激光器的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種固體激光器。
背景技術(shù)：
I. 94μπι激光位于水分子的強(qiáng)吸收峰附近，而且可以在光纖中傳輸，所以該波段激光可以作為醫(yī)用激光手術(shù)刀的光源，在激光醫(yī)療方面有著重要的應(yīng) 用價(jià)值。Tm:YLF晶體在I. 94 μ m附近有較強(qiáng)的增益，適合作為產(chǎn)生I. 94 μ m激光的增益介質(zhì)。自由運(yùn)轉(zhuǎn)的I. 94 μ m的輸出光譜較寬，并且輸出功率不穩(wěn)定，對(duì)外界環(huán)境的影響較為敏感，難以實(shí)現(xiàn)高功率的激光輸出。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明是為了解決現(xiàn)有的1.94μπιΤπι:Υυ激光器難以實(shí)現(xiàn)高功率激光輸出的問題，從而提供一種高功率窄線寬的I. 94 μ mTm: YLF激光器。高功率窄線寬的1.94μπιΤπι:Υυ激光器，它包括體光柵、一號(hào)全反鏡、二號(hào)全反鏡、三號(hào)全反鏡、一號(hào)Tm: YLF激光晶體、二號(hào)Tm: YLF激光晶體、F-P標(biāo)準(zhǔn)具和I. 94 μ m激光輸出I禹合鏡；系統(tǒng)入射的一號(hào)泵浦光經(jīng)一號(hào)全反鏡透射后入射至一號(hào)Tm: YLF激光晶體，被一號(hào)Tm: YLF激光晶體的吸收后產(chǎn)生I. 94 μ m激光輻射，I. 94 μ m激光入射至二號(hào)全反鏡，經(jīng)二號(hào)全反鏡反射獲得反射光，所述反射光入射至二號(hào)Tm: YLF激光晶體，經(jīng)二號(hào)Tm: YLF激光晶體透射后入射至三號(hào)全反鏡，經(jīng)三號(hào)全反鏡反射至F-P標(biāo)準(zhǔn)具，經(jīng)所述F-P標(biāo)準(zhǔn)具透射后入射至I. 94 μ m激光輸出I禹合鏡I禹合后輸出；系統(tǒng)入射的二號(hào)泵浦光經(jīng)二號(hào)全反鏡透射后入射至一號(hào)Tm:YLF激光晶體，經(jīng)一號(hào)Tm: YLF激光晶體吸收后產(chǎn)生I. 94 μ m激光輻射，I. 94 μ m激光入射至一號(hào)全反鏡，經(jīng)所述一號(hào)全反鏡反射至光柵，經(jīng)所述體光柵反射回一號(hào)全反鏡，經(jīng)所述一號(hào)全反鏡反射至一號(hào)Tm: YLF激光晶體，經(jīng)一號(hào)Tm: YLF激光晶體的透射后入射至二號(hào)全反鏡，經(jīng)二號(hào)全反鏡反射獲得反射光，所述反射光入射至二號(hào)Tm: YLF激光晶體，經(jīng)二號(hào)Tm: YLF激光晶體透射后入射至三號(hào)全反鏡，經(jīng)三號(hào)全反鏡反射至F-P標(biāo)準(zhǔn)具，經(jīng)所述F-P標(biāo)準(zhǔn)具透射后入射至I. 