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一種顯示面板及其制備方法、蒸鍍設備、顯示裝置與流程

文檔序號:41757198發布日期:2025-04-29 18:25閱讀:6來源:國知局
一種顯示面板及其制備方法、蒸鍍設備、顯示裝置與流程

本公開涉及顯示,尤其涉及一種顯示面板及其制備方法、蒸鍍設備、顯示裝置。


背景技術:

1、有機發光二極管(oled,organic?light-emitting?diode)是一種有機薄膜電致發光單元,其因具有制備工藝簡單、成本低、功耗小、亮度高、視角寬、對比度高及可實現柔性顯示等優點,而受到人們極大的關注并在電子顯示產品中得到廣泛應用。

2、然而,當前的電子顯示產品限于自身結構的設計,難以滿足用戶的需求。


技術實現思路

1、有鑒于此,本公開的目的在于提出一種顯示面板及其制備方法、蒸鍍設備、顯示裝置,該顯示面板能夠降低側向漏電的風險,改善低灰階混色現象。

2、基于上述目的,本公開第一方面揭示一種顯示面板,該顯示面板包括:

3、基板;

4、隔離結構,位于所述基板的一側,所述隔離結構包括疊層設置的冠部和支撐部,所述冠部位于所述支撐部的遠離所述基板的一側,所述支撐部在所述基板上的正投影位于所述冠部在所述基板上的正投影范圍內;

5、至少一個發光單元,與所述隔離結構在所述基板的同一側,所述發光的單元包括第一功能層,所述第一功能層包括膜厚下降區;

6、沿與所述基板所在面垂直的方向,所述支撐部遠離所述基板的一端與所述支撐部靠近所述基板的一端之間的距離為第一高度,沿與所述基板所在的面平行且從所述發光單元指向所述隔離結構的方向,所述膜厚下降區的寬度為第一寬度,所述第一寬度小于或等于1.3倍所述第一高度;

7、所述顯示面板具有多個經過所述發光單元的中心且垂直于所述基板所在面的切面,在任意一個所述切面內,所述支撐部靠近所述基板的一側的邊緣與所述冠部的邊緣所確定的第一直線,與所述基板所在面構成的夾角為第三夾角,所述第一功能層的邊緣與所述冠部的邊緣所確定的第二直線,與所述基板所在面構成的夾角為第四夾角,所述第四夾角大于所述第三夾角。

8、在一實施方式中,所述第一寬度大于或等于0.8倍所述第一高度。

9、在一實施方式中,沿所述第一功能層延伸且遠離所述發光單元的方向,所述膜厚下降區依次包括連續的第一膜層和第二膜層,所述第一膜層的最小膜厚等于所述第二膜層的最大膜厚,所述第一膜層的膜厚和所述第二膜層的膜厚沿所述第一功能層延伸且遠離所述發光單元的方向逐漸減小,且所述第一膜層背離所述基板的表面的切線與所述基板所在面的第一夾角大于所述第二膜層背離所述基板的表面的切線與所述基板所在平面的第二夾角;

10、優選地,所述第一夾角介于0°-90°;

11、優選地,所述第一夾角包括60°、70°、80°中的一個;

12、優選地,所述第二膜層遠離所述第一膜層一端的膜厚等于0;

13、優選地,所述第一寬度為所述第一膜層遠離所述第二膜層的邊緣至所述第二膜層遠離所述第一膜層的邊緣之間的距離。

14、在一實施方式中,所述第一功能層還包括膜厚平坦區,所述膜厚平坦區位于所述第一膜層遠離所述第二膜層的一側,且所述膜厚平坦區與所述第一膜層連續,沿與所述基板所在面垂直的方向,所述第一膜層的膜厚小于所述膜厚平坦區的膜厚。

15、在一實施方式中,所述隔離結構還包括冠部,所述冠部位于所述支撐部的遠離所述基板的一側,所述支撐部在所述基板上的正投影位于所述冠部在所述基板上的正投影范圍內;

16、沿與所述基板所在面垂直的方向,所述膜厚平坦區的膜厚為第一厚度,所述冠部的邊緣在所述第一膜層上的正投影點為第一投影點,所述第一膜層在第一投影點處的厚度為第二厚度,所述第二厚度小于或等于3/5倍的所述第一厚度,且大于或等于2/5倍的所述第一厚度。

17、在一實施方式中,所述發光單元還包括第二功能層,所述第一功能層包括第一子功能層,所述第一子功能層遠離所述基板的一側設有至少一層所述第二功能層;

18、優選地,所述第一子功能層包括空穴傳輸層;

19、優選地,所述第一功能層還包括第二子功能層,所述第二子功能層位于所述第一子功能層遠離所述基板的一側,所述第二子功能層與所述第一子功能層之間設有至少一層所述第二功能層,和/或,所述第二子功能層遠離所述基板的一側設有至少一層所述第二功能層;

20、優選地,所述第二子功能層包括發光材料層;

21、優選地,所述第一功能層的導電率大于所述第二功能層的導電率;

22、優選地,所述冠部的邊緣在所述第二功能層上的正投影點為第二投影點,沿與所述基板所在的面平行的方向,所述第二投影點與所述第二功能層的邊緣之間的距離為第二長度,所述第一投影點與第一功能層的邊緣之間的距離為第一長度,所述第二長度大于所述第一長度。

23、在一實施方式中,所述顯示面板還包括像素限定層,所述隔離結構位于所述像素限定層遠離所述基板的一側,所述像素限定層設有至少一個像素開口,所述發光單元位于所述像素開口內;

