本技術屬于晶圓加工，具體涉及一種晶圓清洗拋光裝置。

背景技術：

1、晶圓是指制作硅半導體電路所用的硅晶片，其原始材料是硅，在對晶圓進行加工處理的過程中，需要對晶圓的表面進行拋光工作，拋光結束后，表面會產生過多的雜質，需要進行清洗。

2、在公開號為cn220474584u的中國專利中，提到了一種晶圓拋光清洗裝置，該專利的設備可通過收納方形水管上等間距分布的沖洗噴頭，方便后續對沖洗噴頭下方擺放的晶圓進行沖洗清理工作，同時收納方形水管通過組裝柱體在支撐軸體上的滑動可進行移動，可進行大面積的沖洗，提高清理效率；

3、但是該專利的設備只能對晶圓進行清洗，晶圓被沖洗后，晶圓表面會殘留有水漬，該設備并不能對晶圓進行烘干，功能性單一，晶圓自然風干時間較長，工作效率較低。

技術實現思路

1、本實用新型的目的在于提供一種晶圓清洗拋光裝置，以解決現有技術中設備不能對晶圓進行烘干，功能性單一，晶圓自然風干時間較長，工作效率較低的問題。

2、為實現上述目的，本實用新型提供如下技術方案：

3、一種晶圓清洗拋光裝置，包括兩個底座，兩個所述底座上均滑動連接有支架，兩個所述支架的側面均轉動安裝有轉軸，兩個所述轉軸之間固定連接有沖洗面板，所述沖洗面板的底部設置有多個噴頭，且沖洗面板的頂部設置有烘干機構，其中一個所述支架上設置有用于帶動沖洗面板反正的翻轉機構。

4、優選的，所述翻轉機構包括電機二，所述電機二固定安裝于其中一個支架的一側，所述翻轉機構的輸出端固定連接有同步輪二，其中一個所述轉軸的端部穿過支架固定連接有同步輪三，所述同步輪二和同步輪三的外部共同設置有同步帶二，且同步輪二和同步輪三均轉動安裝于支架的側面。

5、優選的，所述烘干機構包括框架，所述框架固定安裝于沖洗面板的頂部，且框架的內部固定連接有固定板，所述固定板的頂部轉動安裝有多個風扇，所述框架的頂部固定安裝有加熱絲。

6、優選的，所述固定板的底部固定安裝有電機一，所述電機一的輸出端與其中一個風扇的軸心固定連接。

7、優選的，多個所述風扇的外部均固定套設有同步輪一，多個同步輪一的外部共同設置有同步帶一。

8、優選的，其中一個所述底座的一側固定安裝有電機三，所述電機三的輸出端固定連接有螺紋桿，所述螺紋桿轉動安裝于底座上，另一個所述底座上固定安裝有滑桿。

9、優選的，其中一個所述支架螺紋連接于螺紋桿外部，另一個所述支架滑動套設于滑桿外部。

10、與現有技術相比，本實用新型的有益效果是：

11、本實用新型通過設置沖洗面板和烘干機構，不僅可以對晶圓進行清洗，還可以在清洗完成后，通過翻轉機構調整沖洗面板和烘干機構的位置，實用烘干機構對晶圓進行烘干，加快晶圓的干燥速度，使設備功能性多樣化，提高工作效率。

技術特征：

1.一種晶圓清洗拋光裝置，包括兩個底座(1)，其特征在于：兩個所述底座(1)上均滑動連接有支架(2)，兩個所述支架(2)的側面均轉動安裝有轉軸(3)，兩個所述轉軸(3)之間固定連接有沖洗面板(4)，所述沖洗面板(4)的底部設置有多個噴頭(6)，且沖洗面板(4)的頂部設置有烘干機構(5)，其中一個所述支架(2)上設置有用于帶動沖洗面板(4)反正的翻轉機構(7)。

2.根據權利要求1所述的一種晶圓清洗拋光裝置，其特征在于：所述翻轉機構(7)包括電機二(71)，所述電機二(71)固定安裝于其中一個支架(2)的一側，所述翻轉機構(7)的輸出端固定連接有同步輪二(72)，其中一個所述轉軸(3)的端部穿過支架(2)固定連接有同步輪三(73)，所述同步輪二(72)和同步輪三(73)的外部共同設置有同步帶二(74)，且同步輪二(72)和同步輪三(73)均轉動安裝于支架(2)的側面。

3.根據權利要求1所述的一種晶圓清洗拋光裝置，其特征在于：所述烘干機構(5)包括框架(51)，所述框架(51)固定安裝于沖洗面板(4)的頂部，且框架(51)的內部固定連接有固定板(52)，所述固定板(52)的頂部轉動安裝有多個風扇(53)，所述框架(51)的頂部固定安裝有加熱絲(57)。

4.根據權利要求3所述的一種晶圓清洗拋光裝置，其特征在于：所述固定板(52)的底部固定安裝有電機一(56)，所述電機一(56)的輸出端與其中一個風扇(53)的軸心固定連接。

5.根據權利要求3所述的一種晶圓清洗拋光裝置，其特征在于：多個所述風扇(53)的外部均固定套設有同步輪一(54)，多個同步輪一(54)的外部共同設置有同步帶一(55)。

6.根據權利要求1所述的一種晶圓清洗拋光裝置，其特征在于：其中一個所述底座(1)的一側固定安裝有電機三(8)，所述電機三(8)的輸出端固定連接有螺紋桿(9)，所述螺紋桿(9)轉動安裝于底座(1)上，另一個所述底座(1)上固定安裝有滑桿(10)。

7.根據權利要求6所述的一種晶圓清洗拋光裝置，其特征在于：其中一個所述支架(2)螺紋連接于螺紋桿(9)外部，另一個所述支架(2)滑動套設于滑桿(10)外部。

技術總結
本技術涉及晶圓加工技術領域，具體公開了一種晶圓清洗拋光裝置，包括兩個底座，兩個所述底座上均滑動連接有支架，兩個所述支架的側面均轉動安裝有轉軸，兩個所述轉軸之間固定連接有沖洗面板，所述沖洗面板的底部設置有多個噴頭，且沖洗面板的頂部設置有烘干機構，其中一個所述支架上設置有用于帶動沖洗面板反正的翻轉機構，所述翻轉機構包括電機二，所述電機二固定安裝于其中一個支架的一側；本技術通過設置沖洗面板和烘干機構，不僅可以對晶圓進行清洗，還可以在清洗完成后，通過翻轉機構調整沖洗面板和烘干機構的位置，實用烘干機構對晶圓進行烘干，加快晶圓的干燥速度，使設備功能性多樣化，提高工作效率。

技術研發人員：王蜀豫
受保護的技術使用者：中闥貿易（上海）有限公司
技術研發日：20240325
技術公布日：2025/4/28