94 μ m激光輸出I禹合鏡I禹合后輸出；系統(tǒng)入射的二號(hào)泵浦光的光軸與系統(tǒng)入射的一號(hào)泵浦光的光軸重合；系統(tǒng)入射的三號(hào)泵浦光經(jīng)二號(hào)全反鏡透射后入射至二號(hào)Tm:YLF激光晶體，經(jīng)二號(hào)Tm: YLF激光晶體吸收后產(chǎn)生I. 94 μ m激光輻射，I. 94 μ m激光入射至三號(hào)全反鏡，經(jīng)所述三號(hào)全反鏡反射至F-P標(biāo)準(zhǔn)具，經(jīng)所述F-P標(biāo)準(zhǔn)具透射后入射至I. 94 μ m激光輸出耦合鏡率禹合后輸出；系統(tǒng)入射的三號(hào)泵浦光的光軸與系統(tǒng)入射的一號(hào)泵浦光的光軸垂直；系統(tǒng)入射的四號(hào)泵浦光經(jīng)三號(hào)全反鏡透射后入射至二號(hào)Tm:YLF激光晶體，經(jīng)二號(hào)Tm: YLF激光晶體吸收后產(chǎn)生I. 94 μ m激光輻射，I. 94 μ m激光入射至二號(hào)全反鏡，經(jīng)所述二號(hào)全反鏡反射至一號(hào)Tm: YLF激光晶體，經(jīng)一號(hào)Tm: YLF激光晶體的透射后入射至一號(hào)全反鏡，經(jīng)所述一號(hào)全反鏡反射至光柵，經(jīng)所述體光柵反射回一號(hào)全反鏡，經(jīng)所述一號(hào)全反鏡反射至一號(hào)Tm: YLF激光晶體，經(jīng)一號(hào)Tm: YLF激光晶體的透射后入射至二號(hào)全反鏡，經(jīng)二號(hào)全反鏡反射獲得反射光，所述反射光入射至二號(hào)Tm: YLF激光晶體，經(jīng)二號(hào)Tm: YLF激光晶體透射后入射至三號(hào)全反鏡，經(jīng)三號(hào)全反鏡反射至F-P標(biāo)準(zhǔn)具，經(jīng)所述F-P標(biāo)準(zhǔn)具透射后入射至I. 94 μ m激光輸出I禹合鏡I禹合后輸出；系統(tǒng)入射的四號(hào)泵浦光的光軸與系統(tǒng)入射的三號(hào)泵浦光的光軸重合。本發(fā)明采用體光柵與F-P標(biāo)準(zhǔn)具作為波長(zhǎng)限制元件元件，從而同時(shí)實(shí)現(xiàn)窄線寬、高功率的I. 94 μ m激光輸出。并且，全固化的I. 94 μ m激光器具有結(jié)構(gòu)緊湊、效率高、穩(wěn)定性好等優(yōu)點(diǎn)，非常便于在實(shí)際應(yīng)用中的操作。


圖I是本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施例方式具體實(shí)施方式
一、結(jié)合圖I說明本具體實(shí)施方式
，高功率窄線寬的I. 94 μ mTm: YLF激光器，它包括體光柵I、一號(hào)全反鏡2、二號(hào)全反鏡4、三號(hào)全反鏡6、一號(hào)Tm: YLF激光晶體3、二號(hào)Tm: YLF激光晶體5、F-P標(biāo)準(zhǔn)具7和I. 94 μ m激光輸出耦合鏡8 ；系統(tǒng)入射的一號(hào)泵浦光經(jīng)一號(hào)全反鏡2透射后入射至一號(hào)Tm:YLF激光晶體3，經(jīng)一號(hào)Tm: YLF激光晶體3吸收后產(chǎn)生I. 94 μ m激光輻射，I. 94 μ m激光入射至二號(hào)全反鏡4，經(jīng)二號(hào)全反鏡4反射獲得反射光，所述反射光入射至二號(hào)Tm: YLF激光晶體5，經(jīng)二號(hào)TmiYLF激光晶體5透射后入射至三號(hào)全反鏡6，經(jīng)三號(hào)全反鏡6反射至F-P標(biāo)準(zhǔn)具7，經(jīng)所述F-P標(biāo)準(zhǔn)具7透射后入射至I. 