本技術涉及烹飪器具，具體而言涉及一種電磁加熱烹飪器具。

背景技術：

1、現有的ih電飯煲，為了實現烹飪時食材的立體加熱效果和實現激蕩復雜的強烈對流加熱效果，在盤線架設置多個獨立控制的盤狀繞線，通過不同部位盤狀繞線的獨立控制加熱，使鍋內產生的熱態區域及冷態區域位置可變，即在不同的烹飪時間段可形成不同的冷熱態區域對流方向，從而能產生出不止一種熱對流翻滾狀態，從而實現內膽內部激蕩復雜的強烈對流加熱效果。由于設置多個獨立加熱盤狀繞線，盤狀繞線布置難度高，繞法復雜，要求繞線工藝高，并且導致磁條和磁條架結構工藝復雜，裝配難度大，總體成本高。此外為了激蕩出發復雜的強烈對流加熱效果，設置多組獨立控制的盤狀繞線，即需要設置多組獨立供電控制模塊，所以也增加了一部分電控成本。而且，盤狀繞線加熱位置固定，加熱區域受限，米飯效果不理想。

2、因此，需要一種電磁加熱烹飪器具以至少部分地解決以上問題。

技術實現思路

1、在
技術實現要素：
部分中引入了一系列簡化形式的概念，這將在具體實施方式部分中進一步詳細說明。本技術的實用新型內容部分并不意味著要試圖限定出所要求保護的技術方案的關鍵特征和必要技術特征，更不意味著試圖確定所要求保護的技術方案的保護范圍。

2、為至少部分地解決上述問題，本技術提供了一種電磁加熱烹飪器具，其包括：

3、線盤組件，所述線盤組件包括至少一個盤狀繞線，所述盤狀繞線用于在通電后產生交變磁場，所述線盤組件具有線盤組件中心軸線，所述線盤組件構造為使得所述交變磁場的磁場強度沿所述線盤組件的周向方向為非均勻分布；和

4、烹飪容器，用于盛放食材，所述烹飪容器具有烹飪容器中心軸線，所述烹飪容器包括鐵磁性材料，并且所述烹飪容器整體上呈以所述烹飪容器中心軸線為軸線的回轉體形狀，所述烹飪容器與所述線盤組件可分離地設置在所述線盤組件的可磁感應區域內，所述烹飪容器中心軸線與所述線盤組件中心軸線基本重合，

5、其中，所述電磁加熱烹飪器具構造為，所述烹飪容器可圍繞所述烹飪容器中心軸線相對于所述線盤組件轉動，或者所述線盤組件的至少部分可圍繞所述線盤組件中心軸線相對于所述烹飪容器轉動。

6、根據本技術，線盤組件可以提供沿周向非均勻分布的磁場，并使該磁場與烹飪容器相對轉動，從而使烹飪容器的受熱部位在烹飪容器上轉動，通過轉動加熱的方式使烹飪容器均勻受熱。同時，烹飪容器內部的對流方向轉動，食材可以均勻、充分翻滾，提升了烹飪質量。

7、可選地，

8、所述線盤組件包括一個所述盤狀繞線，所述盤狀繞線的繞線中心與所述線盤組件中心軸線相偏離；或者

9、所述線盤組件包括至少兩個所述盤狀繞線，全部所述盤狀繞線沿所述線盤組件的周向方向相間隔設置。

10、根據本技術，通過使盤狀繞線的繞線中心與線盤組件中心軸線相偏離來提供沿周向方向非均勻分布的磁場。多個盤狀繞線間隔設置可以避免盤狀繞線間電磁自干擾，以及反壓大、感量底、加熱功率小、儲流大、加熱波形凌亂等問題。

11、可選地，所述線盤組件還包括盤線架，其設置在所述烹飪容器的一側，所述盤線架構造為圍繞所述線盤組件中心軸線可轉動，其中所述盤狀繞線設置在所述盤線架上。

12、根據本技術，盤狀繞線設置在盤線架，盤線架轉動，從而使磁場轉動。

13、可選地，所述盤狀繞線呈盤狀設置在所述盤線架上。

14、根據本技術，盤線架繞為盤狀，可以加大烹飪容器的受熱面積。

15、可選地，所述盤狀繞線與所述烹飪容器之間的距離為3mm至30mm。

16、根據本技術，使盤狀繞線與烹飪容器的距離在3mm-30mm之間，以解決由于距離太大所導致的盤狀繞線所產生的磁場覆蓋至烹飪容器的區域小、火力不足等問題；同時，也能夠解決由于盤狀繞線與烹飪容器之間的距離太小造成盤狀繞線發熱量大、能耗增加等問題。

