本技術涉及半導體制造，特別涉及一種用于真空立式爐管的晶圓運動裝置。

背景技術：

1、在半導體制造技術領域，低壓化學氣相沉積(lp-cvd)是一種廣泛使用的制程技術，用于在硅片等基板上沉積各種薄膜。在此過程中，需要使用基于真空技術的加工設備來控制薄膜的均勻性和質量。在這些真空設備中，需要使用到大量的精密機械部件，其中晶圓運動裝置就是一種重要的設備，它的作用是將晶圓在各個加工工位之間進行精確的移動和定位。

2、現有技術的解決方案：在現有的技術中，晶圓運動裝置通常采用電機或者氣缸作為動力源，通過齒輪、絲杠等傳動機構將動力傳遞給執行機構，從而實現晶圓的升降和旋轉運動。因此，如何在真空環境中實現晶圓的精確運動控制，以及如何防止運動部件產生的微粒對真空環境中的晶圓造成污染，是現有技術需要解決的重要問題。

3、現有技術問題：盡管現有的晶圓運動裝置在一定程度上滿足了半導體制造的需求，但是，它們在實際應用中還存在一些問題。首先，晶圓運動裝置需要在真空環境中工作，這使得運動部件的潤滑和冷卻變得困難，容易導致運動精度下降。其次，運動部件在運動過程中會產生微粒，而相比于大氣壓環境，這些微粒在真空環境中更易擴散，從而更易影響到晶圓的質量，針對以上問題以下提出一種解決方案。

技術實現思路

1、本實用新型的目的是提供一種用于真空立式爐管的晶圓運動裝置，解決了上述背景技術所提出的如何在真空環境中實現精確的運動控制和防止運動部件產生的微粒對真空環境中的晶圓造成污染的技術問題。

2、本實用新型的上述技術目的是通過以下技術方案得以實現的：

3、一種用于真空立式爐管的晶圓運動裝置，包括晶圓運動裝置、立式爐、晶舟、真空腔體和提升軸組件，所述立式爐底面與真空腔體上表面抵接配合，所述真空腔體側上方安裝有提升機構，所述提升機構上設有滑動組件，所述提升軸組件固定于提升機構的滑動組件上，所述提升軸組件下端固定有旋轉機構，所述旋轉機構整體位于真空腔體的內部，所述提升軸組件包括提升軸，所述提升軸上套設有滾珠軸承，所述滾珠軸承與所述真空腔體抵接配合。

4、作為優選，所述提升機構包括滾珠絲杠和支撐架，所述滾珠絲杠安裝在支撐架的中心位置，所述支撐架上還安裝有兩滑軌，所述滑軌分別位于所述滾珠絲杠的兩側，所述滑動組件套設于滾珠絲杠和兩個滑軌上，所述支撐架上還固定有聯軸器支撐架，所述滾珠絲杠的下端連接有聯軸器，所述聯軸器固定在聯軸器支撐架內，所述聯軸器支撐架下方固定有第一減速器，所述第一減速器與所述聯軸器的下端連接，所述第一減速器的下方安裝有第一電機，所述第一電機與所述第一減速器連接。

5、作為優選，所述支撐架的一端連接有拖鏈，所述拖鏈的另一端與所述滑動組件連接。

6、作為優選，所述旋轉機構包括支撐座和密封盤，所述支撐座固定在提升軸的下端，所述密封盤固定在支撐座的上方，所述支撐座上開設有支撐座腔，所述密封盤的下方安裝有第二減速器，所述第二減速器設置在支撐座腔內，所述支撐座腔內還安裝有第二電機，所述第二電機橫向固定在第二減速器上，所述密封盤上方還轉動設置有旋轉盤，所述旋轉盤的中心軸穿過所述密封盤且與所述第二減速器連接。

7、作為優選，所述提升軸采用中空軸，所述提升軸內部為提升抽腔，所述提升軸腔與所述支撐座腔相連通。

8、作為優選，所述旋轉機構中的各線路均通過支撐座腔與提升軸腔通向真空腔體的外部。

9、有益效果：1、本發明通過將提升機構掛裝于真空腔體側上方，旋轉機構驅動部件設置于安裝座內部，提升機構與旋轉機構由中空軸連接，實現了驅動部件與真空腔體內部空間的隔絕，有效防止了驅動部件產生的微粒污染，保證了真空環境的清潔度，從而提高了晶圓的質量。2、本發明通過中空的結構，實現了各線路與外部的連接，便于設備的布線和維護。3、通過優化的設計，使得設備的結構更加緊湊，占用的空間更小，從而降低了設備的制造成本，同時也方便了設備的安裝和維護。