94 μ m激光輸出耦合鏡8耦合后輸出；系統(tǒng)入射的二號(hào)泵浦光經(jīng)二號(hào)全反鏡4透射后入射至一號(hào)Tm:YLF激光晶體3，經(jīng)一號(hào)Tm: YLF激光晶體3吸收后產(chǎn)生I. 94 μ m激光輻射，I. 94 μ m激光入射至一號(hào)全反鏡2，經(jīng)所述一號(hào)全反鏡2反射至光柵1，經(jīng)所述體光柵I反射回一號(hào)全反鏡2，經(jīng)所述一號(hào)全反鏡2反射至一號(hào)Tm:YLF激光晶體3，經(jīng)一號(hào)Tm:YLF激光晶體3的透射后入射至二號(hào)全反鏡4，經(jīng)二號(hào)全反鏡4反射獲得反射光，所述反射光入射至二號(hào)Tm:YLF激光晶體5，經(jīng)二號(hào)TmiYLF激光晶體5透射后入射至三號(hào)全反鏡6，經(jīng)三號(hào)全反鏡6反射至F-P標(biāo)準(zhǔn)具7，經(jīng)所述F-P標(biāo)準(zhǔn)具7透射后入射至I. 94 μ m激光輸出耦合鏡8耦合后輸出；系統(tǒng)入射的二號(hào)泵浦光的光軸與系統(tǒng)入射的一號(hào)泵浦光的光軸重合；系統(tǒng)入射的三號(hào)泵浦光經(jīng)二號(hào)全反鏡4透射后入射至二號(hào)Tm:YLF激光晶體5，經(jīng)二號(hào)Tm: YLF激光晶體5吸收后產(chǎn)生I. 94 μ m激光輻射，I. 94 μ m激光入射至三號(hào)全反鏡6，經(jīng)所述三號(hào)全反鏡6反射至F-P標(biāo)準(zhǔn)具7，經(jīng)所述F-P標(biāo)準(zhǔn)具7透射后入射至I. 94 μ m激光輸出I禹合鏡8 I禹合后輸出；系統(tǒng)入射的三號(hào)泵浦光的光軸與系統(tǒng)入射的一號(hào)泵浦光的光軸垂直；系統(tǒng)入射的四號(hào)泵浦光經(jīng)三號(hào)全反鏡6透射后入射至二號(hào)Tm:YLF激光晶體5，經(jīng)二號(hào)Tm: YLF激光晶體5吸收后產(chǎn)生I. 94 μ m激光輻射，I. 94 μ m激光入射至二號(hào)全反鏡4，經(jīng)所述二號(hào)全反鏡4反射至一號(hào)Tm:YLF激光晶體3，經(jīng)一號(hào)Tm:YLF激光晶體3的透射后入射至一號(hào)全反鏡2，經(jīng)所述一號(hào)全反鏡2反射至光柵1，經(jīng)所述體光柵I反射回一號(hào)全反鏡2，經(jīng)所述一號(hào)全反鏡2反射至一號(hào)Tm: YLF激光晶體3，經(jīng)一號(hào)Tm: YLF激光晶體3的透射后入射至二號(hào)全反鏡4，經(jīng)二號(hào)全反鏡4反射獲得反射光，所述反射光入射至二號(hào)Tm: YLF激光晶體5，經(jīng)二號(hào)Tm:YLF激光晶體5透射后入射至三號(hào)全反鏡6，經(jīng)三號(hào)全反鏡6反射至F-P標(biāo)準(zhǔn)具7，經(jīng)所述F-P標(biāo)準(zhǔn)具7透射后入射至I. 94 μ m激光輸出耦合鏡8耦合后輸出；系統(tǒng)入射的四號(hào)泵浦光的光軸與系統(tǒng)入射的三號(hào)泵浦光的光軸重合。