17、可選地，所述線盤組件還包括導磁件，所述導磁件至少部分地沿所述交變磁場的磁力線延伸。

18、根據本技術，導磁件可以集焦磁場的磁力線，避免能量損失。

19、可選地，所述盤狀繞線圍繞所述線盤組件中心軸線盤繞，并形成以所述線盤組件中心軸線為軸線的輻射對稱的形狀。

20、進一步，所述線盤組件還包括盤體，所述盤體包括：

21、盤本體，所述盤本體具有幾何中心軸線，所述幾何中心軸線為所述線盤組件中心軸線，所述盤本體構造為圍繞所述線盤組件中心軸線相對于所述盤狀繞線可轉動；和

22、對應設置的至少一個第一區域和至少一個第二區域，所述第一區域和所述第二區域沿所述盤本體的周向方向交替設置在所述盤本體，所述第一區域包括與所述盤本體不同的介質，以使所述交變磁場在所述第一區域處的磁場強度與在所述第二區域處的磁場強度不同。

23、根據本技術，盤狀繞線的繞線中心與線盤組件中心軸線重合，通過盤體的沿周向的非均勻結構實現磁場的沿周向的非均勻分布。

24、可選地，所述線盤組件還包括盤線架，所述盤線架用于設置在所述烹飪容器的一側，

25、其中，所述盤狀繞線圍繞所述線盤組件中心軸線盤繞在所述盤線架的表面，所述盤本體構造為圍繞所述線盤組件中心軸線相對于所述盤線架可轉動。

26、根據本技術，盤線架用于支撐盤狀繞線。

27、可選地，所述盤本體由導磁率小于等于10b/h的金屬材料制成，所述第一區域包括至少一個開孔，用于使所述交變磁場的磁力線通過。

28、根據本技術，盤體通過使其部分區域允許磁力線通過以形成非均勻分布的磁場。

29、可選地，

30、所述盤本體與所述盤狀繞線之間的距離為3.5mm至10mm；并且/或者

31、所述盤本體的厚度為0.4mm至2mm。

32、根據本技術，盤體與盤狀繞線之間的距離可以保證有足夠數量的磁力線通過盤體，盤體的厚度可以偏薄以節省成本。

33、可選地，

34、單個所述開孔的面積為28mm2到5024mm2；并且/或者

35、全部所述開孔的面積占所述盤本體的面積的10％至70％。

36、根據本技術，盤體的開孔可以靈活設置。

37、可選地，所述盤本體由第一材料制成，所述第一區域設置有至少一個磁力線聚攏件，所述磁力線聚攏件包括與所述第一材料不同的第二材料。

38、根據本技術，盤體通過材料的非均勻分布使得磁場非均勻分布。

39、可選地，所述第一材料為非導磁性材料或導磁率小于等于10b/h的金屬，所述第二材料為導磁率大于等于100b/h的金屬。

40、根據本技術，盤體通過使材料的導磁性不同使得磁場非均勻分布。

41、可選地，所述磁力線聚攏件通過以下連接結構中的至少一個與所述盤本體相連接：

42、所述磁力線聚攏件鑲嵌在所述盤本體中，

43、所述磁力線聚攏件貼附在所述盤本體的表面，和

44、所述磁力線聚攏件與所述盤本體卡合連接。

45、根據本技術，磁力線聚攏件的設置方式靈活。

46、可選地，

47、所述磁力線聚攏件與所述盤狀繞線的距離為1mm至15mm；并且/或者

48、所述磁力線聚攏件的厚度為2mm至10mm。

49、根據本技術，磁力線聚攏件與盤狀繞線的距離可靈活設置，磁力線聚攏件的厚度可靈活設置。

50、可選地，

51、單個所述磁力線聚攏件的面積為28mm2到5024mm2；并且/或者

52、全部所述磁力線聚攏件的面積占所述盤本體的面積的10％至70％。

53、根據本技術，磁力線聚攏件的面積可靈活設置。