24、優選地,所述隔離結構圍合形成至少一個隔離開口,所述像素開口在所述基板的正投影位于所述隔離開口在所述基板的正投影內;

25、優選地,所述第一功能層延伸至所述像素開口與所述支撐部之間的位置,且位于所述像素限定層遠離所述基板的一側;

26、優選地,所述膜厚下降區位于所述像素開口與所述支撐部之間的位置;

27、優選地,部分所述膜厚平坦區位于所述像素開口與所述支撐部之間的位置。

28、在一實施方式中,所述第四夾角介于50°-70°,所述第三夾角與所述第四夾角之和小于90°;

29、優選地,所述第四夾角包括55°、60°、65°中的一個;

30、優選地,所述第四夾角為所述第二膜層遠離所述第一膜層的邊緣與所述冠部的邊緣所確定的第二直線,與所述基板所在面構成的夾角;

31、優選地,所述第一直線的長度等于所述支撐部靠近所述基板的一側的邊緣與所述冠部的邊緣之間的最短距離,所述第二直線的長度等于所述第二膜層遠離所述第一膜層的邊緣與所述冠部的邊緣之間的最短距離。

32、在一實施方式中,所述支撐部包括疊層設置的第一支撐層和第二支撐層,所述第二支撐層位于所述第一支撐層遠離所述基板的一側,所述第二支撐層在所述基板上的正投影位于所述第一支撐層在所述基板上的正投影范圍內,所述第一支撐層與所述第二支撐層均包括導電材料;

33、優選地,所述第一支撐層的邊緣為所述支撐部靠近所述基板的邊緣;

34、優選地,所述第一直線為所述第一支撐層的邊緣與所述冠部的邊緣所確定的直線;

35、優選地,所述第一支撐膜層與所述第二支撐膜層的材料不同;

36、優選地,所述第一支撐膜層包括鉬,所述第二支撐膜層包括鋁。

37、本公開第二方面提供一種顯示面板的制備方法,該制備方法如下步驟:

38、提供基板;

39、在基板一側制備支撐部;

40、在支撐部遠離所述基板的一側制備冠部,所述支撐部在所述基板上的正投影位于所述冠部在所述基板上的正投影范圍內;

41、在所述基板的同一側制備至少一個發光單元,所述發光單元包括第一功能層,且所述第一功能層向靠近所述支撐部的方向延伸;

42、其中,所述顯示面板具有多個經過所述發光單元的中心且垂直于所述基板所在面的切面,在任意一個所述切面內,所述支撐部靠近所述基板的一側的邊緣與所述冠部的邊緣所確定的第一直線,與所述基板所在面構成的夾角為第三夾角,所述第一功能層的邊緣與所述冠部的邊緣所確定的第二直線,與所述基板所在面構成的夾角為第四夾角,所述第四夾角大于所述第三夾角。

43、在一實施方式中,通過蒸鍍工藝在所述基板上形成第一功能層,所述第四夾角介于50°-70°;

44、優選地,所述第四夾角包括55°、60°、65°中的一個。

45、在一實施方式中,優選地,所述在基板一側制備支撐部之前,還包括:

46、在所述基板一側制備像素限定層;

47、對所述像素限定層進行圖形化形成至少一個像素開口;

48、優選地,所述在基板一側制備支撐部,包括:

49、在所述像素限定層遠離所述基板的一側制備所述支撐部;

50、優選地,所述在所述基板的同一側制備至少一個發光單元,包括:

51、在所述基板的同一側的所述至少一個像素開口中制備所述至少一個發光單元。

52、本公開第三方面提供一種蒸鍍設備,應用于上述所述的顯示面板的制備方法中所述第一功能層的制備,該蒸鍍設備包括;

53、坩堝,設有空腔,所述空腔用于容置蒸鍍材料;

54、蒸鍍源,位于所述坩堝的一側,所述蒸鍍源與所述坩堝連通;

55、角度限制組件,可拆卸設置于所述蒸鍍源的出口外圍,所述角度限制組件遠離所述蒸鍍源的一端具有蒸鍍孔,所述蒸鍍孔用于限制所述蒸鍍材料的蒸鍍范圍。

56、在一實施方式中,所述角度限定組件包括:

57、第一限位部,所述蒸鍍孔位于所述第一限位部的中心處;

58、第二限位部,位于所述第一限位部靠近所述蒸鍍源的一側,所述第二限位部具有與所述蒸鍍孔連通的第一通孔,所述第一通孔的孔徑大于所述蒸鍍孔的孔徑,所述第二限位部用于限制所述蒸鍍材料的擴散范圍;

59、優選地,所述蒸鍍孔的形狀包括圓形;

60、優選地,所述第一通孔在所述第一限位部上的正投影覆蓋所述蒸鍍孔;

61、優選地,沿所述蒸鍍源指向所述蒸鍍孔的方向上,所述第一通孔的孔徑逐漸增大;

62、優選地,所述蒸鍍源與所述蒸鍍孔邊緣的連線,與蒸鍍面之間形成的夾角為第四夾角,所述第四夾角介于50°-70°;

63、優選地,所述第四夾角包括55°、60°、65°中的一個。

64、本公開第四方面提供一種顯示裝置,該顯示裝置包括上述所述的顯示面板。

65、與現有技術相比,本公開中通過限定第一功能層中膜厚下降區的寬度小于1.3倍的支撐部的高度,使的第一功能層和隔離結構中的支撐部不接觸且兩者之間存在間隙,隔離結構完全隔斷第一功能層,避免發光單元的側向導漏電,提高顯示面板的低灰階光學性能。

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