工作原理本發(fā)明由該激光器由體光柵1、3個(gè)45° I. 94μπι全反鏡(一號(hào)全反鏡2、二號(hào)全反鏡4、三號(hào)全反鏡6、2個(gè)Tm:YLF激光晶體(一號(hào)Tm:YLF激光晶體3、二號(hào)Tm: YLF激光晶體5)、F-P標(biāo)準(zhǔn)具7及I. 94 μ m激光輸出耦合鏡8組成，四路泵浦光分別透過45° I. 94 μ m全反鏡(一號(hào)全反鏡2、二號(hào)全反鏡4、三 號(hào)全反鏡6)入射到2個(gè)Tm: YLF激光晶體(一號(hào)Tm: YLF激光晶體3、二號(hào)Tm: YLF激光晶體5)，體光柵I后面放置45° I. 94 μ m全反鏡(一號(hào)全反鏡2)，45° I. 94 μ m全反鏡(一號(hào)全反鏡2)后面放置Tm: YLF激光晶體(一號(hào)Tm: YLF激光晶體3 )，Tm: YLF激光晶體(一號(hào)Tm: YLF激光晶體3 )后面放置45 ° 1. 94 μ m全反鏡(二號(hào)全反鏡4)，45° I. 94 μ m全反鏡(二號(hào)全反鏡4)后面放置Tm: YLF激光晶體(二號(hào)Tm: YLF激光晶體5 )，Tm: YLF激光晶體(二號(hào)Tm: YLF激光晶體5 )后面放置45 ° 1. 94 μ m全反鏡(三號(hào)全反鏡6)，45° I. 94 μ m全反鏡(三號(hào)全反鏡6)之后放置F-P標(biāo)準(zhǔn)具7，F(xiàn)-P標(biāo)準(zhǔn)具7之后放置I. 94 μ m激光輸出稱合鏡8。體光柵I強(qiáng)制激光器運(yùn)行在I. 94 μ m,并壓縮激光的線寬，調(diào)諧F-P標(biāo)準(zhǔn)具7的角度，將激光波長(zhǎng)微調(diào)諧至1940. 4nm,并進(jìn)一步壓縮激光線寬，I. 94 μ m激光輸出耦合鏡8輸出高功率窄線寬的I. 94 μ m波段紅外激光。本發(fā)明獲得高功率窄線寬的I. 94 μ m激光輸出；采用全固化設(shè)計(jì)，結(jié)構(gòu)緊湊，穩(wěn)定性好。
具體實(shí)施方式
二、本具體實(shí)施方式
與具體實(shí)施方式
一所述的高功率窄線寬的
I.94 μ mTm: YLF激光器的區(qū)別在于，體光柵I上鍍有I. 94 μ m高透膜。
具體實(shí)施方式
三、本具體實(shí)施方式
與具體實(shí)施方式
一所述的高功率窄線寬的
I.94 μ mTm: YLF激光器的區(qū)別在于，體光柵I的反射波長(zhǎng)為1940nm，反射譜的半峰全寬小于Inm0具體實(shí)施方式
四、本具體實(shí)施方式
與具體實(shí)施方式
一所述的高功率窄線寬的
I.94 μ mTm: YLF激光器的區(qū)別在于，一號(hào)全反鏡2、二號(hào)全反鏡4和三號(hào)全反鏡6均鍍有泵浦光高透且I. 94 μ m激光高反膜。
具體實(shí)施方式
五、本具體實(shí)施方式
與具體實(shí)施方式
一所述的高功率窄線寬的
I.94 μ mTm: YLF激光器的區(qū)別在于，一號(hào)全反鏡2、二號(hào)全反鏡4和三號(hào)全反鏡6均為直徑10mm、厚2mm的平面鏡。
具體實(shí)施方式
六、本具體實(shí)施方式
與具體實(shí)施方式
一所述的高功率窄線寬的
I.94 μ mTm: YLF激光器的區(qū)別在于，I. 94 μ m激光輸出耦合鏡8為平凹鏡。
具體實(shí)施方式
七、本具體實(shí)施方式