54、可選地，所述第二區域設置有至少一個散熱孔。

55、根據本技術，散熱孔可以幫助盤狀繞線散熱。

56、可選地，在所述線盤組件的沿所述線盤組件中心軸線的延伸方向的投影中，所述盤狀繞線形成以所述線盤組件中心軸線為圓心的圓環區域或圓形區域。

57、根據本技術，盤狀繞線可以圍繞線盤組件中心軸線盤繞為圓形或圓環形，繞線簡單。

58、可選地，所述的電磁加熱烹飪器具還包括驅動裝置，所述驅動裝置連接至所述線盤組件，或者，所述驅動裝置連接至所述烹飪容器，用于驅動被連接的所述線盤組件或所述烹飪容器轉動。

59、根據本技術，驅動裝置用于使烹飪容器與磁場相對轉動。

60、可選地，所述驅動裝置包括：

61、驅動組件，用于提供驅動力；和

62、傳動組件，連接在所述驅動組件用于傳遞所述驅動力。

63、根據本技術，驅動裝置結構簡單。

64、可選地，

65、所述驅動組件配置為電機；并且/或者

66、所述電磁加熱烹飪器具還包括接地線，所述接地線的一端連接至所述驅動組件的外殼，所述接地線的另一端連接至所述電磁加熱烹飪器具的接地端。

67、根據本技術，驅動組件控制簡單、性能穩定、成本低廉。接地線有助于驅動組件抗電磁干擾。

68、可選地，所述驅動組件配置為電機，所述傳動組件至少包括：

69、第一傳動輪，與所述電機的輸出軸同軸連接，以在所述電機的驅動下轉動；和

70、第二傳動輪，與所述被連接的所述線盤組件或所述烹飪容器連接，并與所述第一傳動輪連接，

71、所述傳動組件構造為使得所述第二傳動輪在所述第一傳動輪的驅動下帶動所述被連接的所述線盤組件或所述烹飪容器同步轉動。

72、根據本技術，傳動組件結構簡單、性能穩定。

73、可選地，所述傳動組件由非金屬材料制成。

74、根據本技術，傳動組件可以抗電磁干擾。

75、可選地，所述的電磁加熱烹飪器具還包括隔磁罩，所述隔磁罩用于罩住所述驅動裝置的至少部分，以屏蔽所述交變磁場。

76、根據本技術，隔磁罩有助于驅動裝置抗電磁干擾。

77、可選地，所述的電磁加熱烹飪器具還包括接地線，所述接地線的一端連接至所述隔磁罩，所述接地線的另一端連接至所述電磁加熱烹飪器具的接地端。

78、根據本技術，接地線可以進一步提高驅動裝置的抗電磁干擾性能。

79、可選地，所述驅動裝置用于接觸所述烹飪容器的容器壁，以驅動所述烹飪容器圍繞所述烹飪容器中心軸線相對于所述線盤組件轉動。

80、進一步，所述驅動裝置包括：

81、電機，用于提供驅動力；和

82、摩擦輪，與所述電機的輸出軸同軸連接，以在所述電機的驅動下轉動，

83、其中，所述摩擦輪用于接觸所述烹飪容器的容器壁。

84、根據本技術，驅動裝置可以直接接觸烹飪容器并使其轉動。

85、可選地，所述電磁加熱烹飪器具為電飯煲、電壓力鍋、電燉鍋、電火鍋、電熱壺或電磁爐。

86、根據本技術，電磁加熱烹飪器具包括多種類型。

87、可選地，所述線盤組件構造為使得所述交變磁場沿所述線盤組件的周向方向具有交替分布的n個強磁區和n個弱磁區，其中，所述強磁區的磁場強度大于所述弱磁區的磁場強度，n個所述強磁區沿所述線盤組件的周向方向等間隔分布，n個所述弱磁區沿所述線盤組件的周向方向等間隔分布，n為大于等于1的整數。

88、根據本技術，交變磁場沿周向具有等間隔分布的n個強磁區，從而烹飪容器沿周向具有等間隔分布的n個受熱點，烹飪容器相對于磁場轉動±180/n度，即可使受熱點完全覆蓋整個烹飪容器，控制方式簡單。