技術特征：

1.一種用于真空立式爐管的晶圓運動裝置，包括晶圓運動裝置(001)、立式爐(002)、晶舟(003)、真空腔體(004)和提升軸組件(2)，其特征在于，所述立式爐(002)底面與真空腔體(004)上表面抵接配合，所述真空腔體(004)側上方安裝有提升機構(1)，所述提升機構(1)上設有滑動組件(109)，所述提升軸組件(2)固定于提升機構(1)的滑動組件(109)上，所述提升軸組件(2)下端固定有旋轉機構(3)，所述旋轉機構(3)整體位于真空腔體(004)的內部，所述提升軸組件(2)包括提升軸(201)，所述提升軸(201)上套設有滾珠軸承(202)，所述滾珠軸承(202)與所述真空腔體(004)抵接配合。

2.根據權利要求1所述的一種用于真空立式爐管的晶圓運動裝置，其特征在于，所述提升機構(1)包括滾珠絲杠(104)和支撐架(108)，所述滾珠絲杠(104)安裝在支撐架(108)的中心位置，所述支撐架(108)上還安裝有兩滑軌(107)，所述滑軌(107)分別位于所述滾珠絲杠(104)的兩側，所述滑動組件(109)套設于滾珠絲杠(104)和兩個滑軌(107)上，所述支撐架(108)上還固定有聯軸器支撐架(110)，所述滾珠絲杠(104)的下端連接有聯軸器(103)，所述聯軸器(103)固定在聯軸器支撐架(110)內，所述聯軸器支撐架(110)下方固定有第一減速器(102)，所述第一減速器(102)與所述聯軸器(103)的下端連接，所述第一減速器(102)的下方安裝有第一電機(101)，所述第一電機(101)與所述第一減速器(102)連接。

3.根據權利要求2所述的一種用于真空立式爐管的晶圓運動裝置，其特征在于，所述支撐架(108)的一端連接有拖鏈(106)，所述拖鏈(106)的另一端與所述滑動組件(109)連接。

4.根據權利要求1所述的一種用于真空立式爐管的晶圓運動裝置，其特征在于，所述旋轉機構(3)包括支撐座(305)和密封盤(304)，所述支撐座(305)固定在提升軸(201)的下端，所述密封盤(304)固定在支撐座(305)的上方，所述支撐座(305)上開設有支撐座腔(306)，所述密封盤(304)的下方安裝有第二減速器(302)，所述第二減速器(302)設置在支撐座腔(306)內，所述支撐座腔(306)內還安裝有第二電機(301)，所述第二電機(301)橫向固定在第二減速器(302)上，所述密封盤(304)上方還轉動設置有旋轉盤(303)，所述旋轉盤(303)的中心軸穿過所述密封盤(304)且與所述第二減速器(302)連接。

5.根據權利要求4所述的一種用于真空立式爐管的晶圓運動裝置，其特征在于，所述提升軸(201)采用中空軸，所述提升軸(201)內部為提升軸腔(203)，所述提升軸腔(203)與所述支撐座腔(306)相連通。

6.根據權利要求5所述的一種用于真空立式爐管的晶圓運動裝置，其特征在于，所述旋轉機構(3)中的各線路均通過支撐座腔(306)與提升軸腔(203)通向真空腔體(004)的外部。

技術總結
本技術公開了一種用于真空立式爐管的晶圓運動裝置，包括晶圓運動裝置、立式爐、晶舟、真空腔體，所述立式爐底面與真空腔體上表面抵接配合，所述真空腔體側上方安裝有提升機構，所述提升機構上設有滑動組件，所述提升軸組件固定于提升機構的滑動組件上，所述提升軸組件下端固定有旋轉機構，所述旋轉機構整體位于真空腔體的內部，所述提升軸組件包括提升軸，所述提升軸上套設有滾珠軸承，所述滾珠軸承與所述真空腔體抵接配合，解決了如何在真空環境中實現精確的運動控制和防止運動部件產生的微粒對真空環境中的晶圓造成污染的技術問題。

技術研發人員：段琦琪,邵大立,齊彪,史皓然,李浩源,劉子嬋,陸淋康,魏靜儀
受保護的技術使用者：杭州星原馳半導體有限公司
技術研發日：20240717
技術公布日：2025/4/28