與具體實(shí)施方式
一所述的高功率窄線寬的I. 94 μ mTm: YLF激光器的區(qū)別在于，I. 94 μ m激光輸出耦合鏡8的直徑為10mm，曲率半徑為200mm,并鍍有對(duì)I. 94 μ m透過率為40%的膜。
具體實(shí)施方式
八、本具體實(shí)施方式
與具體實(shí)施方式
一所述的高功率窄線寬的
I.94 μ mTm: YLF激光器的區(qū)別在于，F(xiàn)-P標(biāo)準(zhǔn)具7的厚度為O. 5mm。
本發(fā)明的激光器的泵浦源采用的是與激光晶體吸收波長(zhǎng)相匹配的半導(dǎo)體激光器，泵浦方式為端面泵浦。由于銩(Tm)激光系統(tǒng)的準(zhǔn)三能級(jí)特性，Tm:YLF晶體的溫度對(duì)激光器的效率有重要影響，所以需要對(duì)Tm:YLF晶體的工作溫度進(jìn)行控制。常溫條件工作時(shí)可以使用熱電制冷或水冷方法。1.94μπι激光器諧振腔由體光柵、45° 1.94μπι激光全反鏡及
I.94 μ m激光輸出鏡組成。所述的體光柵在激光振蕩波長(zhǎng)I. 94 μ m處的反射率大于99%,對(duì)體光柵鍍I. 94 μ m高透膜，所述的45 ° I. 94 μ m激光全反鏡為平鏡，鍍泵浦光高透且
I.94 μ m高反膜，所述I. 94 μ m激光輸出鏡為平凹鏡。在諧振腔內(nèi)插入一個(gè)F-P標(biāo)準(zhǔn)具以保證激光器有高的光束質(zhì)量。利用波長(zhǎng)為792nm的半導(dǎo)體激光器泵浦Tm:YLF晶體能夠獲得I. 94 μ m波段激光。TmiYLF晶體是激光增益介質(zhì)，在1940nm處有強(qiáng)的發(fā)射峰，為與之相匹配，體光柵設(shè)計(jì)的反射波長(zhǎng)為1940nm，反射譜的半峰全寬小于lnm。45°全反鏡為直徑10mm、厚2mm的平面鏡，一面鍍45度792nm高透膜，另一面鍍45度792nm高透且I. 94 μ m高反膜。輸出鏡直徑10mm，曲率半徑200mm，鍍對(duì)I. 94 μ m透過率為40%的膜。使用熱電制冷或水冷方法，保證激光器穩(wěn)定運(yùn)行。在諧振腔內(nèi)插入一 個(gè)O. 5mm厚的F-P標(biāo)準(zhǔn)具將激光波長(zhǎng)微調(diào)諧至1940. 4nm,并進(jìn)一步壓縮激光輸出線寬。采用上述結(jié)構(gòu)，用160W的792nm半導(dǎo)體激光器泵浦Tm:YLF晶體可以獲得50W連續(xù)波近衍射極限的窄線寬1940nm激光輸出。
權(quán)利要求
1.高功率窄線寬的I.94 UmTm = YLF激光器，其特征是它包括體光柵(I)、一號(hào)全反鏡(2)、二號(hào)全反鏡(4)、三號(hào)全反鏡(6)、一號(hào)Tm: YLF激光晶體(3)、二號(hào)Tm: YLF激光晶體(5)、F-P標(biāo)準(zhǔn)具(7)和I.94 μ m激光輸出耦合鏡(8)； 系統(tǒng)入射的一號(hào)泵浦光經(jīng)一號(hào)全反鏡(2)透射后入射至一號(hào)Tm:YLF激光晶體(3)，經(jīng)一號(hào)Tm: YLF激光晶體(3)吸收后產(chǎn)生I. 94 μ m激光輻射，I. 94 μ m激光入射至二號(hào)全反鏡(4)，經(jīng)二號(hào)全反鏡(4)反射獲得反射光，所述反射光入射至二號(hào)Tm:YLF激光晶體(5)，經(jīng)ニ號(hào)Tm:YLF激光晶體(5)透射后入射至三號(hào)全反鏡(6)，經(jīng)三號(hào)全反鏡(6)反射至F-P標(biāo)準(zhǔn)具(7)，經(jīng)所述F-P標(biāo)準(zhǔn)具(7)透射后入射至I. 94 μ m激光輸出耦合鏡(8)耦合后輸出； 系統(tǒng)入射的二號(hào)泵浦光經(jīng)二號(hào)全反鏡(4)透射后入射至一號(hào)Tm:YLF激光晶體(3)，經(jīng)一號(hào)Tm: YLF激光晶體(3)吸收后產(chǎn)生I. 94 μ m激光輻射，I. 94 μ m激光入射至一號(hào)全反鏡(2)，經(jīng)所述一號(hào)全反鏡(2)反射至光柵(1)，經(jīng)所述體光柵(I)反射回一號(hào)全反鏡(2)，經(jīng)所述一號(hào)全反鏡(2)反射至一號(hào)Tm:YLF激光晶體(3)，經(jīng)一號(hào)Tm:YLF激光晶體(3)的透射后入射至二號(hào)全反鏡(4)，經(jīng)二號(hào)全反鏡(4)反射獲得反射光，所述反射光入射至二號(hào)Tm:YLF激光晶體(5)，經(jīng)二號(hào)Tm:YLF激光晶體(5)透射后入射至三號(hào)全反鏡(6)，經(jīng)三號(hào)全反鏡(6)反射至F-P標(biāo)準(zhǔn)具(7)，經(jīng)所述F-P標(biāo)準(zhǔn)具(7)透射后入射至I.94 μ m激光輸出耦合鏡(8) I禹合后輸出； 系統(tǒng)入射的二號(hào)泵浦光的光軸與系統(tǒng)入射的一號(hào)泵浦光的光軸重合； 系統(tǒng)入射的三號(hào)泵浦光經(jīng)二號(hào)全反鏡(4)透射后入射至二號(hào)Tm:YLF激光晶體(5)，經(jīng)二號(hào)Tm: YLF激光晶體(5)吸收后產(chǎn)生I. 94 μ m激光輻射，I. 94 μ m激光入射至三號(hào)全反鏡(6)，經(jīng)所述三號(hào)全反鏡(6)反射至F-P標(biāo)準(zhǔn)具(7)，經(jīng)所述F-P標(biāo)準(zhǔn)具(7)透射后入射至I. 94 μ m激光輸出f禹合鏡(8) f禹合后輸出； 系統(tǒng)入射的三號(hào)泵浦光的光軸與系統(tǒng)入射的一號(hào)泵浦光的光軸垂直； 系統(tǒng)入射的四號(hào)泵浦光經(jīng)三號(hào)全反鏡(6)透射后入射至二號(hào)Tm:YLF激光晶體(5)，經(jīng)二號(hào)Tm: YLF激光晶體(5)吸收后產(chǎn)生I. 94 μ m激光輻射，I. 94 μ m激光入射至二號(hào)全反鏡(4),經(jīng)所述二號(hào)全反鏡(4)反射至一號(hào)Tm: YLF激光晶體(3)，經(jīng)ー號(hào)Tm: YLF激光晶體(3)的透射后入射至一號(hào)全反鏡(2 )，經(jīng)所述一號(hào)全反鏡(2 )反射至光柵(I)，經(jīng)所述體光柵(I)反射回一號(hào)全反鏡(2)，經(jīng)所述一號(hào)全反鏡(2)反射至一號(hào)Tm: YLF激光晶體(3)，經(jīng)一號(hào)Tm:YLF激光晶體(3)的透射后入射至二號(hào)全反鏡(4)，經(jīng)二號(hào)全反鏡(4)反射獲得反射光，所述反射光入射至二號(hào)Tm:YLF激光晶體(5)，經(jīng)二號(hào)Tm:YLF激光晶體(5)透射后入射至三號(hào)全反鏡(6)，經(jīng)三號(hào)全反鏡(6)反射至F-P標(biāo)準(zhǔn)具(7)，經(jīng)所述F-P標(biāo)準(zhǔn)具(7)透射后入射至I. 94 μ m激光輸出f禹合鏡(8) f禹合后輸出； 系統(tǒng)入射的四號(hào)泵浦光的光軸與系統(tǒng)入射的三號(hào)泵浦光的光軸重合。
2.根據(jù)權(quán)利要求I所述的高功率窄線寬的I.94 UmTm = YLF激光器，其特征在于體光柵(I)上鍍有I. 94 μ m高透膜。
3.根據(jù)權(quán)利要求I所述的高功率窄線寬的I.94 UmTm = YLF激光器，其特征在于體光柵(O的反射波長(zhǎng)為1940nm，反射譜的半峰全寬小于lnm。
4.根據(jù)權(quán)利要求I所述的高功率窄線寬的I.94 μ mTm: YLF激光器，其特征在于一號(hào)全反鏡(2)、二號(hào)全反鏡(4)和三號(hào)全反鏡(6)均鍍有泵浦光高透且I. 94μπι激光高反膜。
5.根據(jù)權(quán)利要求I所述的高功率窄線寬的I.94 UmTmiYLF激光器，其特征在于一號(hào)全反鏡(2)、二號(hào)全反鏡(4)和三號(hào)全反鏡(6)均為直徑10mm、厚2mm的平面鏡。
6.根據(jù)權(quán)利要求I所述的高功率窄線寬的1.94μπιΤπι:Υυ激光器，其特征在于I. 94 μ m激光輸出耦合鏡(8)為平凹鏡。
7.根據(jù)權(quán)利要求I所述的高功率窄線寬的I.94 UmTm = YLF激光器，其特征在于I.94 μ m激光輸出耦合鏡(8)的直徑為10mm，曲率半徑為200mm，并鍍有對(duì)I. 94 μ m透過率為40%的膜。
8.根據(jù)權(quán)利要求I所述的高功率窄線寬的I.94 UmTm = YLF激光器，其特征在于F-P標(biāo)準(zhǔn)具(7)的厚度為O. 5mm。
全文摘要
高功率窄線寬的1.94μmTm:YLF激光器，涉及一種固體激光器。它是為了解決現(xiàn)有的1.94μmTm:YLF激光器難以實(shí)現(xiàn)高功率激光輸出的問題。該激光器由體光柵、Tm:YLF激光晶體、45°1.94μm全反鏡、F-P標(biāo)準(zhǔn)具及1.94μm激光輸出耦合鏡組成，四泵浦光分別透過三個(gè)45°1.94μm全反鏡入射兩塊Tm:YLF激光晶體，一號(hào)45°1.94μm全反鏡放置在體光柵后面，一號(hào)Tm:YLF激光晶體放置在一號(hào)45°1.94μm全反鏡后面，一號(hào)Tm:YLF激光晶體后面放置二號(hào)45°1.94μm全反鏡，二號(hào)45°1.94μm全反鏡之后放置二號(hào)Tm:YLF激光晶體，二號(hào)Tm:YLF激光晶體放置在三號(hào)45°1.94μm全反鏡，三號(hào)45°1.94μm全反鏡之后放置F-P標(biāo)準(zhǔn)具，F(xiàn)-P標(biāo)準(zhǔn)具之后放置1.94μm激光輸出耦合鏡。本發(fā)明適用于提供高功率窄線寬的1.94μmTm:YLF激光。
文檔編號(hào)H01S3/08GK102842842SQ201210361418
公開日2012年12月26日 申請(qǐng)日期2012年9月25日 優(yōu)先權(quán)日2012年9月25日
發(fā)明者段小明, 鞠有倫, 姚寶權(quán), 張?jiān)栖? 王月珠 申請(qǐng)人:哈爾濱工業(yè)大學(xué)